激光干涉仪用于测量微小位移，精度可达纳米级别。温度波动哪怕只有1℃，由于仪器主体与测量目标所处环境温度不一致，二者热胀冷缩程度不同，会造成测量基线的微妙变化，导致测量位移结果出现偏差，在高精度机械加工零件的尺寸检测中，这种偏差可能使零件被误判为不合格品，增加生产成本。高湿度环境下，水汽会干扰激光的传播路径，使激光发生散射，降低干涉条纹的对比度，影响测量人员对条纹移动的精确判断，进而无法准确获取位移数据，给精密制造、航空航天等领域的科研与生产带来极大困扰。
精密环境控制设备内部，关键区域静态下温度稳定性高，可达 +/-5mK 精度。新能源电子温湿度方案
为了满足上述温湿度要求，实验室可以采取以下措施：安装空调系统和除湿/加湿设备以调节室内温湿度；定期对空调系统进行维护和保养以确保其正常运行；使用温湿度传感器实时监测并记录实验室内的环境参数；根据监测结果及时调整温湿度控制措施以保持恒定适宜的环境条件。实验室的温湿度要求是确保实验准确性和仪器稳定性的关键因素之一。通过合理设置和控制温湿度范围以及采取相应的实现措施，可以为科研人员提供一个良好的工作环境并保障实验结果的可靠性。新能源电子温湿度方案磁屏蔽部分，可通过被动防磁和主动消磁器进行磁场控制。
我司凭借深厚的技术积累，自主研发出高精密控温技术，精度高达0.1%的控制输出。温度波动值可实现±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密环境控制。该系统洁净度可实现百级、十级、一级。关键区域±5mK（静态）的温度稳定性，以及均匀性小于16mK/m的内部温度规格，为诸如芯片研发这类对温度极度敏感的项目，打造了近乎完美的温场环境，保障实验数据不受温度干扰。同时，设备内部湿度稳定性可达±0.5%@8h，压力稳定性可达+/-3Pa，长达144h的连续稳定工作更是让长时间实验和制造无后顾之忧。在洁净度方面，实现百级以上洁净度控制，工作区洁净度优于ISOclass3，确保实验结果的准确性与可靠性，也保障了精密仪器的正常工作和使用寿命。
随着半导体生产工艺的不断发展， 更精密、集成度更高是行业发展的趋势。目前，制造工艺已经进入亚纳米时代,线宽都在30-180 纳米之间，对生产设备的精度要求越来越严格，因此，除了设备本身的工艺水平需要达到生产要求以外，其所处的生产环境——洁净室的各项指标也必须被严格地控制，包括：洁净度、温湿度、照度、气流方向、振动静电、磁场以及有害气体等。其中的温湿度控制是重点，其控制的效果直接影响着生产的优良率。目前半导体洁净室对温湿度的控制范围通常为： 温度22+/-0.5℃，湿度45+/-3%RH。本文通过对现有洁净室温湿度控制系统的研究，引入模糊控制，以提高温湿度控制的实际效果。精密环控设备为光刻机、激光干涉仪等精密测量、精密制造设备提供超高精度温湿度、洁净度的工作环境。
光刻设备对温湿度的要求也极高，光源发出的光线需经过一系列复杂的光学系统聚焦到硅片表面特定区域，以实现对光刻胶的曝光，将设计好的电路图案印制上去。当环境温度出现极其微小的波动，哪怕只是零点几摄氏度的变化，光刻机内部的精密光学元件就会因热胀冷缩特性而产生细微的尺寸改变。这些光学元件包括镜片、反射镜等，它们的微小位移或形状变化，会使得光路发生偏差。原本校准、聚焦于硅片特定坐标的光线，就可能因为光路的改变而偏离预定的曝光位置，出现曝光位置的漂移。
其控制系统精细处理循环气流各环节，确保柜内温湿度的超高精度控制。0.01℃温湿度设备采购
关于防微振，除了控制风速降低振动外，在地面增加隔振基础，可有效降低外部微振动的传递。新能源电子温湿度方案
药品储存实验室的温湿度控制直接关联药品稳定性，需严格遵循《药品经营质量管理规范》（GSP）要求。常温储存区需将温度稳定在 10-30℃，湿度控制在 35%-75%，用于存放普通片剂、胶囊等药品；阴凉储存区温度不得超过 20℃，湿度保持一致，适配对热敏感的中成药、生物制剂；冷藏区则需维持 2-8℃低温，湿度 40%-60%，专门存放胰岛素、疫苗等冷链药品。实验室配备双路温湿度传感器，实时采集数据并上传至监控系统，一旦温度波动超 ±1℃、湿度超 ±5%，立即触发声光报警。同时，室内安装防爆型空调与除湿机，避免设备运行产生的电火花威胁酒精类药品安全，地面铺设防潮垫，防止底层药品受潮变质。新能源电子温湿度方案
