PT并列弧光研发

    馈线弧光保护装置（开关柜防暴保护）顾名思义就是在每一个有断路器的开关柜上安装一台馈线弧光保护装置。馈线弧光保护不仅可以实现对本柜的常规线路保护之外，当产生弧光故障时，会很好时间跳开保护的开关柜。监测的弧光点可以选配1-3路。这样除了可以保护母线室之外，也可以对电缆室以及断路器室进行弧光监测及保护。此类方案相对而言，保护的功能更加细化。测试点分布比较均匀完整，当出现弧光危害时，装置不会因为某一段的故障而跳开整个母线系统。但是此类方案在弧光危害过大的情况发生时保护能力相对较弱。动作时间也会相对增加。馈线弧光保护装置，还可以通过接入压力传感器，烟雾传感器，测温传感器，来对整个开关柜进行多维度的监测和预警。为什么很多大型项目都要加装弧光保护？PT并列弧光研发

电弧光保护设备的优点：可以通过对电弧光的检测处理，并结合相应的过流闭锁，也因此其结构较为简略。动作灵敏：1、可凭借通过检测其信号，使整套母线的保护动作时间可以达到5-7ms。2、可选用检测弧光的信号以及过流闭锁的双判据原理，由此可完结保护的一个可靠动作整套系统进行连续自检，并可充分的整套系统进行作业的一个安全性和可靠性。快速处理：对于缺点点定位PC机会闪现其所发生的位置，因此可以便利、快速的去处理缺点，并达到恢复供电的效果。为什么弧光投标在整个弧光保护系统中，有各种起到不同作用的组件，那么这些组件分别是什么呢?

    微机型弧光保护装置为方便事故分析，需要装置原始记录、装置版本信息以及现场故障处理过程的说明。特别建议用户妥善保存装置的保护动作报告。需要试验时，为了避免频繁试验覆盖故障当时的故障信息，在进行开出测试或者保护试验前，需可靠保存故障当时的故障信息，需对装置内部存储的信息以及通信主站存储的信息进行完整的保存（抄录或通信主站打印）。保存的信息包括保护动作报告、装置事件报告、状态变位报告、装置操作报告、装置告警报告、保护定值和开入量状态、故障时保护和测量数据。现场的其他信息也应记录，包括事件过程、保护装置指示灯状态、主画面显示内容。如确定有插件损坏，在更换插件时须仔细观察插件状态（包括有无异味、烧痕、元器件异状等）。如有特殊情况，请通知厂家协助故障信息获取与保存。

    母线及馈线弧光保护组合系统：在新建的一些中大型项目中，建议使用母线及馈线弧光保护组合的系统。一般情况下，母线弧光保护装置，主要监测母线室内的弧光故障。当任何一个开关柜的母线室产生弧光同时进线柜电流产生明显异常时跳闸进线柜。馈线弧光保护装置，主要监测断路器室和电缆室的弧光故障。当本柜内断路器室和电缆室产生弧光故障，馈线弧光自身跳开本侧开关柜。不影响其他临柜的运行。于此同时馈线弧光发出动作信号给母线弧光保护单元。母线弧光保护根据馈线弧光的动作信号以及进线侧电流运行情况，选择性进行跳闸。此类方案，从应用性和安全性上来说都是比较高的。用户可以根本性的实现对开关柜及母线系统的弧光监测。有效避免弧光事故的发生。不过项目前期施工工序较复杂，因此在改造项目中应用相对有限。220KV变电站弧光保护方案介绍。

在柜体内形成电弧的过程可分为四个阶段: 压缩阶段:电弧占据了整个空气空间，由于持续的释放能量产生过热，导致对流和辐射，保留在柜内的空气被加热，在整个初级阶段不同区域的温度和压力值不一样。 扩展阶段:从这一瞬间开始，内部压力增加，由于过热的空气开始流动而形成一个空洞。在这个阶段其压力达到大值，并因为热空气的释放而开始减弱。 发射阶段:由于电弧能量的持续释放，几乎所有的空气均被一个缓和但恒定的压力挤压出去。 发热阶段:在驱逐出空气后，柜内的温度几乎达到电弧的温度。阶段就由此开始，直至熄灭。此时，所有金属和绝缘体在受到产生的气体、烟雾和溶蚀物质颗粒的侵蚀后，已融为一体了。 当电弧出现在非常封闭的设备环境时，可能不会出现上述某些阶段或者只有较少的影响;然而，在电弧的周围，会形成压力波、并导致温度的上升。弧光传感器的种类有哪些？馈线型弧光单判据

弧光保护装置是母线型弧光保护系统的主要内核设备。PT并列弧光研发

弧光保护弥补母线缺陷：从保护设计的系统可靠性来看，变压器、进线、馈线都有主保护，唯独母线没有特用的主保护，我们认为母线应该增加特用主保护。虽然母线故障出现概率较低，但一旦出现将损失惨重。因此，从技术、设计方面建议配置母线特用主保护，以确保操作人员的人身安全及系统的安全、稳定运行。 开关设备内电弧光产生的人为原因有误入带电间隔、隔离开关误操作、带接地线合闸、忘记测量工作区内的电压。技术原因有设备故障和带电设备的误操作，设备正常检修后，遗漏工具在开关设备内，错误的接线和母线连接，绝缘老化和机械磨损、过电压、小动物（尤其是老鼠）、灰尘、温度、湿度、腐蚀等环境因素。如果在开关柜内发生电弧光故障，由于开关柜中的空气压力和温度迅速增加，如果不及时切除，将造成人员伤亡、设备损坏等重大损失。PT并列弧光研发

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