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四氟化碳基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • 不限
  • 型号
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  • 是否定制
四氟化碳企业商机

    四氟化碳在常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体,微溶于水;在25℃,,水中溶解度为(重量),有轻微的水解作用。四氟化碳应用广,可广泛应用于电子工业、制冷空调、电力工业、太阳能工业、航天工业、金属冶炼和塑料工业等。四氟化碳对大多数金属及合金均不腐蚀,可用钢瓶或铝合金容器包装和运输,充瓶压力通常低于MPa,充装前应经过清洗、干燥、检验、抽真空后再充装,贮存于阴凉、通风的库房,远离火。四氟化碳因为拥有良好的溶氧性,且溶解度和空气中的氧气含量相当,所以即便生物完全浸在其中也能够很好地呼吸,不会出现溺水状况。 它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳,也可以被视为一种无机化合物。镇江安全四氟化碳厂家价格

    四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体,广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模,各国为推动本国微电子工业的发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场,因此具有广阔的发展潜力。 无锡高品质四氟化碳优质代理商由于四氟化碳的化学稳定性。

    四氟化碳用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体,用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。四氟化碳是微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳常温常压下稳定,避免强氧化剂、易燃或可燃物。不燃气体,遇高热后容器内压增大,有开裂危险。化学性质稳定,不燃。常温下只有液氨-金属钠试剂能发生作用。

四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体,充装于四氟化碳钢瓶中,饱和蒸汽压约压力2000 psig。四氟化碳是一种造成温室效应的气体。它非常稳定,可以长时间停留在大气层中,是一种非常强大的温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年,全球增温(全球暖化)系数是6,500(二氧化碳的系数是1)。虽然结构与氟氯烃相似,但四氟化碳不会破坏臭氧层。这是因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子,它被紫外线辐射击中时会分离。碳-氟键比较强,因此分离的可能性比较低。.由碳与氟反应,或一氧化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应。

    四氟化碳在常温下,四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体,挥发性较高,是稳定的有机化合物之一,不易溶于水。四氟化碳无毒,但是燃烧后会产生有毒物质。四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体,充装于四氟化碳钢瓶中,饱和蒸汽压约压力2000psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。 常温常压下稳定,避免强氧化剂、易燃或可燃物。无锡正规四氟化碳价格走势

用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。镇江安全四氟化碳厂家价格

对于混合气而言,配比的精度是参数,随着产品组分的增加、配制精度的上升,客户常要求气体供应商能够对多种ppm(partpermillion,百万分之)乃至ppb(partperbillion,十亿分之)级浓度的气体组分进行精细操作,其配制过程的难度与复杂程度也增大。此外,气瓶处理、气体分析检测、气体配送等环节亦对生产企业提出了较高的技术要求作为关键性材料,特种气体的产品质量对下游产业的正常生产影响巨大。如果晶圆加工环节所使用的气体发生质量问题,将导致整条生产线产品报废,造成巨额损失镇江安全四氟化碳厂家价格

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