常州高品质四氟化碳价格走势

    四氟化碳在常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体。空气中不燃烧，是比较稳定的无毒物质。但是在高温时，或与可燃气体一同燃烧时，分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能与二氧化碳形成羰基氟。微溶于水，在25℃，，水中溶解度为(重量)。有轻微的水解作用。四氟化碳一般认为是惰性低毒物质，在高浓度下是窒息剂，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用，但是含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速CF4分解的催化作用。 四氟化碳可用于金属冶炼。常州高品质四氟化碳价格走势

    四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常环境下是相对惰性的，在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中，氟自由基表现为典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高纯度的四氟化碳能很好的控制加工过程，使尺寸和形状得到更好的控制，这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制（如半导体各项异性控制）。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。 无锡节能四氟化碳价格走势在使用四氟化碳的同时。

    四氟化碳的用途有哪些？四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体，充装于四氟化碳钢瓶中，饱和蒸汽压约压力2000psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于四氟化碳的化学稳定性，四氟化碳可用于金属冶炼，例如：铜、不锈钢，碳钢、铝、蒙乃尔等；还可用于塑料行业；如：合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。

    四氟化碳与氧在高温下不反应]四氟化炭是目前微电子行业使用比较多的等离子蚀刻气体，它是由高纯气与高纯气配高纯氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨薄膜材料的蚀刻。在使用CF4-H2反应离子刻蚀的硅及二氧化硅系统中，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这对刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概览危险类别：：吸入健康危险：吸入浓度高的四氟化碳后，出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。 如在泄漏时，应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处，并进行隔离，严格限制出入。

    四氟化碳在常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体，微溶于水；在25℃，，水中溶解度为(重量)，有轻微的水解作用。四氟化碳应用广，可广泛应用于电子工业、制冷空调、电力工业、太阳能工业、航天工业、金属冶炼和塑料工业等。四氟化碳对大多数金属及合金均不腐蚀，可用钢瓶或铝合金容器包装和运输，充瓶压力通常低于MPa，充装前应经过清洗、干燥、检验、抽真空后再充装，贮存于阴凉、通风的库房，远离火。四氟化碳因为拥有良好的溶氧性，且溶解度和空气中的氧气含量相当，所以即便生物完全浸在其中也能够很好地呼吸，不会出现溺水状况。 .由碳与氟反应，或一氧化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应。杭州优良四氟化碳价格便宜

四氟化碳，又称为四氟甲烷。常州高品质四氟化碳价格走势

    四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模，各国为推动本国微电子工业的发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广阔的发展潜力。 常州高品质四氟化碳价格走势

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