光刻胶的去除在IC制造工艺流程中占非常重要的地位，其成本约占IC制造工艺的20-30%，光刻胶去胶效果太弱影响生产效率，去胶效果太强容易造成基底损伤，影响整个产品的成品率。传统主流去胶方法采用湿法去胶，成本低效率高，但随着技术不断选代更新，越来越多IC制造商开始采用干法式去胶，干法式去胶工艺不同于传统的湿法式去胶工艺，它不需要浸泡化学溶剂，也不用烘干，去胶过程更容易控制，避免过多算上基底，提高产品成品率。干法式去胶又被称为等离子去胶，其原理同等离子清洗类似，主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶，由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物，在射频或微波作用下，氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通过泵被真空抽走，完成光刻胶的去除。等离子物理去胶过程:主要是物理作用对清洗物件进行轰击达到去胶的目的，主要的气体为氧气、氩气等，通过射频产生氧离子，轰击清洗物件，以获得表面光滑的较大化，并且结果是亲水性增大。等离子体（plasma）是由自由电子和带电离子为主要成分的物资状态，被称为物资的第四态。吉林国产等离子清洗机功能
等离子清洗机在大规模集成电路和分立器件行业中的应用在大规模集成电路和分立器件行业中，等离子体清洗一般应用于以下几个关键步骤中：1、去胶，用氧的等离子体对硅片进行处理，去除光刻胶；2、金属化前器件衬底的等离子体清洗；3、混合电路粘片前的等离子体清洗；4、键合前的等离子体清洗；5、金属化陶瓷管封帽前的等离子体清洗。例如，在一个COB基板上，在SMT元件粘接好后进行IC芯片的引线键合。在表面安装元件粘接后，会有大量的助焊剂污染物和水残余，而为了在PCB基板上可靠地进行引线键合，这些必须去除。福建低温等离子清洗机生产企业大气等离子清洗机：大气压环境下进行表面处理，解决产品表面污染物，使用方便，还能搭配流水线进行工作。
等离子处理机的应用领域：它具有广泛的应用领域，主要包括以下几个方面：表面处理：可以用于金属、陶瓷、塑料等材料的清洗、去污、活化、刻蚀等表面处理过程，提高材料的表面性能。材料改性：可以用于金属材料的渗碳、渗氮、渗硼等表面改性过程，提高金属材料的耐磨性、耐腐蚀性等性能。半导体制造：在半导体制造过程中具有重要作用，如晶圆清洗、薄膜沉积、光刻胶去除等过程都需要使用等离子处理机。微电子封装：可以用于微电子封装过程中的金属焊盘活化、绝缘层刻蚀等过程，提高封装器件的性能和可靠性。生物医学：可以用于生物医学领域的生物材料表面改性、细胞培养基制备等过程，提高生物材料的性能和生物相容性。
在电子电路行业中，PCB作为电子产品的主要部件，其表面粘附性对产品的性能有着直接影响。通过等离子处理，可以提高锡膏与PCB之间的粘附力。有助于确保锡膏印刷的均匀性和稳定性，提高电子产品的可靠性和稳定性。在PCBA涂敷三防漆前处理中，等离子技术也发挥着关键作用。三防漆是一种具有防潮、防尘和防霉功能的涂料，广泛应用于电子设备的保护。通过真空等离子处理，可以提高线路板表面润湿性能，有效去除表面有机污染物，增强线路板表面贴合力，提升三防漆涂覆质量。线性等离子清洗机适应多种材料，能够解决薄膜表面处理的难题，是处理薄膜等扁平且较宽材料的不错的设备。
等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。金手指是指液晶屏与电路板或其他器件之间进行电气连接的重要部分。通过金手指的邦定，液晶屏能够接收到来自电路板的信号和数据，实现图像的显示和控制。在邦定前通过真空等离子处理可以有效提高其表面能，增强附着性，有利于减少虚焊、脱焊等问题，提高金手指与液晶屏或其他连接器件之间的连接强度，从而提升连接的可靠性。等离子清洗机对所处理的材料无严格要求，无论是金属、半导体、氧化物，都能进行良好的处理。山西晶圆等离子清洗机服务电话
等离子体在处理固体物质的时候，会与固体物质发生两种发应：物理反应、化学反应。吉林国产等离子清洗机功能
plasma等离子清洗机原理将产品放入反应腔体内部，启动设备，真空泵将开始抽气，腔体内部气压下降，同时维持放应真空度；启动等离子发生器，腔体内部电极间生产高压交变电场，工艺气体放应生成等离子体；等离子体与物体表面污染物碰撞、反应，生产挥发性物质，被真空泵抽走，从而达到清洁活化的目标。plasma等离子清洗机优势：1、反应过程无需水参与，避免湿法工艺处理后，需要干燥处理的麻烦；2、无需湿法工艺处理后，废水、废弃溶剂的处理，降低了成本；3、表面处理效果强，清洗的同时还能表面活化改性，提高粘合力；4、处理过程短，整个过程反应高效快捷，解决表面处理难题；吉林国产等离子清洗机功能
