刻蚀的目的在于去除硅片上不需要的材料，从而雕琢出精细的电路结构。在这一精细操作过程中，温度的波动都会如同“蝴蝶效应”般，干扰刻蚀速率的均匀性。当温度不稳定时，硅片不同部位在相同时间内所经历的刻蚀程度将参差不齐，有的地方刻蚀过度，有的地方刻蚀不足，直接破坏芯片的电路完整性，严重影响芯片性能。湿度方面，一旦出现不稳定状况，刻蚀环境中的水汽会与刻蚀气体发生复杂的化学反应，生成一些难以预料的杂质。这些杂质可能会附着在芯片表面，或是嵌入刚刚刻蚀形成的微观电路结构中，给芯片质量埋下深深的隐患，后续即便经过多道清洗工序，也难以彻底根除这些隐患带来的负面影响。高精密恒温恒湿洁净环境的长期稳定运行离不开具有高精度传感器的恒温恒湿设备。浙江温湿度车间
精密环控柜能够实现如此性能，背后蕴含着先进而复杂的原理。在温度控制方面，自主研发的高精密控温技术是关键所在。通过高精度传感器实时监测柜内温度，将数据反馈至控制系统。控制系统依据预设的精确温度值，以 0.1% 的控制输出精度，调节制冷（热）系统的运行功率。例如，当温度高于设定值时，制冷系统迅速启动，精确控制制冷量，使温度快速回落至目标范围；反之，加热系统则及时介入。对于湿度控制，利用先进的湿度调节装置，通过冷凝除湿或蒸汽加湿等方式，依据传感器反馈的湿度数据，将设备内部湿度稳定性控制在 ±0.5%@8h 。在洁净度控制上，采用多层高效洁净过滤器，通过物理拦截、静电吸附等原理，对进入柜内的空气进行深度过滤，确保可实现百级以上洁净度控制，工作区洁净度优于 ISO class3 。浙江温湿度车间设备的气流循环系统经过特殊设计，确保每个角落都能均匀享受稳定环境。
光学仪器的生产对环境的洁净度、温湿度有着极其严格的要求，精密环控柜成为保障光学仪器高质量生产设备。在镜头研磨和镀膜工艺中，微小的尘埃颗粒都可能在镜头表面留下划痕或瑕疵，影响光线的透过和成像质量。精密环控柜配备的高效洁净过滤器，能够将空气中的尘埃颗粒过滤至近乎零的水平，为镜头加工提供超洁净的环境。同时，温度的精确控制对于保证研磨盘和镜头材料的热膨胀系数稳定一致至关重要。温度波动可能导致研磨盘与镜头之间的相对尺寸发生变化，使研磨精度受到影响，导致镜头的曲率精度和光学性能不达标。
超精密激光外径测量仪，在精密制造领域里，是线缆、管材等产品外径测量环节中不可或缺的存在。其测量精度直接关乎产品质量。然而，环境因素对它的干扰不容小觑。一旦温度产生波动，仪器的光学系统便会因热胀冷缩发生热变形，致使原本激光聚焦出现偏差，光斑尺寸也随之改变，如此一来，根本无法精确测量产品外径。像在高精度线缆生产中，哪怕只是极其微小的温度变化，都可能致使产品外径公差超出标准范围。而在高湿度环境下，水汽对激光的散射作用大幅增强，返回的激光信号强度减弱，噪声却不断增大，测量系统难以准确识别产品边界，造成测量数据的重复性和准确性都严重变差 。制冷单元内部采用高效隔音材质，进一步降低设备噪音，噪音<45dB。
我司自主研发的高精密控温技术，控制输出精度达 0.1%，能精细掌控温度变化。温度波动控制可选 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多档，满足严苛温度需求。该系统洁净度表现优异，可达百级、十级、一级。关键区域静态温度稳定性 ±5mK，内部温度均匀性小于 16mK/m，为芯片研发等敏感项目营造理想温场，保障实验数据不受温度干扰。湿度方面，8 小时内稳定性可达 ±0.5%；压力稳定性为 +/-3Pa，设备还能连续稳定工作 144 小时，助力长时间实验与制造。在洁净度上，工作区洁净度优于 ISO class3，既确保实验结果准确可靠，又保障精密仪器正常工作与使用寿命，推动科研与生产进步。精密环控设备为光刻机、激光干涉仪等精密测量、精密制造设备提供超高精度温湿度、洁净度的工作环境。河北温湿度洁净房
这些高精度传感器能够精确感知环境参数的变化，为精确控制提供基础。浙江温湿度车间
对于光学仪器，温度哪怕有细微变化，都会引发诸多问题。由于大多数光学仪器采用了玻璃镜片、金属镜筒等不同材质的部件，这些材料热膨胀系数各异。当温度升高时，镜片会膨胀，镜筒等支撑结构也会发生相应变化，若膨胀程度不一致，就会使镜片在镜筒内的位置精度受到影响，光路随之发生偏差。例如在显微镜观察中，原本清晰聚焦的样本图像会突然变得模糊，科研人员无法准确获取样本细节，影响实验数据的准确性。对于望远镜而言，温度波动导致的光路变化，会让观测天体时的成像偏离理想位置，错过重要天文现象的记录。浙江温湿度车间
