企业商机
四氟化碳基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • 不限
  • 型号
  • 不限
  • 是否定制
四氟化碳企业商机

    四氟化碳用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体,用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。四氟化碳是微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳常温常压下稳定,避免强氧化剂、易燃或可燃物。不燃气体,遇高热后容器内压增大,有开裂危险。化学性质稳定,不燃。常温下只有液氨-金属钠试剂能发生作用。 温室气体,其造成温室效应的作用是二氧化碳的数千倍。常州直销四氟化碳高性价比的选择

    氢氟甲烷氟化法是一种适合工业化推广的生产四氟化碳的方法,它具有工艺简单、不需使用催化剂、四氟化碳的收率和纯度高等优点。但目前作为原料的氢氟甲烷的价格相对较高,限制了工业化装置的规模。四氟化碳早就是通过氟碳直接反应法制得的,该方法经过不断的发展与完善,如今已成为工业上制备全氟烷的主要的方法之一。以四氟化碳作为表示的全氟烷广用作微电子行业中的等离子体蚀刻气体,近年来世界需求量日益扩大,市场看好,国外大公司纷纷扩大其产能。 上海市四氟化碳价格便宜只有在1000℃以上,才能和二氧化碳进行反应。

    四氟化碳的合成方法:由碳与氟反应,或一氧化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,或二氟二氯甲烷与氟化氢反应,或四氯化碳与氟化银反应,或四氯化碳与氟化氢反应,都能生成四氟化碳。四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品;预先称取5~10g的碳化硅粉末和,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应,反应放热后,氟开始和碳化硅进行反应,通入等体积的干燥氮气以稀释氟气,使反应继续进行,生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化后,将其通过装有氢氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟化硅,随后通过硅胶和五氧化二磷干燥塔得到产品;以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。

四氟化碳,又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳,也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中,需要使用四氟化碳。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。在蚀刻过程中,用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉,附有油墨的电路上铜皮得以保留,之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干,等工艺。 由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。 四氟化碳,又称为四氟甲烷。

开放的深入,使中国气体行业得以借助他国优势,弥补在技术和设备上的空白。然而,这也为中国特气行业的发展埋下了隐患。这一时期,中国半导体行业引进的大多为技术含量低的封测工序,在供应链中处于劣势状态,直接影响到上游特种气体的生产和供应水平。同时,由于下游半导体产业的发展原动力完全依赖政策投入,重视短期成果和效益,缺少长远观念,这种饮鸩止渴的思维一直蔓延到特气领域。靠与外国企业合作,就能收获不错的效益,加之技术上的差距又十分悬殊,很少有企业静下心来搞研发。相反,前沿的国外气体公司为了保持地位,每年在研发上投入巨额资金。以1995年为例,各主要气体公司研发投入为6100万美元,为1.446亿美元,这一支出在净利润中的占比达36.75%。值得一提的是,当年,英国BOC加工设备公司还设计开发了一种现场用的组装式制氮装备,特别适用于电子、金属等领域的生产。


所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中,需要使用四氟化碳。南通销售四氟化碳高性价比的选择

四氟化碳是不燃气体,如果遇到高热后会造成容器内压增大,有开裂、爆炸危险。常州直销四氟化碳高性价比的选择

四氟化碳,又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳,也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中,需要使用四氟化碳。在蚀刻过程中,用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉,附有油墨的电路上铜皮得以保留,之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干.高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体是极大规模集成电路行业必须的清洗、蚀刻气体。随着极大规模集成电路技术的提升,芯片制程向14纳米甚至7纳米的迈进,其对电子气体的纯度要求越来越高。为此,黎明院借助国家科技重大专项平台,突破产物合成、精制提纯、杂物分析、洁净充装等关键技术,攻克了高纯度四氟化碳和六氟化硫制备过程中微量杂质的纯化、分析等技术难题, 常州直销四氟化碳高性价比的选择

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