我司自主研发的高精密控温技术,控制输出精度达 0.1%,能精细掌控温度变化。温度波动控制可选 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多档,满足严苛温度需求。该系统洁净度表现优异,可达百级、十级、一级。关键区域静态温度稳定性 ±5mK,内部温度均匀性小于 16mK/m,为芯片研发等敏感项目营造理想温场,保障实验数据不受温度干扰。湿度方面,8 小时内稳定性可达 ±0.5%;压力稳定性为 +/-3Pa,设备还能连续稳定工作 144 小时,助力长时间实验与制造。在洁净度上,工作区洁净度优于 ISO class3,既确保实验结果准确可靠,又保障精密仪器正常工作与使用寿命,推动科研与生产进步。其控制系统精细处理循环气流各环节,确保柜内温湿度的超高精度控制。天津恒温恒湿控制室

在光学镜片研磨这一精细入微的工艺里,温湿度波动无疑是如影随形的 “大敌”,对镜片质量的影响堪称致命。就研磨设备而言,即便是零点几摄氏度的细微温度变化,也会迅速让研磨盘与镜片材料的热膨胀系数差异暴露无遗。这一差异会直接导致镜片在研磨过程中受力不均,研磨效果参差不齐,镜片的曲率精度因此大打折扣,进而严重影响其光学性能。而当处于高湿度环境时,空气中弥漫的水汽就像隐匿的破坏者,极易在镜片表面悄然凝结成水渍。这些水渍会在后续镀膜工艺中成为棘手难题,极大地干扰镀膜均匀性,致使镜片的透过率和抗反射能力双双下滑,成品镜片根本无法契合光学仪器所要求的严苛标准。天津恒温恒湿控制室自面世以来,已为相关领域客户提供了稳定的实验室环境以及监测服务,获得了颇多好评。

在 3D 打印行业蓬勃发展的当下,温湿度成为左右打印质量的关键因素。在打印过程中,一旦环境温度出现较大幅度的波动,用于成型的光敏树脂或热熔性材料便会受到直接冲击。材料的固化速率、流动性不再稳定,这会直接反映在打印模型上,导致模型出现层纹,严重时发生变形,甚至产生开裂等严重缺陷。而当湿度偏高,材料极易吸湿。在打印过程中,这些吸收的水分转化为气泡,悄然隐匿于模型内部或浮现于表面,极大地破坏模型的结构完整性,使其表面质量大打折扣,影响 3D 打印产品在工业设计、医疗模型等诸多领域的实际应用。
在集成电路制造这一高精密的领域中,芯片生产线上的光刻工序堪称关键的环节,其对温湿度的要求近乎达到苛刻的程度。即便是极其微小的 1℃温度波动,都可能引发严重后果。光刻机内部的光学镜片会因热胀冷缩,致使光路发生细微偏移。这看似毫厘之差,却足以让光刻图案精度严重受损,使得芯片上的电路布线出现偏差,甚至短路等问题,进而大幅拉低芯片的良品率。而在湿度方面,一旦湿度突破 50% 的警戒线,光刻胶便极易受潮,其感光度发生改变,导致曝光效果大打折扣,无疑同样对芯片质量产生不可忽视的负面影响。为航天零部件检测打造的专属环境,满足其对温湿度、洁净度近乎苛刻的要求。

电池芯片制造工艺的复杂性与精细度与日俱增,对生产环境的洁净度和湿度控制提出了极其严苛的要求。湿度一旦超出允许范围,哪怕有细微波动,都极有可能致使电池芯片内部的电路结构发生短路现象,或者严重影响芯片的整体性能,大幅降低其充放电效率与使用寿命。精密环控柜凭借其技术实力,实现了对湿度的调控,将湿度稳定性牢牢控制在极小的区间内。同时,其配备的空气过滤系统,能够高效拦截空气中的各类尘埃、颗粒及微生物,确保生产环境达到超高洁净度标准。针对新能源电子领域千变万化的特殊生产工艺需求,精密环控柜还能提供定制化服务,从内部布局到各项环境参数的设定,都能满足该领域独特的环境要求。
精密环境控制设备凭借超高精度温度控制,保障内部温度水平均匀性小于 16mK/m。芯片蚀刻恒温恒湿调节
涉及超高精度的环境要求,如±0.01-0.1℃,甚至更高要求,则需要在精密恒温恒湿超净间中搭建精密环控系统。天津恒温恒湿控制室
设备运行静音高效是精密环控柜的又一优势。采用的 EC 风机,具备更高效、更强大、更安静的运行特点。相比传统风机,EC 风机能够在提供充足风量的同时,有效降低能耗,提高能源利用效率。制冷单元内部采用高效隔音材质,进一步降低设备噪音,使其运行噪音小于 45dB 。噪音作为一种能量对于生产过程存在难以忽视的影响,极低的噪音恰恰能防止设备收到干扰,影响生产环境。高效的运行则保证了设备能够快速、稳定地调节温湿度和洁净度,满足各类精密实验和生产的需求。天津恒温恒湿控制室