淀积的金属和硅形成金属硅化物,形成肖特基结108,再使用王水去除表面未发生反应的多余金属。步骤s305,请参照图4e,在肖特基结108及靠近肖特基结108的氧化层103上制作金属层105,并在衬底101远离外延层102的一侧制作第二金属层106。在本申请实施例中,金属层105覆盖在肖特基结108及半导体环104上,并部分延伸至氧化层103。通常金属层105和第二金属层106可以采用tiniag、tiniau、tinial或tinialag等多层金属。具体地,在制作金属层105,在真空度为3e-6torr、温度为190℃的环境下持续加热45分钟,依次在肖特基结108及靠近肖特基结108的氧化层103上沉积多层金属,制作形成金属层105。蒸发过程真空必须保持高真空状态,避免蒸发金属过程中金属被氧化,导致金属间接触不良。采用相同的工艺在衬底101远离外延层102的一侧制作第二金属层106。步骤s306,请参照图4f,在氧化层103远离肖特基结108的两端进行蚀刻形成防水槽1031。在氧化层103远离肖特基结108两端的表面涂覆光刻胶层。通过带有防水槽图案的掩模对光刻胶层进行光刻,在光刻胶层上刻出防水槽图案。再接着,用腐蚀溶剂进行腐蚀,将防水槽图案转移到氧化层103。,蚀刻防水槽图案对应区域的氧化层103,形成防水槽1031。上海藤谷电子科技有限公司致力于提供二极管,欢迎您的来电!湖北标准二极管价格便宜
本发明实施例通过在n型ge层淀积氮化硅层产生压应力从而使n型ge层内产生压应力,n型ge层内通过施加压应力引起能带结构的调制,反映在能带图上就是导带底的曲率发生改变,即改变了导带电子的有效质量,引起各散射机制中散射概率的改变,进而提高了n型ge层内的电子迁移率。进一步地,将ge层中引入应力的方式还有通过掺杂和热失配等,与通过掺杂和热失配等引入应变的方式相比而言,氮化硅层致ge层应变的工艺更加简单,且不会因为晶格失配产生大量缺陷,故而能够得到质量更好的压应变ge层,因此可以提高制备的肖特基二极管器件的性能。具体地,在ge层002中的应力大小与压应力层003的制备条件相关,具体地,其他工艺条件不变的情况下,压应力层003反应温度越高,压应力层003使ge层002中的产生的应力越大,且呈一定的线性关系。在其他工艺条件不变的情况下,压应力层003使ge层002中的产生的应力越小。在其他工艺条件不变的情况下,低频功率越大,形成压应力层003使ge层002中的产生的应力越大。设fwg为氮化硅层使所述ge层002中产生的压应力大小,则fwg和温度tp的关系满足:fwg=×fwg的单位为pa,twg的单位为摄氏度。具体地,在其他工艺条件不变的情况下,压强越高。湖北标准二极管价目二极管,就选上海藤谷电子科技有限公司,用户的信赖之选,欢迎您的来电!
本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现:本发明实施例提供了一种用于整流电路的肖特基二极管,包括:衬底层001、ge层002、压应力层003、金属电极a1、第二金属电极a2,其中,所述ge层002、所述氮化硅层依次层叠设置于所述衬底层001的表面,所述压应力层003设置有电极孔,所述金属电极a1设置于所述ge层002上且设置于所述电极孔中,所述第二金属电极a2设置于所述衬底层001与所述表面相对设置的第二表面。在本发明的一个实施例中,所述ge层002为n型ge层,掺杂浓度为×1014~2×1014cm-3。在本发明的一个实施例中,所述压应力层003为氮化硅层。在本发明的一个实施例中,所述氮化硅层为si3n4膜。在本发明的一个实施例中,所述压应力层003使所述ge层002内产生压应力,所述ge层002中的压应力的大小与制备所述压应力层003的反应温度相关,其中,所述反应温度越高,所述ge层002中的压应力越大。在本发明的一个实施例中,所述ge层002的厚度为700~800nm。在本发明的一个实施例中,所述衬底层001为n型单晶ge层。在本发明的一个实施例中,所述金属电极a1为钨电极。在本发明的一个实施例中,所述电极孔贯穿所述压应力层003且设置于所述压应力层003中部。
但若重复施加,这些单个的脉冲能量积累起来,在某些情况下,也会超过TVS器件可承受的脉冲能量。因此,电路设计必须在这点上认真考虑和选用TVS器件,使其在规定的间隔时间内,重复施加脉冲能量的累积不至超过TVS器件的脉冲能量额定值。6.电容CPPTVS的电容由硅片的面积和偏置电压来决定,电容在零偏情况下,随偏置电压的增加,该电容值呈下降趋势。电容的大小会影响TVS器件的响应时间。7.漏电流IR当比较大反向工作电压施加到TVS上时,TVS管有一个漏电流IR,当TVS用于高阻抗电路时,这个漏电流是一个重要的参数。:按极性可分为:单极性和双极性两种;按用途可分为:通用型和型;按封装和内部结构可分为:轴向引线二极管、双列直插TVS阵列、贴片式和大功率模块等。轴向引线的产品峰值功率可达400W、500W、600W、1500W和5000W。其中大功率的产品主要用在电源馈线上,低功率产品主要用在高密度安装场合。对于高密度安装的场合,也可以选择双列直插和表面贴装等封装形式。上海藤谷电子科技有限公司致力于提供二极管,有需要可以联系我司哦!
