QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的重要部分是Nanoscribe独有专项的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点在于：这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步，这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小，并在不影响速度的情况下，使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。了解更多关于灰度光刻技术各种应用，欢迎咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。湖南工业级灰度光刻无掩膜激光直写
这种设计策略不仅可用于改进现有的传感器，该项目还旨在展示具有动态移动部件的新型传感器概念的可行性。在第二种设计中，研究人员在一根光纤的端面3D打印了一个微型转子。从转子上反射出的光脉冲可以被读取，因此该传感器可以被用于分析流速。
FabryPérot传感器进行温度和折射率感应的测试装置图。图片：资料来源见本文下方。通过动态可旋转的3D微纳加工概念，研究人员展示了智能设计如何改进现有的传感器，并为整个新的微型化传感器概念铺平道路的能力。 湖南灰度光刻技术灰度光刻技术作为一种新型的光刻技术，具有突破传统光刻技术的优势。
超高速灰度光刻技术是一项带领科技发展的重大突破，为我们带来了无限可能。这项技术的出现，将彻底改变我们对光刻的认知，为各行各业带来了巨大的创新机遇。超高速灰度光刻技术主要是利用高能激光束对材料进行精确的刻蚀，从而实现微米级甚至纳米级的精细加工。相比传统的光刻技术，超高速灰度光刻技术具有更高的加工速度和更精确的刻蚀效果。这意味着我们可以在更短的时间内完成更复杂的加工任务，提高了生产效率。超高速灰度光刻技术在电子、光电子、生物医药等领域具有广泛的应用前景。在电子领域，它可以用于制造更小、更快的芯片和电路板，推动电子产品的迭代升级。在光电子领域，它可以用于制造高精度的光学元件，提高光学设备的性能。在生物医药领域，它可以用于制造微型生物芯片和生物传感器，实现更精确的医学诊断。
微纳3D打印其实和与灰度光刻有点相似，但是原理不同，我们常见的微纳3D打印技术是双光子聚合和微纳金属3D打印技术，利用该技术我们理论上可以获得任意想要的结构，不光是微透镜阵列结构（如下图5所示），该方法的优势是可以完全按照设计获得想要的结构，对于双光子聚合的微结构，我们需要通过LIGA工艺获得金属模具，但是对于微纳金属3D打印获得的微纳米结构可以直接进行后续的复制工作，并通过纳米压印技术进行复制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接触式光刻）或者计算机控制激光束或者电子束剂量从而达到在某些区域完全曝透，而某些区域光刻胶部分曝光，从而在衬底上留下3D轮廓形态的光刻胶结构（如下图4所示，八边金字塔结构）。微透镜阵列也是类似，可以通过剂量分布的控制来控制其轮廓形态，灰度光刻可以***缩短制造时间，提高生产效率。
双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件，可以直接作为原型使用，也可以作为批量生产母版工具。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您详细讲解灰度光刻技术。江苏高分辨率灰度光刻3D打印
实现对光刻胶表面深度的精确控制，从而制备出更加复杂和精细的微纳结构。湖南工业级灰度光刻无掩膜激光直写
Quantum X 新型超高速无掩模光刻技术的重要部分是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系统非常适合DOE的制作。湖南工业级灰度光刻无掩膜激光直写
