(4)硬度的影响。如果EDI中进水的残存硬度太高，会导致浓缩水通道的膜表面结垢，浓水流量下降，产水电阻率下降;影响产水水质，严重时会堵塞组件浓水和极水流道，导致组件因内部发热而毁坏。5)TOC(总有机碳)的影响。进水中如果有机物含量过高，会造成树脂和选择透过性膜的有机污染，导致系统运行电压上升，产水水质下降。同时也容易在浓缩水通道形成有机胶体，堵塞通道。(6)进水中CO2的影响。进水中CO2生成的HCO3-是弱电解质，容易穿透离子交换树脂层而造成产水水质下降。(7)总阴离子含量(TEA)的影响。高的TEA将会降低EDI产水电阻率，或需要提高EDI运行电流，而过高的运行电流会导致系统电流增大，极水余氯浓度增大，对极膜寿命不利。另外，进水温度、pH值、SiO2以及氧化物亦对EDI系统运行有影响。 EDI超纯水设备可连续再生，不再需要备用离子交换设备。上海工业EDI超纯水的功能
◎通常为单级反渗透或二级反渗透的渗透水 ◎TEA（总可交换阴离子，以CaCO3计）：<25ppm。 ◎电导率：<40μS/cm ◎PH：6.0～9.0。当总硬度低于0.1ppm时，EDI良好工作的pH范围为8.0～9.0。 ◎温度：5～35℃。 ◎进水压力：<4bar（60psi）。 ◎硬度：（以CaCO3计）：<1.0ppm。 ◎有机物（TOC）：<0.5ppm。 ◎氧化剂：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。 ◎变价金属：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。 ◎H2S：<0.01ppm。 ◎二氧化硅：<0.5ppm。 ◎色度：<5APHA。 ◎二氧化碳的总量：<10ppm ◎SDI 15min：<1.0。宁波专业生产EDI超纯水的特点EDI超纯水设备可用于半导体集成电路板生产与清洗；
在典型的EDI系统中，进水的90-95%直接通过D室，5-10%的进水被分配进C室。浓水用泵打循环并使其在膜堆中达到较高的流速，这样可以起到提高除盐效率、促进水流的混合、降低可能的结垢等作用。浓缩离子可以通过从浓水循环回路中排除一定比例的水后而从膜堆中除去，这种PH在5-8的水可以回收或直接打回到预处理系统的入口。 在电去离子的过程中，将进水中的杂质离子去除后即制得好品质的除盐水。淡水室：离子交换树脂填充在阴离子交换膜和阳离子交换膜之间，以形成淡水单元。 浓缩室：在相邻的淡水单元的阴离子和阳离子交换膜之间添加树脂，以形成浓缩室。 极性水室：在电极板和相邻的离子交换腰之间添加树脂，以形成极性水室。一种部件具有正极和负极极性水室。 绝缘板和压力板。 电源和水的连接。
影响运行因素：(1)EDI进水电导率的影响。在相同的操作电流下，随着原水电导率的增加EDI对弱电解质的去除率减小，出水的电导率也增加。如果原水电导率低则离子的含量也低，而低浓度离子使得在淡室中树脂和膜的表面上形成的电动势梯度也大，导致水的解离程度增强，极限电流增大，产生的H+和OH-的数量较多，使填充在淡室中的阴、阳离子交换树脂的再生效果良好。 (2)工作电压-电流的影响。工作电流增大，产水水质不断变好。但如果在增至高点后再增加电流，由于水电离产生的H+和OH-离子量过多，除用于再生树脂外，大量富余离子充当载流离子导电，同时由于大量载流离子移动过程中发生积累和堵塞，甚至发生反扩散，结果使产水水质下降。 (3)浊度、污染指数(SDI)的影响。EDI组件产水通道内填充有离子交换树脂，过高的浊度、污染指数会使通道堵塞，造成系统压差上升，产水量下降。如果原水在EDI工艺前不经过预处理，就会缩短设备使用寿命，给用户带来经济负担。
RO纯水的应用场景 1.食品行业运用RO膜元件进行浓缩分离。 2.海水资源开发中可以运用海水淡化RO膜对水质进行脱盐处理。 3.在工业生产、医药、电镀等领域，利用RO膜元件对水质进行净化，降低水质电阻率，满足行业生产用水要求。 4.饮用水处理过领域，使用RO膜进行饮用水的除杂过滤。 EDI纯水的应用场景 1. 电厂化学水处理 2. 电子、半导体、精密机械行业超纯水 3. 制药工业工艺提纯用水 4. 食品、饮料、饮用水的制备 5. 海水、苦咸水的淡化 6. 精细化工、精尖学科用水 EDI纯水和RO纯水制成的纯水是两种不同的纯水，里面的物质含量是不同的，没有哪个好哪个不好之说，只是看工业生产需要，有些工艺环节需要EDI纯水，有些工艺环节需要RO纯水。在很多工业生产中，EDI设备和RO设备都会进行购买，而不是单单购买一种，不同的环节需要不同的纯水。在现在越来越精细化的生产中，各种工业设备往往不是单一存在的，大多数情况下是由多种设备组合构成的循环工艺。EDI超纯水设备可用于晶圆的切割、清洗、再生、封测用水、半导体设备清洗、电子级无尘布无尘服清洗；南京水处理EDI超纯水工艺流程
EDI纯水可以广泛应用于精密的生化试验、生物试剂的制备上。上海工业EDI超纯水的功能
EDI超纯水设备的主要用途： 1、半导体行业：用于晶圆6-12英寸的切割、清洗、再生、封测用水、半导体设备清洗、电子级无尘布无尘服清洗； 2、太阳能光伏行业：单晶硅、多晶硅切片清洗、太阳能电池、石英坩埚、多晶硅方舟、光伏玻璃、高纯硅粉； 3、LCD、LED、OLED生产清洗用水、光学摄像头清洗、光学材料清洗、导电玻璃清洗； 4、锂电池材料(磷酸铁锂、三元材料、锂电池隔膜)、蓄电池、锌锰电池生产； 5、半导体集成电路板，线路板生产清洗用超纯水； 6、电子级超纯化学试剂用纯水、纳米级电子陶瓷材料纯水、高超磁性材料用纯水； 7、有色金属、贵金属冶炼用水、航空新材料生产用水、电容器材料腐蚀化工艺用水、真空镀膜、高纯墨水。 8、食品、饮料等行业卫生级超纯水处理 9、制取热力、火力发电锅炉，厂矿企业高、中、低压锅炉给水所需超纯水处理 10、制药、医疗、生命科学等行业的纯化水处理 11、化妆品制造、家电涂装、涂料、油漆、精细加工清洗等工艺用高纯水上海工业EDI超纯水的功能
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