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四氟化碳基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • 不限
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四氟化碳企业商机

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时,由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;还可用于塑料行业;如:合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。在使用四氟化碳的同时,也要注意使用四氟化碳的注意事项,如在泄漏时,应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处,并进行隔离,严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风,加速扩散。如有可能,即时使用。漏气容器要妥善处理,修复、检验后再用。在等离子表面处理过程中用到四氟化碳的作用与应用?扬州安全四氟化碳价格走势

在使用四氟化碳的同时,也要注意使用四氟化碳的注意事项,如在泄漏时,应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处,并进行隔离,严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风,加速扩散。如有可能,即时使用。漏气容器要妥善处理,修复、检验后再用。四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。南通正规四氟化碳价格便宜四氟化碳在空气中不燃烧,是比较稳定的无毒物质。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体,广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性Chemicalbook极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格,各国为推动本国微电子工业发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,四氟化碳(CF4)以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体市场,因此具有广阔的发展潜力。

    CF4具有高的稳定性,属于完全不燃性气体,常温下不与酸、碱及氧化剂反应,900℃以下不与Cu、Ni、W、Mo等过渡金属反应,1000℃不与碳、氢及CH4反应。室温下可与液氨-金属钠试剂反应,高温下CF4可与碱金属、碱土金属及SiO2反应,生成相应的氟化物。CF4在800℃下开始分解,CF4在电弧作用下可与CO和CO2反应生成COF2,有人还试图在碳弧温度中使CF4聚合来合成其他碳氟化合物。由于C-F键的化学稳定性极强,因此以CF4为表示的全氟烃可认为是无毒的。CF4、C2F6和C3F8的全球变暖势(GWP)的下限值分别为620、190和53,呈明显下降趋势,且远小于氯氟烃(CFC)、SF6和CO2。 四氟化碳是无色无臭并且不燃的可压缩性气体。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时,由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;还可用于塑料行业;如:合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。四氟化碳使用注意事项有哪些?上海市正规四氟化碳

四氟化碳常温下不与铜、镍和钨反应。扬州安全四氟化碳价格走势

    就目前而言,四氟化碳以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场,因此具有广阔的发展潜力。以四氟化碳为表示的全氟烷广用作微电子行业中的等离子体蚀刻气体,近年来世界需求量日益扩大,市场看好。国外大公司纷纷扩大其产能。目前国内虽有全氟烷生产,但规模不大,技术落后,特别是纯度不能满足电子产品的需求。因此,有必要加强以四氟化碳为表示的全氟烷的生产与研究,特别是进一步开发氢氟烃直接氟化法和氟碳直接合成法工艺以及以吸附-低温精馏为表示的精制工艺,使其早日实现工业化生产。 扬州安全四氟化碳价格走势

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