本发明实施例通过在n型ge层淀积氮化硅层产生压应力从而使n型ge层内产生压应力,n型ge层内通过施加压应力引起能带结构的调制,反映在能带图上就是导带底的曲率发生改变,即改变了导带电子的有效质量,引起各散射机制中散射概率的改变,进而提高了n型ge层内的电子迁移率。进一步地,将ge层中引入应力的方式还有通过掺杂和热失配等,与通过掺杂和热失配等引入应变的方式相比而言,氮化硅层致ge层应变的工艺更加简单,且不会因为晶格失配产生大量缺陷,故而能够得到质量更好的压应变ge层,因此可以提高制备的肖特基二极管器件的性能。具体地,在ge层002中的应力大小与压应力层003的制备条件相关,具体地,其他工艺条件不变的情况下,压应力层003反应温度越高,压应力层003使ge层002中的产生的应力越大,且呈一定的线性关系。在其他工艺条件不变的情况下,压应力层003使ge层002中的产生的应力越小。在其他工艺条件不变的情况下,低频功率越大,形成压应力层003使ge层002中的产生的应力越大。设fwg为氮化硅层使所述ge层002中产生的压应力大小,则fwg和温度tp的关系满足:fwg=×fwg的单位为pa,twg的单位为摄氏度。具体地,在其他工艺条件不变的情况下,压强越高。上海藤谷电子科技有限公司是一家专业提供二极管的公司,有想法的不要错过哦!上海专业二极管进货价
锗管Is=30~300μA。比较高工作频率Fm:指二极管能保持良好工作特性的比较高工作频率。不同用途的二极管差异01整流二极管大部分二极管所具备的电流方向性我们通常称之为“整流(Rectifying)”功能,将交流电能转变为直流电能。面接触结构,多采用硅材料,能承受较大的正向电流和较高的反向电压。性能较稳定,但因 大,不宜工作在高频电路中,所以不能作为检波管使用。有金属和塑料封装。02检波二极管检波二极管是用于把叠加在高频载波上的低频信号检出来的器件,它具有较高的检波效率和良好的频率特性。锗材料点接触型、工作频率可达400MHz,正向压降小,结电容小,检波效率高,频率特性好,为2AP型。类似点触型那样检波用的二极管,除用于检波外,还能够用于限幅、削波、调制、混频、开关等电路。也有为调频检波的特性一致性好的两只二极管组合件。多采用玻璃封装或陶瓷外壳封装,以获得良好的高频特性。03开关二极管开关二极管是半导体二极管的一种,是为在电路上进行“开”、“关”而特殊设计制造的一类二极管。它由导通变为截止或由截止变为导通所需的时间比一般二极管短。开关二极管的势垒电容一般极小,这就相当于堵住了势垒电容这条路。虅谷二极管成本上海藤谷电子科技有限公司致力于二极管,有想法可以来我司咨询!
即便环境中存在水汽,水汽在侵入时也会聚集在防水凹槽,不会进入到肖特基结,确保肖特基二极管不会失效。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本申请实施例提供的一种肖特基二极管的结构示意图之一;图2为本申请实施例提供的一种肖特基二极管的结构示意图之二;图3为本申请实施例提供的制造图1中肖特基二极管的方法流程示意图;图4a-图4f为本申请实施例提供的制造图1中肖特基二极管的制造工艺示意图;具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围,而是表示本申请的选定实施例。基于本申请的实施例。
因氧化层开设有防水凹槽,即便环境中存在水汽,水汽在侵入时也会聚集在防水槽1031,不会进入到肖特基结,进一步确保肖特基二极管不会失效。在本申请实施例的一种可能的实施方式中,衬底101和外延层102可以为n型半导体层,半导体环104可以为p型半导体环。在本申请实施例的另一种可能的实施方式中,衬底101和外延层102可以为p型半导体层,半导体环104可以为n型半导体环。在本申请实施例中,在衬底101和外延层102为n型半导体层,半导体环104为p型半导体环时,衬底101可以为重掺杂半导体层,衬底101的电阻率可以为ω·cm;外延层102可以为轻掺杂半导体层,外延层102的电阻率可以为ω·cm,其中,外延层102的厚度可以为5μm-30μm。防水槽1031可以是一种规则形状的凹槽,也可以是不规则形状的凹槽。例如图1及图2所示,防水槽1031可以是u型槽,也可以是v型槽,当然还可以是其他形状的凹槽或者不同形状凹槽的组合。防水槽1031的深度小于氧化层103的厚度。在本申请实施例中,肖特基结108由多层金属组成,具体地,该多层金属可以包括ti、ni、ag等。请参照图3,本申请实施例还提供一种用于制造上述肖特基二极管10的制造方法,该制造方法包括以下步骤:步骤s301,请参照图4a。上海藤谷电子科技有限公司致力于提供二极管,欢迎您的来电哦!
