使用N，N-二甲基丙烯酰胺（DMAA）和双丙烯酰胺（DAAm）作为DNA链延伸单体的DNA的PISA示意图。所得的DNA-聚合物纳米结构可以通过将功能性互补DNA序列与纳米结构的可用DNA末端杂交而进一步功能化。（b）在罗丹明6G-DNA水溶液（红色符号）和与罗丹明6G-DNA杂交的DNA-聚合物蠕虫（蓝色符号）的水溶液中测得的归一化FCS自相关曲线。实线表示与等式的对应拟合。S1，产生罗丹明6G-DNA（RH=1.6nm）和功能化的DNA-聚合物蠕虫（RH=115nm）的流体力学半径。通过液体原子力显微镜（AFM）从含Mg2+的1×TRIS-乙酸酯-EDTA（TAE）缓冲液中以4μM观察所得的纳米结构。当针对低聚合度（即DPn=50）时，形成了平均高度为12nm的球形胶束状结构。DMAA可以用作生产水溶性聚合物的单体。广州n-DMAA厂家
将C18烷基链接枝到N-[3-（二甲基氨基）丙基]甲基丙烯酰胺（DMAPMA）上得到疏水单体（DMAPMA-C18），C8接枝到纤维素纳米晶（CNC）表面得到疏水纤维素纳米晶（CNC-C8）。合成了CNC‐C8（或CNC）DPC水凝胶，使用N，N‐二甲基丙烯酰胺（DMAA）和DMAPMA-C18聚合形成个通过疏水相互作用物理交联的网络，CNC-C8和DMAPMA-C18之间的疏水相互作用，CNC-C8（或CNC）和DMAPMA之间的静电相互作用，以及CNC-C8（或CNC）和DMAc之间的氢键形成了第二个交联点。徐州n-DMAADMAA可以与水互溶，具有极强的吸湿性，适合做防雾涂层。
操作处置与储存，操作注意事项：密闭操作，注意通风。操作尽可能机械化、自动化。操作人员必须经过专门培训，严格遵守操作规程。建议操作人员佩戴自吸过滤式防毒面具（半面罩），戴化学安全防护眼镜，穿防毒物渗透工作服，戴橡胶耐油手套。远离火种、热源，工作场所严禁吸烟。使用防爆型的通风系统和设备。防止蒸气泄漏到工作场所空气中。避免与氧化剂、碱类、酸类接触。搬运时要轻装轻卸，防止包装及容器损坏。配备相应品种和数量的消防器材及泄漏应急处理设备。倒空的容器可能残留有害物。
阴离子型聚合物是国内外研究为、产品种类多的一类降失水剂。其共聚单体包括非离子和阴离子单体两大类。非离子单体主要包括:AM(丙烯酰胺)、NVP(N-乙烯基吡咯烷酮)、NNDMA(N,N-二甲基丙烯酰胺)、St(苯乙烯)、VI(乙烯咪唑)、VFA(乙烯甲酰胺)、VP(乙烯吡啶)、VMAA(N-甲基-N-乙烯基乙酰胺)等。这些单体中，AM易水解，所以在共聚物中含量不可太多;NNDMA引入了不易水解基团，耐高温性能明显增强，但这种单体价格昂贵，国内尚处于小试阶段。阴离子单体主要包括两类:一类是磺酸盐单体，如AMPS(2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸)、SS(苯乙烯磺酸盐)、VS(乙烯磺酸盐)、PS(丙烯磺酸盐);另一类是羧酸盐单体，如AA(丙烯酸)、MAA(甲基丙烯酸)、HEA(羟乙基丙烯酸)、IA(衣康酸)等。AMPS耐温耐盐能力强，聚合活性高，使用日益，国内已形成规模化生产。DMAA国内供应商？上海聚瑞实业有限公司。
魏锡文（重庆大学化学化工学院）等采用了AM、AA、MA(顺丁烯二酸酐)合成了三元共聚物阻垢剂。其防垢率随水温升高而降低,适于70℃水温防垢具有较好的防垢效果,当Ca2+浓度为200×10-6,投放量为10×10-6时,防垢率可达90%以上。赵东滨（北京大学化学与分子工程学院）等引入MAA、AA、AM进行三元共聚,使防垢剂在高温、高pH值和高Ca2+含量下防垢能力得到改善。产品对CaCO3垢和CaSO4垢均具有较强的防垢能力,并具用量低、作用时间持久的优点,特别是针对CaSO4垢,其防垢效果更好,抗温性,消耗量和作用时间都优于CaCO3垢的情况。二甲基丙烯酰胺可以通过乙烯基单体进行聚合反应来制备。深圳聚二甲基丙烯酰胺销售厂
DMAA可以用作生产特种颜料的原料。广州n-DMAA厂家
发展了一种新型合成方法来得到低分散度、高分子量的高度枝化聚合物，并且可以通过聚合后修饰调节端基的功能。该方法具体通过乙烯基单体和多乙烯基单体的RAFT共聚和随后的部分沉淀来实现。虽然得到的聚合物分子量很高，但其在酸性或碱性条件下的可降解性出色，可调节投料比来使得降解得到的线型聚合物的分子量低于肾清理的临界值。蕞后，该文章的策略不只局限于文中采用的二甲基丙烯酰胺单体，其他单体和聚合方法在理论上同样适用。广州n-DMAA厂家
