RPS基本参数
  • 品牌
  • 晟鼎精密
  • 型号
  • SPR-08
  • 用途
  • 工业用
  • 清洗方式
  • 远程等离子
  • 外形尺寸
  • 467*241*270
  • 产地
  • 广东
  • 厂家
  • 晟鼎
  • 制程气体
  • NF3、O₂、CF4
  • 点火气体/流量/压力
  • 氩气(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
  • 制程气体流量
  • 8NF3sLm
  • 工作气压
  • 1-10torr
  • 离化率
  • ≥95%
  • 进水温度
  • 30℃
RPS企业商机

RPS远程等离子源在半导体设备维护中的经济效益统计数据显示,采用RPS远程等离子源进行预防性维护,可将PECVD设备平均无故障时间延长至2000小时,维护成本降低40%。在刻蚀设备中,RPS远程等离子源将清洁周期从50批次延长至200批次,备件更换频率降低60%。某晶圆厂年度报告显示,各方面 采用RPS远程等离子源后,设备综合效率提升15%,年均节约维护费用超500万元。RPS远程等离子源在科研领域的多功能平台RPS远程等离子源模块化设计支持快速更换反应腔室,可适配从基础研究到中试生产的各种需求。通过配置多种气体入口和功率调节系统,功率调节范围覆盖100-5000W,适用基底尺寸从2英寸到300mm。在材料科学研究中,RPS远程等离子源实现了石墨烯无损转移、碳纳米管定向排列等前沿应用,助力发表SCI论文200余篇。RPS用于晶圆清洗、刻蚀和薄膜沉积工艺,去除光刻胶和残留物。江苏晟鼎RPS型号

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三维NAND闪存堆叠层数的不断增加,对刻蚀后高深宽比结构的清洗带来了巨大挑战。其深孔或深沟槽底部的刻蚀残留物(如聚合物)若不能彻底清理 ,将严重影响后续多晶硅或钨填充的质量,导致电荷陷阱和器件性能劣化。在此RPS远程等离子源应用领域展现出其独特优势。由于等离子体在远程生成,其主要产物是电中性的自由基,这些自由基具有较好的扩散能力,能够无阻碍地深入深宽比超过60:1的结构底部,与残留物发生化学反应并将其转化为挥发性气体排出。相较于直接等离子体,RPS技术避免了因离子鞘层效应导致的清洗不均匀问题,确保了从结构顶部到底部的均匀清洁,且不会因离子轰击造成结构侧壁的物理损伤。这使得RPS远程等离子源应用领域成为3D NAND制造中实现高良率、高可靠性的主要 技术之一。湖南远程等离子体源RPS电源RPS远程等离子源的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁。

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RPS远程等离子源在功率器件制造中的可靠性提升:功率器件(如GaN或SiC半导体)对界面质量极为敏感。污染会导致漏电流或击穿电压下降。RPS远程等离子源提供了一种温和的清洁方法,去除表面氧化物和金属杂质,而不引入缺陷。其均匀的处理确保了整个晶圆上的电性能一致性。在高温工艺中,RPS远程等离子源还能用于钝化层沉积前的表面准备。随着电动汽车和可再生能源的普及,RPS远程等离子源帮助提高功率器件的可靠性和寿命。纳米材料(如石墨烯或量子点)对表面污染极为敏感。RPS远程等离子源可用于制备超洁净基板,或对纳米结构进行精确修饰。其可控的化学特性允许选择性去除特定材料,而不损坏底层结构。在催化研究中,RPS远程等离子源还能活化纳米颗粒表面,增强其反应性。通过提供原子级清洁环境,RPS远程等离子源推动了纳米科技的前沿研究。

晟鼎RPS远程等离子体源产品特性:01.duli的原子发生器;02.电感耦合等离子体技术;03集成的电子控制及电源系统,实现了功率自适应调节;04内循环强制风冷散热+水冷散热,极大程度避免环境污染内部元器件;05.输入电检测,避免设备工作于异常交流输入电压;06.配置了模拟总线控制接口;07.先进的表面处理工艺保证了腔体长时间稳定的运行;08.简化的工作模式方便了用户的使用;06.气体解离率高,效果可媲美进口设备。主动网络匹配技术:可对不同气体进行阻抗匹配,使得等离子腔室获得大能量。RPS包含电源和电离腔体两部分,不同的工艺气体流量对应匹配的电源功率。

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RPS远程等离子源应用领域在生物医疗器件,特别是微流控芯片、体外诊断(IVD)设备和植入式器械的制造中,扮演着表面功能化改性的重要角色。许多高分子聚合物(如PDMS、PC、COC)因其优异的生物相容性和易加工性被广 使用,但其表面通常呈疏水性,不利于细胞粘附或液体流动。RPS远程等离子源通过氧气或空气产生的氧自由基,能够高效地在这些聚合物表面引入大量的极性含氧基团(如羟基、羧基),从而将其从疏水性长久性地改变为亲水性。这种处理均匀、彻底,且不会像直接等离子体那样因过热和离子轰击对精细的微流道结构造成损伤。经过RPS处理的微流控芯片,其亲水通道可以实现无需泵驱动的毛细管液流,极大地简化了设备结构,提升了检测的可靠性和灵敏度。远程等离子体源(Remote Plasma Source,RPS)作为一种先进的表面处理技术,正逐渐展现其独特的价值。国内RPS石英舟腔体清洗

在存储芯片制造中提升介质层可靠性。江苏晟鼎RPS型号

半导体制造对工艺洁净度和精度要求极高,任何微小的污染或损伤都可能导致器件失效。RPS远程等离子源通过其低损伤特性,在清洗和刻蚀步骤中发挥重要作用。例如,在先进节点芯片的制造中,RPS远程等离子源可用于去除光刻胶残留或蚀刻副产物,而不会对脆弱的晶体管结构造成影响。其均匀的等离子体分布确保了整个晶圆表面的处理一致性,从而减少参数波动和缺陷密度。通过集成RPS远程等离子源 into 生产线,制造商能够实现更高的工艺稳定性和产品良率,同时降低维护成本。江苏晟鼎RPS型号

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