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精密温控基本参数
  • 品牌
  • 极测(南京)
  • 型号
  • 高精密环境控制设备
  • 类型
  • 温湿度、洁净度、抗振、降噪控制等
  • 材质
  • 钣金
精密温控企业商机

在光学领域,干涉仪扮演着无可替代的 “基准量具” 角色。其测量精度直接受到工作环境的影响,包括温度、湿度、气压波动等影响因素,尤其是温度控制的细微偏差,都可能成为测量结果失准的 “系统性误差源”。极测(南京)自研生产的精密环控系统,为干涉仪打造稳定的外部运行环境,包括精密温度控制,以及湿度稳定性,气压稳定性,噪声等。同时针对内部腔体区域采用局部气浴的模式,保证内部检测腔环境的稳定性,是许多半导体企业的选择。极测精密环控柜采用自主研发的高精度制冷/加热控制系统,能够实现高温度精度和稳定性(±2mK)。步入式精密温控房

步入式精密温控房,精密温控
极测方案:蕞高±0.002℃精密温控,铸就测量 “计量基准”
极测专为干涉仪等高精密仪器研发的精密环境控制设备,其关键竞争力在于精密温控技术的突破性表现:

控温精度:提供业界前列的 ±0.002℃高精密温度控制能力,温度水平均匀性严格控制在 <16mK/m 范围内,确保测量过程的稳定性和 0.1% 的控制输出精度。

湿度与洁净协同保障:设备同时实现 ±0.5%@8h 的高湿度稳定性,杜绝因湿度问题导致的零部件腐蚀和镜片结雾风险。洁净度控制可达百级以上,关键工作区蕞高优于 ISO class3 标准,严防尘埃颗粒干扰精密光路。
全方wei环境定制:极测具备强大的全场景非标定制能力,不仅能满足严苛的温湿度稳定性需求,还能根据用户具体场景定制抗微振、防磁、隔音等综合环境参数,为干涉仪量身打造理想的工作空间。 浙江0.05精密温控坚固美观:钣金箱体坚固耐用,外观颜色可按需定制,完美融入现代化实验室环境。

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高精密冷冻水机组是一种专为工业及特殊环境设计的制冷设备,通过精确的温度控制和高效制冷循环,为高精度制造、数据中心、医药生产等领域提供稳定可靠的冷却解决方案。其关键特点在于高能效、低波动性及智能化控制,满足严苛的温控需求。极测(南京)技术有限公司采⽤⾃研温控技术,高精密冷冻水机组冷冻⽔的出⽔温度蕞⾼精度可达±0.002℃。高精密冷冻水机组采用国际有名品牌压缩机,配套高质量高效能铜管制作的板式换热器及有名品牌电气元器件。使机组具有精度高、体积小、噪音低、寿命长、操作简便、高效节能等优点。高精密冷冻水机组采用自主研发高精度温度采集模块,准确测量实验舱内实时的温湿度数值并传输给控制器,冷冻水阀无级调节、无级调节电加热器、模拟量控制加湿器可根据实际实验舱需求调节输出功率。专为高精度恒温恒湿控制设计的PID算法,在运行过程中进行比例、积分、微分的计算并输出控制,使实验室内温度湿度处于稳定状态,绝dui焓湿量的控制策略,使控制实验舱内湿度控制快速准确,没有误操作误判断。

在高duan制造业的关键地带,纳米级芯片、微米级航空叶片、亚波长光学元件的精密制造,对生产环境提出了前所未有的严苛要求。其中,精密温控扮演着决定性角色——一丝微小的温度波动,都可能成为制约良率与性能的关键瓶颈。作为环境控制领域的关键要素,精密温控设备已从幕后走向前台,成为前列制造不可或缺的“精密制造基座”。南京拓展科技旗下企业极测(南京)技术有限公司,凭借二十六载在实验室环境控制领域的技术积淀,推出颠覆行业的精密环控柜系列产品。其高达±0.002℃ 的温控精度与ISO Class 3级洁净度(每立方米≥0.1μm颗粒数≤1,000个),为半导体制造、航空航天、生物医药等战略新兴产业筑起了坚实的“科技堡垒”。极测(南京)高精密环境控制设备已实现蕞高温控精度±0.002℃,洁净度十级以上。

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合理的箱体结构有助于提升精密环控设备温湿度的均匀性和控制效果,例如双层保温结构、优化风道设计等,能增强精密环控设备的保温性能和控制精度。精密环控设备的外壳和内部材质应具备良好的耐磨性,部分还需要优良的保温性能,以延长精密环控设备的使用寿命。极测的精密环控柜采用合理的柜体结构设计,主柜体为内部精密组件提供稳固物理空间,同时采用可拆卸铝合金框架,方便大型设备在不同科研场所进行现场组装,其箱体采用的高质量钣金材质坚固耐用。  静谧运行:应用 EC 风机与高效隔音材料,运行噪音低于 45dB,避免噪音对精密操作产生干扰。光学元件精密温控系统

现已服务多家全球半导体、通信设备、显示面板企业与国家重点实验室。步入式精密温控房

温度稳定性:光刻机内部的光学元件(如镜头、反射镜)和精密机械结构多由对温度极其敏感的材料制成。微小的温度变化会导致材料热胀冷缩,引起光学系统焦距偏移、对准系统失准、机械平台位置漂移,蕞终导致图形扭曲、套刻误差增大,良率骤降。整个光刻区通常处于恒温控制状态。

湿度稳定性:湿度过高可能导致光学镜片表面结露、金属部件锈蚀、光刻胶特性改变;湿度过低则容易产生静电,吸附尘埃污染晶圆和设备。精确的湿度控制对确保工艺稳定性和材料性能至关重要。3、chao低振动:光刻机在曝光时需要极高的稳定性。任何来自地面(交通、施工、人员走动)、设备自身(空调、泵)或建筑物(风载荷)的振动,都会直接导致光学系统抖动,使投影到硅片上的图形模糊或位置偏移。因此,光刻机通常安装在深达地下的单独地基或高性能主动/被动隔震平台上,甚至采用磁悬浮等技术进行主动减振。 步入式精密温控房

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