企业商机
加工件基本参数
  • 品牌
  • 爵豪科技
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 杭州
  • 可售卖地
  • 全国
  • 是否定制
  • 配送方式
  • 物流运输
加工件企业商机

核电站乏燃料处理的注塑加工件,需耐受强辐射与化学腐蚀,选用超高分子量聚乙烯(UHMWPE)与硼纤维复合注塑。添加 10% 碳化硼纤维(直径 10μm)通过冷压烧结工艺(压力 200MPa,温度 180℃)成型,使材料耐辐射剂量达 10²¹n/cm²,在 8mol/L 硝酸溶液中浸泡 30 天后质量损失率≤0.3%。加工时采用水刀切割技术(水压 400MPa),在 20mm 厚板材上加工精度 ±0.1mm 的法兰密封面,表面经等离子体处理后与铅板的粘结强度≥25MPa。成品在乏燃料水池中(温度 80℃,辐射剂量 10⁴Gy/h)使用 10 年后,拉伸强度保留率≥80%,且体积电阻率≥10¹²Ω・cm,为核废料运输容器提供安全绝缘与辐射屏蔽部件。注塑加工件的筋位设计增强结构强度,可承受 20kg 以上的垂直压力。压铸加工件定制

压铸加工件定制,加工件

半导体封装用注塑加工件,需达到 Class 10 级洁净标准,选用环烯烃共聚物(COC)与气相二氧化硅复合注塑。将 5% 疏水型二氧化硅(比表面积 300m²/g)混入 COC 粒子,通过真空干燥(温度 80℃,时间 24h)去除水分,再经热流道注塑(模具温度 120℃,注射压力 150MPa)成型,制得粒子析出量≤0.1 个 /ft² 的封装载体。加工时采用激光微雕技术,在 0.2mm 厚薄膜上雕刻出精度 ±2μm 的导电路径槽,槽壁粗糙度 Ra≤0.1μm,避免金属化过程中产生毛刺。成品在 150℃真空环境中放气率≤1×10⁻⁹Pa・m³/s,且通过 1000 次热循环(-40℃~125℃)测试,翘曲量≤50μm,满足高级芯片封装的高精度与低污染要求。出口级加工件加工绝缘加工件通过真空浸漆处理,内部空隙填充充分,绝缘性能更优异。

压铸加工件定制,加工件

绝缘加工件在核聚变装置中的应用需抵抗强辐射与极端温度,采用碳化硅纤维增强陶瓷基复合材料(CMC)。通过化学气相渗透(CVI)工艺在 1200℃高温下沉积碳化硅基体,使材料密度达 2.8g/cm³,耐辐射剂量超过 10²¹n/cm²。加工时使用五轴联动激光加工中心,在 0.1mm 薄壁结构上制作微米级透气孔,孔间距精度控制在 ±5μm,避免等离子体轰击下的热应力集中。成品在 ITER 装置中可耐受 1500℃瞬时高温,且体积电阻率在 1000℃时仍≥10¹⁰Ω・cm,同时通过 10 万次热循环测试无裂纹,为核聚变反应的约束系统提供长效绝缘保障。

新能源汽车驱动电机用绝缘加工件,需兼顾高转速下的耐电晕与耐油性能。以聚酰亚胺薄膜复合层压板为例,采用涂覆工艺将纳米陶瓷涂层与薄膜复合,使耐电晕寿命达普通材料的5倍(≥1000小时)。加工中运用激光打孔技术,孔径公差控制在±0.01mm,孔壁粗糙度Ra≤1.6μm,避免漆包线穿线时损伤绝缘层。成品经150℃热油浸泡1000小时后,拉伸强度保留率≥90%,且在100Hz高频脉冲电压(2000V)下,局部放电量≤1pC,有效解决电机高速运转时的绝缘老化问题。这款注塑件通过模温控制技术,内部应力分布均匀,减少开裂风险。

压铸加工件定制,加工件

深海电缆接头注塑加工件选用超高分子量聚乙烯(UHMWPE)与纳米蒙脱土复合注塑,添加 8% 有机化蒙脱土(层间距 3nm)通过熔融插层(温度 190℃,转速 350rpm)形成纳米复合材料,使耐海水渗透性提升 60%,水渗透率≤5×10⁻¹³m/s。加工时采用热流道注塑(模具温度 60℃,注射压力 200MPa),在接头密封件上成型双唇形结构(唇边厚度 0.8mm,配合公差 ±0.01mm),表面经等离子体接枝处理(接枝率 1.5%)增强疏水性。成品在 110MPa 水压(模拟 11000 米深海)下保持 72 小时无泄漏,且在海水中浸泡 10 年后,拉伸强度保留率≥80%,为深海探测设备的电缆系统提供可靠的防水绝缘保障。该绝缘件经过老化测试,在高温环境下绝缘性能不衰减,使用寿命长。精密加工件快速打样

绝缘加工件经耐压测试达标,可承受高电压环境下的长期稳定运行。压铸加工件定制

半导体刻蚀腔体注塑加工件采用全氟烷氧基树脂(PFA)与二硫化钼纳米管复合注塑,添加 3% 二硫化钼纳米管(直径 20nm,长度 1μm)通过超临界流体混合(CO₂压力 10MPa,温度 80℃)均匀分散,使材料表面摩擦系数降至 0.08,抗等离子体刻蚀速率≤0.05μm/h。加工时运用精密挤出成型(温度 380℃,口模温度 360℃),在 0.5mm 薄壁部件上成型精度 ±5μm 的气流槽,槽面经电子束抛光后粗糙度 Ra≤0.02μm,减少刻蚀产物沉积。成品在 CF₄/O₂等离子体环境(功率 1000W,气压 10Pa)中使用 1000 小时后,表面腐蚀量≤0.1μm,且颗粒脱落量≤0.01 个 / 片,满足高级半导体刻蚀设备的高纯度与长寿命需求。压铸加工件定制

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