详解肖特基二极管的作用及接法-肖特基二极管的应用肖特基二极管肖特基二极管是以其发明人肖特基博士(Schottky)命名的,SBD是肖特基势垒二极管(SchottkyBarrierDiode,缩写成SBD)的简称。SBD不是利用P型半导体与N型半导体接触形成PN结原理制作的,而是利用金属与半导体接触形成的金属-半导体结原理制作的。因此,SBD也称为金属-半导体(接触)二极管或表面势垒二极管,它是一种热载流子二极管。肖特基二极管的作用肖特基二极管的作用如下:肖特基二极管肖特基(Schottky)二极管,又称肖特基势垒二极管(简称SBD),它属一种低功耗、超高速半导体器件。的特点为反向恢复时间极短(可以小到几纳秒),正向导通压降。其多用作高频、低压、大电流整流二极管、续流二极管、保护二极管,也有用在微波通信等电路中作整流二极管、小信号检波二极管使用。在通信电源、变频器等中比较常见。一个典型的应用,是在双极型晶体管BJT的开关电路里面,通过在BJT上连接Shockley二极管来箝位,使得晶体管在导通状态时其实处于很接近截止状态,从而提高晶体管的开关速度。这种方法是74LS,74ALS,74AS等典型数字IC的TTL内部电路中使用的技术。肖特基。上海藤谷电子科技有限公司致力于提供二极管,欢迎您的来电哦!福建数字二极管咨询报价
本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本申请的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“”、“第二”等用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。经本申请的发明人研究发现,现有肖特基二极管的钝化层和氧化层因材质不同,热膨胀系数不同,在肖特基二极管的使用过程中,由于器件的工作温度的变化,钝化层和氧化层会在彼此结合处存在剪切力,从而在结合处出现微小缝隙。在肖特基二极管存放或使用过程中,环境中的水汽可能会从微小缝隙侵入肖特基结,导致肖特基二极管短路失效。为了解决上述技术问题,发明人创新性地设计以下的肖特基二极管结构。请参照图1。福建微型二极管规范二极管,就选上海藤谷电子科技有限公司,让您满意,有想法可以来我司咨询!
能制作开关二极管低压大电流整流二极管。图5降压稳压器BUCK电路中肖特基二极管的使用图6中,开关A和B已分别使用内部NFET和外部肖特基二极管,从而形成异步升压调节器。对于需要负载隔离和低关断电流的低功耗应用,可添加外部FET。图6升压调节器BOOST电路中肖特基二极管的使用顺便提一下,整流MOS管开通,关断所产生的纹波是主要噪声源之一。开关管开通关断都会有一个上升时间和下降时间,在电路中会引起同频的噪声。输出回路的电感也会随着充电放电产生一个噪声,同时也会有漏感产生。而解决办法就是:1、用合适的滤波器滤除。2、在MOS管外加肖特基二极管,反向恢复时间很短,可以降低损耗。图7同步整流器BUCK电路的基本框图该内容是小编通过网络搜集资料整理而成,如果你还想了解更多关于电子元器件的相关知识及电子元器件行业实时市场信息。
将电路电压箝制在安全电压水平,TVS1可以保护变压器后端整流器及其他电路元器件。在整流器后的直流电源输出端安装单向瞬态电压器TVS2,用于保护直流负载免受过电压电电流冲击。4、TVS管在晶体管电路的应用晶体三极管作为电流控制型器件,是电子集成电路中的重要组成部分,可分为NPN管和PNP管两类,应用于开关电路、放大电路和稳压电路。为了使晶体管电路免受ESD/EFT(静电放电/电快速瞬变脉冲群)等浪涌电压的干扰,在电路的输入端和输出端分别加入TVS1、TVS2进行保护。名词解释:小击穿电压VBR:VBR是TVS小的击穿电压,在25℃时,低于这个电压TVS是不会发生雪崩的。当TVS流过规定的1mA电流(IR)时,加于TVS两极的电压为其小击穿电压VBR。按TVS的VBR与标准值的离散程度,可把VBR分为5%和10%两种。额定反向关断电压VWM:VWM这是二极管在正常状态时可承受的电压,此电压应大于或等于被保护电路的正常工作电压,否则二极管会不断截止回路电压;但它又需要尽量与被保护回路的正常工作电压接近,这样才不会在TVS工作以前使整个回路面对过压威胁。比较大箝位电压VC:当持续时间为20mS的脉冲峰值电流IPP流过TVS时,在其两端出现的比较大峰值电压为VC。上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管,欢迎新老客户来电!
并部分延伸至所述氧化层上;在所述氧化层远离所述肖特基结的两端进行蚀刻形成防水槽;在所述氧化层远离所述衬底一侧制作钝化层,其中,所述钝化层包括填充于所述防水槽并在所述防水槽的位置形成与防水槽咬合的凸起。在本申请的一种可能实施例中,蚀刻所述氧化层,在所述外延层远离所述衬底的一侧形成半导体环的步骤,包括:在所述氧化层远离所述衬底的一侧均匀涂覆光刻胶层;通过带有半导体环图案的掩模对所述光刻胶层进行光刻,在所述光刻胶层上刻出半导体环图案;使用腐蚀溶剂对所述氧化层进行腐蚀,将所述半导体环图案转移到所述氧化层;使用光刻胶溶剂将所述氧化层残留的光刻胶去除;在所述半导体环图案对应区域注入离子,经扩散炉中退火处理在所述半导体环图案对应区域形成半导体环。在本申请的一种可能实施例中,将所述半导体环之间的所述氧化层蚀刻掉,在蚀刻后形成的区域中制作肖特基结的步骤,包括:在所述氧化层远离所述衬底的一侧涂覆光刻胶层;通过带有肖特基结图案的掩模对所述光刻胶层进行光刻,在所述光刻胶层上刻出肖特基结图案;用腐蚀溶剂进行腐蚀,将所述肖特基结图案转移到所述氧化层;蚀刻所述肖特基结图案对应区域内残留的氧化层;通过物相淀积法。上海藤谷电子科技有限公司是一家专业提供二极管的公司,欢迎您的来电!广东微型二极管咨询报价
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本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现:本发明实施例提供了一种用于整流电路的肖特基二极管,包括:衬底层001、ge层002、压应力层003、金属电极a1、第二金属电极a2,其中,所述ge层002、所述氮化硅层依次层叠设置于所述衬底层001的表面,所述压应力层003设置有电极孔,所述金属电极a1设置于所述ge层002上且设置于所述电极孔中,所述第二金属电极a2设置于所述衬底层001与所述表面相对设置的第二表面。在本发明的一个实施例中,所述ge层002为n型ge层,掺杂浓度为×1014~2×1014cm-3。在本发明的一个实施例中,所述压应力层003为氮化硅层。在本发明的一个实施例中,所述氮化硅层为si3n4膜。在本发明的一个实施例中,所述压应力层003使所述ge层002内产生压应力,所述ge层002中的压应力的大小与制备所述压应力层003的反应温度相关,其中,所述反应温度越高,所述ge层002中的压应力越大。在本发明的一个实施例中,所述ge层002的厚度为700~800nm。在本发明的一个实施例中,所述衬底层001为n型单晶ge层。在本发明的一个实施例中,所述金属电极a1为钨电极。在本发明的一个实施例中,所述电极孔贯穿所述压应力层003且设置于所述压应力层003中部。福建数字二极管咨询报价
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