导通压降VF:VF为二极管正向导通时二极管两端的压降,选择肖特基二极管是尽量选择VF较小的二极管。22.反向饱和漏电流IR:IR指在二极管两端加入反向电压时,流过二极管的电流,肖特基二极管反向漏电流较大,选择肖特基二极管是尽量选择IR较小的二极管。33.额定电流IF:指二极管长期运行时,根据允许温升折算出来的平均电流值。44.比较大浪涌电流IFSM:允许流过的过量的正向电流。它不是正常电流,而是瞬间电流,这个值相当大。55.比较大反向峰值电压VRM:即使没有反向电流,只要不断地提高反向电压,迟早会使二极管损坏。这种能加上的反向电压,不是瞬时电压,而是反复加上的正反向电压。因给整流器加的是交流电压,它的比较大值是规定的重要因子。比较大反向峰值电压VRM指为避免击穿所能加的比较大反向电压。66.比较大直流反向电压VR:上述比较大反向峰值电压是反复加上的峰值电压,VR是连续加直流电压时的值。用于直流电路,比较大直流反向电压对于确定允许值和上限值是很重要的。77.比较高工作频率fM:由于PN结的结电容存在,当工作频率超过某一值时,它的单向导电性将变差。肖特基二极管的fM值较高,比较大可达100GHz。二极管,就选上海藤谷电子科技有限公司,用户的信赖之选,有需求可以来电咨询!江西二极管二极管价目
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锗管Is=30~300μA。比较高工作频率Fm:指二极管能保持良好工作特性的比较高工作频率。不同用途的二极管差异01整流二极管大部分二极管所具备的电流方向性我们通常称之为“整流(Rectifying)”功能,将交流电能转变为直流电能。面接触结构,多采用硅材料,能承受较大的正向电流和较高的反向电压。性能较稳定,但因结电容较大,不宜工作在高频电路中,所以不能作为检波管使用。有金属和塑料封装。02检波二极管检波二极管是用于把叠加在高频载波上的低频信号检出来的器件,它具有较高的检波效率和良好的频率特性。锗材料点接触型、工作频率可达400MHz,正向压降小,结电容小,检波效率高,频率特性好,为2AP型。类似点触型那样检波用的二极管,除用于检波外,还能够用于限幅、削波、调制、混频、开关等电路。也有为调频检波的特性一致性好的两只二极管组合件。多采用玻璃封装或陶瓷外壳封装,以获得良好的高频特性。03开关二极管开关二极管是半导体二极管的一种,是为在电路上进行“开”、“关”而特殊设计制造的一类二极管。它由导通变为截止或由截止变为导通所需的时间比一般二极管短。开关二极管的势垒电容一般极小,这就相当于堵住了势垒电容这条路。湖北标准二极管价格便宜
上海藤谷电子科技有限公司拥有上海藤谷电子科技有限公司,位于上海市宝山区,依托**科研院所,从事半导体集成电路设计开发,电子元器件,功率器件相关芯片,陶瓷覆铜板的研发与应用,以及相关半导体设备,材料的技术支持,销售。公司秉承“以创新求发展,以质量求生存,以诚信至上为宗旨”,将以严谨、务实的管理,创新、开拓的风貌,竭诚为各方客户服务。 等多项业务,主营业务涵盖功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管。公司目前拥有专业的技术员工,为员工提供广阔的发展平台与成长空间,为客户提供高质的产品服务,深受员工与客户好评。公司业务范围主要包括:功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管等。公司奉行顾客至上、质量为本的经营宗旨,深受客户好评。公司凭着雄厚的技术力量、饱满的工作态度、扎实的工作作风、良好的职业道德,树立了良好的功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管形象,赢得了社会各界的信任和认可。