RPS基本参数
  • 品牌
  • 晟鼎精密
  • 型号
  • SPR-08
  • 用途
  • 工业用
  • 清洗方式
  • 远程等离子
  • 外形尺寸
  • 467*241*270
  • 产地
  • 广东
  • 厂家
  • 晟鼎
  • 制程气体
  • NF3、O₂、CF4
  • 点火气体/流量/压力
  • 氩气(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
  • 制程气体流量
  • 8NF3sLm
  • 工作气压
  • 1-10torr
  • 离化率
  • ≥95%
  • 进水温度
  • 30℃
RPS企业商机

RPS远程等离子源应用领域在半导体前道制程中尤为关键,特别是在高级 逻辑芯片和存储芯片的晶圆清洗环节。随着技术节点向5纳米乃至更小尺寸迈进,任何微小的污染和物理损伤都可能导致器件失效。传统的湿法清洗或直接等离子体清洗难以避免图案倾倒、关键尺寸改变或材料损伤等问题。而RPS远程等离子源通过物理分离等离子体产生区与处理区,只将高活性的氧自由基、氢自由基等中性粒子输送到晶圆表面,能够在不施加物理轰击的情况下,高效去除光刻胶残留、有机污染物和金属氧化物。这种温和的非接触式处理方式,能将对脆弱的FinFET结构或栅极氧化层的损伤降至比较低,确保了器件的电学性能和良率。因此,在先进制程的预扩散清洗、预栅极清洗以及刻蚀后残留物去除等关键步骤中,RPS远程等离子源应用领域已成为不可或缺的工艺选择,为摩尔定律的持续推进提供了可靠的表面处理保障。远程等离子体源RPS可以被集成到真空处理系统中,使得表面处理和材料改性的工艺更加灵活和高效。上海半导体RPS哪个好

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在PERC、TOPCon等高效晶硅太阳能电池的制造工艺中,表面钝化质量是决定电池转换效率的主要 因素之一。RPS远程等离子源应用领域深入到这一绿色能源产业的关键环节。在沉积氧化铝(Al2O3)或氮化硅(SiNx)钝化层之前,使用RPS对硅片表面进行精密清洗,可以去除原生氧化物和金属污染物,为高质量钝化界面的形成奠定基础。更重要的是,RPS技术本身可以直接用于沉积高质量的氮化硅或氧化硅薄膜,其远程等离子体特性使得薄膜内的离子轰击损伤极小,氢含量和膜质得到精确控制,从而获得极低的表面复合速率。此外,在HJT异质结电池中,RPS可用于对非晶硅层进行表面处理,优化其与TCO薄膜的接触界面,降低接触电阻,各方面 地提升光伏电池的开路电压和填充因子,终实现转换效率的跃升。山东推荐RPS原理为半导体设备腔室提供高效在线清洁解决方案。

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三维NAND闪存堆叠层数的不断增加,对刻蚀后高深宽比结构的清洗带来了巨大挑战。其深孔或深沟槽底部的刻蚀残留物(如聚合物)若不能彻底清理 ,将严重影响后续多晶硅或钨填充的质量,导致电荷陷阱和器件性能劣化。在此RPS远程等离子源应用领域展现出其独特优势。由于等离子体在远程生成,其主要产物是电中性的自由基,这些自由基具有较好的扩散能力,能够无阻碍地深入深宽比超过60:1的结构底部,与残留物发生化学反应并将其转化为挥发性气体排出。相较于直接等离子体,RPS技术避免了因离子鞘层效应导致的清洗不均匀问题,确保了从结构顶部到底部的均匀清洁,且不会因离子轰击造成结构侧壁的物理损伤。这使得RPS远程等离子源应用领域成为3D NAND制造中实现高良率、高可靠性的主要 技术之一。

随着3D NAND堆叠层数突破500层,深孔刻蚀后的残留物清洗成为技术瓶颈。RPS远程等离子源利用其优异的自由基扩散能力,可有效清理 深宽比超过60:1结构底部的聚合物残留。通过优化远程等离子体参数,在保持刻蚀选择比大于100:1的同时,将晶圆损伤深度控制在2nm以内。某存储芯片制造商在引入RPS远程等离子源后,将深孔清洗工序的良品率从87%提升至96%,单 wafer 处理成本降低30%。RPS远程等离子源在化合物半导体工艺中的优势在GaN、SiC等宽禁带半导体制造中,RPS远程等离子源展现出独特价值。其低温处理特性(<150℃)有效避免了化合物材料的热分解风险。通过采用Cl2/BCl3混合气体的远程等离子体刻蚀,实现了GaN材料的各向异性刻蚀,侧壁垂直度达89±1°。在HEMT器件制造中,RPS远程等离子源将界面态密度控制在1010/cm²·eV量级,明显 提升了器件跨导和截止频率。为催化材料研究提供可控表面改性平台。

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RPS远程等离子源在医疗器械制造中的洁净保障在手术机器人精密零件清洗中,RPS远程等离子源采用特殊气体配方,将生物相容性提升至ISO10993标准。通过O2/H2O远程等离子体处理,将不锈钢表面细菌附着率降低99.9%。在植入式医疗器械制造中,RPS远程等离子源实现的表面洁净度达到ISO14644-1Class4级别,确保器件通过EC认证要求。RPS远程等离子源在新能源电池制造中的创新工艺在固态电池制造中,RPS远程等离子源通过Li/Ar远程等离子体活化电解质界面,将界面阻抗从1000Ω·cm²降至50Ω·cm²。在锂箔处理中,采用CF4/O2远程等离子体生成人工SEI膜,将循环寿命提升至1000次以上。量产数据显示,采用RPS远程等离子源处理的固态电池,能量密度达500Wh/kg,倍率性能提升3倍。用于太赫兹器件的超精密清洗。湖北远程等离子源RPS石墨舟处理

用于光伏PERC电池的背钝化层沉积前表面活化。上海半导体RPS哪个好

光伏产业中的薄膜沉积工艺(如硅基CVD)同样面临腔室污染问题。残留膜层会干扰沉积均匀性,影响太阳能电池的转换效率。RPS远程等离子源提供了一种高效的清洁解决方案,利用氧基或氟基自由基快速分解污染物,恢复腔室洁净状态。其远程设计避免了等离子体直接暴露于敏感涂层,确保了工艺安全。此外,RPS远程等离子源的高能效特性有助于降低整体能耗,符合绿色制造趋势。在大规模光伏生产中,采用RPS远程等离子源进行定期维护,可以明显 提升生产效率和产品可靠性。上海半导体RPS哪个好

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