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去离子水基本参数
  • 品牌
  • 威立特
  • 产品名称
  • 去离子水
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 用途类别
  • 标准品
  • 产品性状
  • 液态
  • 化学式
  • H2O
  • 相对分子质量
  • 18
  • 有效成分含量
  • 100
  • 执行质量标准
  • GB/T11446.1-2013
  • 安全性及措施
  • 无毒无腐蚀性
  • 产品颜色
  • 无色
  • 包装规格
  • 25000
  • 厂家
  • 苏州威立特环保科技有限公司
  • CAS
  • 7732-18-5
  • 产地
  • 江苏
去离子水企业商机

鲎试剂复溶 用无热原的水按照鲎试剂说明书规定的体积准确复溶鲎试剂。一般是将鲎试剂小瓶轻轻振摇,使内容物充分溶解,复溶过程要小心操作,避免产生过多气泡,因为气泡可能会干扰后续的凝胶观察。 样品混合与孵育 取适量的纯化水样品(如 0.1 - 0.2mL)与复溶后的鲎试剂(如 0.1 - 0.2mL)混合在小试管中。使用移液器时要确保移液准确,并且将样品和试剂充分混匀,轻轻颠倒试管几次即可。 将混合后的试管放入预先设定为 37℃的恒温箱中进行孵育。孵育时间一般为 60 - 90 分钟,孵育过程中要保持恒温箱内温度稳定,避免频繁开门导致温度波动影响凝胶形成。在化学分析的滴定实验中,去离子水可提高滴定终点的准确性。上海去离子水制造业

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作为一种高纯度的水,在众多领域都有着至关重要的地位。它是通过离子交换树脂或其他先进的水处理技术,去除了水中几乎所有的离子杂质,如钙、镁、钠等阳离子以及氯、硫酸根等阴离子后得到的。与普通自来水相比,去离子水具有极低的电导率,这使得它在电子工业中成为不可或缺的材料。例如,在半导体制造过程中,哪怕是极其微小的离子杂质都可能影响芯片的性能和成品率,去离子水凭借其超高纯度,为芯片的精细加工提供了清洁无干扰的环境,有效保障了电子产品的质量和稳定性。在化学实验和分析领域,去离子水也是常用的溶剂和试剂稀释剂,其纯净的特性可以避免水中杂质与实验物质发生化学反应,从而确保实验结果的准确性和可靠性。制药行业同样对去离子水青睐有加,在药品生产过程中,从原料的清洗到药物制剂的配制,去离子水的使用有助于保证药品的纯度和安全性,防止因水中杂质而引发的药品质量问题。此外,在汽车电瓶的补充液、化妆品的生产等方面,去离子水也都发挥着重要作用,它以其的纯净品质,默默地为众多行业的高质量发展贡献着力量山东实验室去离子水商家在生物技术的基因芯片实验中,去离子水可保障实验准确性。

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动态显色法 原理:在鲎试剂中加入了特殊的显色底物,当内素与鲎试剂反应时,反应的酶会作用于显色底物,使其产生颜色变化。通过检测颜色变化的程度(一般是在特定波长下检测吸光度)来定量测定内素的含量,吸光度与内素浓度在一定范围内呈线性关系。 操作步骤: 先将鲎试剂(含显色底物)复溶,使用无热原的水按照说明进行操作。 将纯水样品与复溶后的试剂混合,放入到有比色功能的检测仪器(如酶标仪)对应的容器中。 在恒温条件下(通常为 37℃)反应一段时间后,在特定波长(如 405 - 410nm)下检测吸光度,然后根据标准曲线计算内素含量。 适用范围和局限性:动态显色法的灵敏度与动态浊度法相当,也具有较高的灵敏度,能够定量检测内素。它的优点是可以使用普通的酶标仪进行检测,设备相对较为普及。不过,它也容易受到样品颜色和其他可能干扰吸光度检测的因素的影响,并且需要准确的标准曲线来确保检测结果的准确性。

去离子水和蒸馏水主要有以下区别,用途方面。蒸馏水 在医疗领域,蒸馏水可用于一些医疗器械的清洗,如一些简单的手术器械的初步冲洗,因为它可以去除大部分的杂质,减少对器械的污染。 在化学实验中,对于一些对离子含量要求不是特别高,但需要无固体杂质的实验,蒸馏水也可以作为溶剂使用。例如,在一些定性的化学实验中,蒸馏水可以用来溶解一些固体试剂进行反应观察。 去离子水 在电子工业中,如半导体制造、电路板的清洗等,去离子水是必不可少的。因为电子元件对水中的离子杂质非常敏感,哪怕是微量的离子都可能导致元件性能下降或损坏。 在制药行业,对于一些高精度的药品生产,如注射剂的配制,去离子水的使用可以确保药品的质量和安全性,防止因水中离子引起的药物不良反应。去离子水的生产需严格监控水质参数,确保离子去除效果。

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制药行业 在制药行业,对于注射用水和纯化水,TOC 含量要求极为严格。因为有机碳杂质可能会影响药品质量和安全性。例如,在注射剂的生产中,水中过高的 TOC 含量可能会与药物成分发生反应,或者作为微生物生长的营养源,引发药品污染。所以,制药行业通常要求注射用水的 TOC 含量不超过 500μg/L,纯化水的 TOC 含量不超过 5mg/L。这些严格的标准是为了确保药品的纯度和稳定性,符合药品生产质量管理规范(GMP)的要求。 电子工业(半导体制造等) 半导体制造过程对纯度要求极高,水是半导体制造过程中清洗和蚀刻等步骤的关键材料。即使微量的有机碳杂质也可能导致芯片缺陷。例如,在光刻过程中,水中的有机碳可能会吸附在硅片表面,影响光刻精度。因此,电子工业中使用的超纯水要求 TOC 含量一般低于 1 - 10μg/L,以满足高精度芯片制造的需要。其电导率稳定在较低,体现出水中离子杂质已大量去除。上海去离子水制造业

其在光学镜片镀膜工艺中,可保证镀膜的均匀性与附着力。上海去离子水制造业

原理:利用水和热源物质(主要是细菌内素等)沸点的差异来分离。水在标准大气压下沸点是 100℃,而内素等热源物质通常是一些大分子有机化合物,其沸点相对较高,在水沸腾汽化后,蒸汽中基本不含有热源物质,将蒸汽冷却凝结得到的蒸馏水热源含量就会降低。 操作要点:需要使用高质量的蒸馏设备,例如采用石英材质的蒸馏容器,因为石英具有良好的化学稳定性和热稳定性,能减少在蒸馏过程中可能引入的杂质。同时,要控制好蒸馏速度,避免液体暴沸。可以添加一些防暴沸的材料,如沸石,并且要确保整个蒸馏系统的密封性,防止外界的污染源进入。在蒸馏过程中,还可以进行多次蒸馏来进一步降低热源含量,例如二次蒸馏或三次蒸馏,每一次蒸馏都能去除一部分残留的热源物质。上海去离子水制造业

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