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四氟化碳基本参数
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  • 上海
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四氟化碳企业商机

    在常温常压下四氟化碳为无色无臭有轻微醚味的气体,在空气中不燃烧,具有可压缩性,挥发性较高,是一种比较稳定的无毒有机化合物。但是在高温时,或与可燃气体一同燃烧时,会分解出有毒的氟化物。对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-O2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强,四氟化碳还可以用于金属冶炼和塑料行业等。 不燃气体,遇高热后容器内压增大,有开裂、危险。上海市原装四氟化碳厂家供货

    四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体,广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模,各国为推动本国微电子工业的发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场,因此具有广阔的发展潜力。 镇江销售四氟化碳厂家价格四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体,挥发性较高。

    四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体,用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模,各国为推动本国微电子工业的发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场,因此具有广阔的发展潜力。

质量指标纯度(%)≥99.99水份(PPm)≤10酸度(PPm)≤0.3蒸发残留物(PPm)≤100%物理性质分子量88.0沸点(1atm),℃-128临界温度,℃-45.67临界压力,kPa3740饱和蒸气压(25℃),kPa3650(-45.6℃)汽化热/蒸发潜热(沸点下,1atm),kJ/kg-破坏臭氧潜能值(ODP)0全球变暖潜能值(GWP,100yr)5700ASHRAE安全级别A1(无毒不可燃)化学性质相对分子量88.00。在常温下,四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体,挥发性较高,是**稳定的有机化合物之一,不易溶于水。在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,*在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒氟化物。四氟化碳的溶氧性很好。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体,广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格,各国为推动本国微电子工业发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体场,因此具有广阔的发展潜力。由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。南通口碑好四氟化碳价格便宜

如在泄漏时,应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处,并进行隔离,严格限制出入。上海市原装四氟化碳厂家供货

    四氯化碳有什么作用?四氯化碳可以做萃取剂来萃取有机物(极性分子相似相溶)。萃取实验中萃取出的碘单质是紫红色的,而其他卤素也会有其他对应的颜色,所以四氯化碳有的时候用于卤素除杂与鉴定;曾用作灭火剂但是由于在一些条件下四氯化碳会产生窒息性的剧毒气体——光气;另外它也不能用于扑灭活泼金属钾、钠的失火,因四氯化碳会强烈分解。现被1211灭火剂替代;可与水置于同一容器防倒吸(利用密度梯度分离,导气管需伸入下层)。 上海市原装四氟化碳厂家供货

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