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场效应管基本参数
  • 品牌
  • 盟科,MENGKE
  • 型号
  • 齐全
  • 加工定制
  • 工作电压
  • 20-700
  • 产品用途
  • 消费类电子,小家电
  • 厂家
  • 深圳盟科电子
  • 产地
  • 广东
  • 封装
  • SOT系列 TO系列
  • MOS类型
  • N管 P管 N+P 双N 双P
  • 塑封料
  • 无卤
  • 环保认证
  • SGS认证
  • 样品
  • 支持
场效应管企业商机

场效应管和晶闸管都是电子电路中常用的开关型器件,但是两者存在本质的区别。场效应管包括结型场效应管JFET和金属-氧化物半导体场效应管MOSFET。而晶闸管一般是指可控硅,可控硅按照导通方向可以分为单向可控硅SCR和双向可控硅Triac。这里主要介绍MOSFET。MOSFET有三个电极,分别为栅极G、源极S和漏极D,其中栅极G为控制端,源极S和漏极D为输出端。PMOS的衬底为N型半导体,在VGS《0时,会形成P沟道,所以叫做P沟道MOS;而NMOS的衬底为P型半导体,在VGS》0时,会形成N沟道,所以叫做N沟道MOS。MOS管是电压驱动型的器件,主要用作可控整流、功率开关、信号放大等,应用比较多方面。MOS管的通道依靠VGS的电平,对于NMOS而言,VGS》0时,NMOS导通,否则NMOS截止;对于PMOS而言,VGS《0,PMOS导通,否则截止。晶闸管又称可控硅,其与场效应管一样,皆为半导体器件,它们的外形封装也基本一样,但它们在电路中的用途却不一样。场效应管当栅压为零时有较大漏极电流的称为耗尽型。N型场效应管品牌

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场效应管判定栅极:用万用表黑表笔碰触管子的一个电极,红表笔分别碰触另外两个电极。若两次测出的阻值都很大,说明均是反向电阻,该管属于N沟道场效应管,黑表笔接的也是栅极。制造工艺决定了场效应管的源极和漏极是对称的,可以互换使用,并不影响电路的正常工作,所以不必加以区分。源极与漏极间的电阻约为几千欧。注意不能用此法判定绝缘栅型场效应管的栅极。因为这种管子的输入电阻极高,栅源间的极间电容又很小,测量时只要有少量的电荷,就可在极间电容上形成很高的电压,容易将管子损坏。高压场效应管多少钱场效应管的失真多为偶次谐波失真,听感好。

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场效应管测试仪仪器主要用以功率场效应管和IGBT的质量检验、参数的配对及其它电子电子元件的耐压测试之用。仪器分N沟导型测试仪和P沟导型测试仪两种。耐压测试仪方法特性:是按照IEC、ISO、BS、UL、JIS等国内、国际的安全基准而设计,是交流安全通用测试仪器,合适家电及低压电器的安全测试。测试电压和漏电流使用4位LED数码管显示,测试时间使用2位LED数码管显示。漏电流值由粗调和细调旋钮调节。漏电流超差时自动切断测试电压,并发出声光报警信号。有外控端子。臣式机箱、塑料面框、外形新颖美观。主要技术参数:测试电压:AC0~5KV。测试电压误差:低于3%。测试电压波形:50Hz市电正弦波。输出容量:500VA(DF2670),500VA/750VA(DF2670A)。漏电流范围:2mA~20mA共六档(DF2670)~2mA/~20mA(DF2670A)。漏电流测试误差:低于3%。测试时间:1~99秒。时间误差:低于1%。一:场效应管的主要参数(1)直流参数饱和漏极电流IDSS它可概念为:当栅、源极之间的电压相等零,而漏、源极之间的电压大于夹断电压时,对应的漏极电流。夹断电压UP它可概念为:当UDS一定时,使ID减少到一个细微的电流时所需的UGS打开电压UT它可概念为:当UDS一定时,使ID到达某一个数值时所需的UGS。

三极管是流控型器件,MOS管是压控型器件,可控硅不单单是流控型器件,稍微复杂一点。分别介绍。三极管的控制方式三极管是常用的电子元器件,可以用作开关,也可以用作信号放大。三极管分为NPN型和PNP型,当三极管的PN结正向偏置之后,三极管导通。对于NPN三极管而言:在基极是高电平时,三极管导通;在基极是低电平时,三极管截至。对于PNP三极管而言:在基极是高电平时,三极管截至;在基极是低电平时,三极管导通。MOS管的控制方式MOS管是压控型的器件,与三极管相比较,其过电流能力会更大。MOS管分为NMOS管和PMOS管。其导通条件不一样。NMOS管,在Vgs>0时导通,Vgs<><0时导通,vgs>0截至;可控硅的控制方式可控硅的控制方式稍微复杂一点,可控硅共有四个工作象限,而且可控硅一旦导通,移除门极触发信号后,依然导通不会关断。可控硅的导通条件:门极存在满足条件的触发电流,T1和T2存在大于管压降的电压。可控硅的截至条件:门极触发信号移除,T1和T2之间的电流小于维持电流。场效应管高输入阻抗容易驱动,输入阻抗随频率的变化比较小 。

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场效应管的应用常用的场效应晶体管是金属氧化物半导体场效应晶体管 。CMOS (互补金属氧化物半导体)工艺技术是现代数字化集成电路的基础。这种工艺技术采用一种增强模式设计,即p沟道MOSFET和n沟道MOSFET串联连接,使得当一个导通时,另一个闭合。在场效应晶体管中,当以线性模式工作时,电子可以沿任意方向流过沟道。漏极和源极的命名惯例有些随意,因为器件通常(但不总是)从源极到漏极对称构建。这使得场效应晶体管适合在路径之间切换模拟信号(多路复用)。利用这个概念可用于构建固态混合板。盟科电子场效应管可以方便地用作恒流源。上海功率场效应管

场效应管当栅压为零,漏极电流也为零,必须再加一定的栅压之后才有漏极电流的称为增强型。N型场效应管品牌

场效应晶体管的沟道是掺杂n型半导体或p型半导体的结果。在增强型场效应晶体管中,漏极和源极可以掺杂与沟道相反的类型,或者掺杂与耗尽型场效应晶体管类似的类型。场效应晶体管也可由沟道和栅极之间的绝缘方法来区分。场效应晶体管的类型包括:结型场效应管(结型场效应晶体管)使用反向偏置的pn结将栅极与主体电极分开MOSFET (金属氧化物半导体场效应晶体管)将绝缘体(通常SiO2)置于漏极和主体电极之间。MNOS 金属-氮化物-氧化物-半导体晶体管将氮化物-氧化物层绝缘体置于栅极和主体电极之间。DGMOSFET ( 双栅极MOSFET ),一种具有两个绝缘栅极的场效应晶体管。N型场效应管品牌

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