可以使用h2so4:h2o2=5:1的化学试剂去除光刻胶。,在半导体环图案对应区域注入离子,经扩散炉中退火处理在半导体环图案对应区域形成半导体环104。具体地,可以在半导体环图案对应区域注入离子(比如硼离子),使用h2so4:h2o2=5:1的化学试剂去除表面沾污,然后送入扩散炉,经过1000℃退火,形成半导体环104。步骤s304,请参照图4d,将半导体环104之间的氧化层103蚀刻掉,在蚀刻后形成的区域中制作肖特基结108。在氧化层103远离衬底101的一侧涂覆光刻胶层。通过带有肖特基结图案的掩模对光刻胶层进行光刻,在光刻胶层上刻出肖特基结图案。再接着,蚀刻肖特基结图案对应区域的氧化层103。具体地,使用腐蚀溶剂boe(nh4f40%+hf7%),在211℃的温度条件下,透过肖特基结图案对氧化层103进行腐蚀,将光刻胶层上的半导体环图案转移到氧化层103上。用化学试剂sc2(hcl:h2o2:h2o=1:1:6-1:2:8)清洗20分钟,去除表面颗粒,然后用hf的水溶液漂30秒去除肖特基结图案内残余氧化层103。,通过物相淀积法,在肖特基结图案对应区域淀积金属和硅形成金属硅化物,得到肖特基结108。通过物相淀积金属(ti/ni/pt/nipt/cr/nicr等金属),金属淀积后放入扩散炉中退火处理。上海藤谷电子科技有限公司是一家专业提供二极管的公司。湖北正规二极管价格对比
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击穿电压V(BR)器件在发生击穿的区域内,在规定的试验电流I(BR)下,测得器件两端的电压称为击穿电压,在此区域内,二极管成为低阻抗的通路。2.比较大反向脉冲峰值电流IPP在反向工作时,在规定的脉冲条件下,器件允许通过的比较大脉冲峰值电流。IPP与比较大箝位电压Vc(MAX)的乘积,就是瞬态脉冲功率的比较大值。使用时应正确选取TVS,使额定瞬态脉冲功率PPR大于被保护器件或线路可能出现的比较大瞬态浪涌功率。当瞬时脉冲峰值电流出现时,TVS被击穿,并由击穿电压值上升至比较大箝位电压值,随着脉冲电流呈指数下降,箝位电压亦下降,恢复到原来状态。因此,TVS能可能出现的脉冲功率的冲击,从而有效地保护电子线路。峰值电流波形A.正弦半波B.矩形波C.标准波(指数波形)D.三角波TVS峰值电流的试验波形采用标准波(指数波形),由TR/TP决定。峰值电流上升时间TR:电流从10%IPP开始达到90%IPP的时间。半峰值电流时间TP:电流从零开始通过比较大峰值后,下降到。下面列出典型试验波形的TR/TP值:/1000nsB.闪电波:8μs/20μsC.标准波:10μs/1000μs3.比较大反向工作电压VRWM(或变位电压)器件反向工作时,在规定的IR下,器件两端的电压值称为比较大反向工作电压VRWM。通常VRWM=()V(BR)。上海专业二极管进货价
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