苏州优良四氟化碳销售价格

四氟甲烷（R-14）是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟甲烷高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷剂、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳的包装可重复使用高压钢瓶包装（需回收包装钢瓶）。四氟化碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造，以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。苏州优良四氟化碳销售价格

    四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模，各国为推动本国微电子工业的发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广阔的发展潜力。 上海市原装四氟化碳四氟化碳是无色无臭并且不燃的可压缩性气体。

开放的深入，使中国气体行业得以借助他国优势，弥补在技术和设备上的空白。然而，这也为中国特气行业的发展埋下了隐患。这一时期，中国半导体行业引进的大多为技术含量低的封测工序，在供应链中处于劣势状态，直接影响到上游特种气体的生产和供应水平。同时，由于下游半导体产业的发展原动力完全依赖政策投入，重视短期成果和效益，缺少长远观念，这种饮鸩止渴的思维一直蔓延到特气领域。靠与外国企业合作，就能收获不错的效益，加之技术上的差距又十分悬殊，很少有企业静下心来搞研发。相反，前沿的国外气体公司为了保持地位，每年在研发上投入巨额资金。以1995年为例，各主要气体公司研发投入为6100万美元，为1.446亿美元，这一支出在净利润中的占比达36.75%。值得一提的是，当年，英国BOC加工设备公司还设计开发了一种现场用的组装式制氮装备，特别适用于电子、金属等领域的生产。

四氟甲烷（Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane），亦称四氟化碳、全氟化碳，PFC-14（R-14），化学式CF4，商品名称Reflube 14，相对分子量88.00。在常温下，四氟甲烷是无色、无臭、不燃，不溶于水的可压缩性气体。沸点-128℃，熔点-183.6℃。液体密度（-130℃）1.613g/cm3，临界温度-45.67℃，临界压力3.74MPa，蒸气压（-150.7℃）13.33kPa，介电常数（25℃，0.5MPa）1.0006。挥发性较高，是稳定的有机化合物之一，在900摄氏度时，不与钢、镍、钨、钼反应，在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25摄氏度及0.1MPa下其溶解度为0.0015％（重量比），然而与可燃性气体燃烧时， 会分解产生有毒氟化物，危险性类别为第2.2类不燃气体。或四氯化碳与氟化银反应，或四氯化碳与氟化氢反应，都能生成四氟化碳。

    四氟化碳又称四氟甲烷，被视为一种无机化合物。用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂。常温常压下比较稳定，但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃气体，如果遇到高热后会造成容器内压增大，有开裂危险。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，可广用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄露检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面都有着大量的应用。 也要注意使用四氟化碳的注意事项。杭州优良四氟化碳哪里有

由于化学稳定性极强，CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。苏州优良四氟化碳销售价格

    四氟化碳在常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体。空气中不燃烧，是比较稳定的无毒物质。但是在高温时，或与可燃气体一同燃烧时，分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能与二氧化碳形成羰基氟。微溶于水，在25℃，，水中溶解度为(重量)。有轻微的水解作用。四氟化碳一般认为是惰性低毒物质，在高浓度下是窒息剂，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用，但是含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速CF4分解的催化作用。 苏州优良四氟化碳销售价格