华东安全四氟化碳质量代理商

四氟化碳和氧气瓶在高溫下不反映，四氟化碳是现阶段电子光学制造业中使用量较大的低温等离子蚀刻工艺汽体，其高纯度气及四氟化碳高纯度气配高纯氧气的混合体，可市场应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨塑料薄膜原材料的蚀刻工艺。针对硅和二氧化硅管理体系，选用CF4-H2反映正离子刻蚀时，根据调整二种汽体的占比，能够得到45：1的可选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅塑料薄膜时很有效。不良影响简述危险因素类型：GB2.2类不燃气体入侵方式：吸进身心健康伤害：吸进高浓的四氟化碳出現呼吸不畅、呕吐等室息病症。将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中。华东安全四氟化碳质量代理商

四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-O2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强，CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

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只有适当的条件下，四氟化碳才能与氧化剂和还原剂进行反应。四氟化碳不燃烧，有低毒性和窒息性。四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。与可燃性气体一起燃烧时，发生分解，产生的氧化物有毒。四氟化碳没有腐蚀性。可使用铝、铜、青铜、钢、不锈钢等大部分金属和合金材料。聚四氟乙烯和环氧树脂具有良好的耐腐蚀性能。聚三氟氯乙烯聚合体接触四氟化碳有轻微溶胀现象，但傻仍可耐无能蚀。尼龙在高温和有空或有水分存在情况下，它全变脆。

四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。淄博迪嘉5N四氟化碳气体常用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术，  四氟化碳又称四氟甲烷,分子量为88.01,无色无味气体.微溶于水,在25℃、1大气压时，溶解度为0。0015%（重量）。常温下是压缩气体。 常温常压下稳定，避免强氧化剂、易燃或可燃物。

R-14商品名称Reflube14。R-14属于FC类物质——对臭氧层没有破坏、但存在温室效应；目前对于R14制冷剂的生产、销售以及在新制冷设备上的初装、售后设备上的再添加均没有限制。四氟化碳（四氟甲烷/全氟甲烷）CF4R-14制冷剂，别名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名称有Freon14等，中文名称四氟化碳、四氟甲烷，英文名称CarbonTetrafluorideorTetrafluoromethane，化学式CF4，产品用途R-14作为一款特种**温制冷剂，主要应用于要求温度非常低的深冷设备中（包括科研制冷、医用制冷等），R14同时也是**温配合冷媒的重要组分。四氟化碳（四氟甲烷）是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟甲烷高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳不燃烧，有低毒性和窒息性。苏州口碑好四氟化碳厂家供货

然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生氟化物。华东安全四氟化碳质量代理商

由碳与氟反应，或一氧化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应，或氟石与石油焦在电炉里反应，或二氟二氯甲烷与氟化氢反应，或四氯化碳与氟化银反应，或四氯化碳与氟化氢反应，都能生成四氟化碳。四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分，经精馏而得成品。

预先称取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，使硅和碳化硅充分接触后，将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应，反应放热后，氟开始和碳化硅进行反应，通入等体积的干燥氮气以稀释氟气，使反应继续进行，生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化后，将其通过装有氢氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟化硅，随后通过硅胶和五氧化二磷干燥塔得到**终产品。

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