二极管是基本的电路器件,硬件工程师经常使用,但你未必能用对,未必能用好。比如说大家都知道接口部分一般都需要ESD保护,其实TVS瞬变电压二级管用作ESD保护就极为讲究,对于,HDMI接口等高速器件,要特别关注TVS管上的结电容参数,一般根据信号速率选取几个pf,如果电容值过大,电路将无法正常工作,但是对于一般的低速接口或者电源管脚,此时可以选择寄生电容值大的TVS管,因为更便宜,控制BOM的成本也是硬件工程师的重要职责,数据手册中结电容如下图一所示。实际的工程实际中,二极管常用于交流电压转换成直流电压电路中,也常常用来做稳压电路,限幅电路,续流电路,挑几个常见且重要的电流来分析一下。图1TVS管中结电容的参数情况二极管的作用就如同是一个电流的单向门。当二极管的阳极相对于阴极为正电压时,二极管允许电流通过,而当极性相反后,二极管不允许电流通过。上海衡丽图2二极管符号及种类1.二极管作用的类比水流模拟课本中经常将电压比作水压来模拟,同样二极管的功能也可以类似水流来模拟。二极管相对电流就像是一个单向阀门,比如下图的正向偏置时,只要偏置电压超过阈值电压,阀门就会打开,水流可以顺利流下来;对于反向偏置时,阀门无法打开。二极管,就选上海藤谷电子科技有限公司,让您满意,期待您的光临!河北现代二极管价目
本发明实施例通过在n型ge层淀积氮化硅层产生压应力从而使n型ge层内产生压应力,n型ge层内通过施加压应力引起能带结构的调制,反映在能带图上就是导带底的曲率发生改变,即改变了导带电子的有效质量,引起各散射机制中散射概率的改变,进而提高了n型ge层内的电子迁移率。进一步地,将ge层中引入应力的方式还有通过掺杂和热失配等,与通过掺杂和热失配等引入应变的方式相比而言,氮化硅层致ge层应变的工艺更加简单,且不会因为晶格失配产生大量缺陷,故而能够得到质量更好的压应变ge层,因此可以提高制备的肖特基二极管器件的性能。具体地,在ge层002中的应力大小与压应力层003的制备条件相关,具体地,其他工艺条件不变的情况下,压应力层003反应温度越高,压应力层003使ge层002中的产生的应力越大,且呈一定的线性关系。在其他工艺条件不变的情况下,压应力层003使ge层002中的产生的应力越小。在其他工艺条件不变的情况下,低频功率越大,形成压应力层003使ge层002中的产生的应力越大。设fwg为氮化硅层使所述ge层002中产生的压应力大小,则fwg和温度tp的关系满足:fwg=×fwg的单位为pa,twg的单位为摄氏度。具体地,在其他工艺条件不变的情况下,压强越高。福建二极管二极管价目上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管,有想法的不要错过哦!
可以使用h2so4:h2o2=5:1的化学试剂去除光刻胶。,在半导体环图案对应区域注入离子,经扩散炉中退火处理在半导体环图案对应区域形成半导体环104。具体地,可以在半导体环图案对应区域注入离子(比如硼离子),使用h2so4:h2o2=5:1的化学试剂去除表面沾污,然后送入扩散炉,经过1000℃退火,形成半导体环104。步骤s304,请参照图4d,将半导体环104之间的氧化层103蚀刻掉,在蚀刻后形成的区域中制作肖特基结108。在氧化层103远离衬底101的一侧涂覆光刻胶层。通过带有肖特基结图案的掩模对光刻胶层进行光刻,在光刻胶层上刻出肖特基结图案。再接着,蚀刻肖特基结图案对应区域的氧化层103。具体地,使用腐蚀溶剂boe(nh4f40%+hf7%),在211℃的温度条件下,透过肖特基结图案对氧化层103进行腐蚀,将光刻胶层上的半导体环图案转移到氧化层103上。用化学试剂sc2(hcl:h2o2:h2o=1:1:6-1:2:8)清洗20分钟,去除表面颗粒,然后用hf的水溶液漂30秒去除肖特基结图案内残余氧化层103。,通过物相淀积法,在肖特基结图案对应区域淀积金属和硅形成金属硅化物,得到肖特基结108。通过物相淀积金属(ti/ni/pt/nipt/cr/nicr等金属),金属淀积后放入扩散炉中退火处理。
在所述肖特基结图案对应区域淀积金属和硅形成金属硅化物,得到肖特基结。在本申请的一种可能实施例中,在所述肖特基结及靠近所述肖特基结的氧化层上制作金属层的步骤,包括:在真空度3e-6torr、温度190℃的环境下持续加热45分钟,依次在所述肖特基结及靠近所述肖特基结的氧化层上沉积多层金属,制作形成金属层。在本申请的一种可能实施例中,在所述氧化层远离所述肖特基结的两端进行蚀刻形成防水槽的步骤,包括:在所述氧化层远离所述肖特基结两端的表面涂覆光刻胶层;通过带有防水槽图案的掩模对所述光刻胶层进行光刻,在所述光刻胶层上刻出防水槽图案;用腐蚀溶剂进行腐蚀,将所述防水槽图案转移到所述氧化层;蚀刻所述防水槽图案对应区域的氧化层,形成防水槽。本申请实施例提供一种肖特基二极管及其制造方法,通过在氧化层开设朝向外延层凹陷的防水槽,并在氧化层上制作填充于防水槽并在该防水槽对应的位置处形成与防水槽咬合并凸起的钝化层。钝化层与氧化层通过上述凹凸咬合结构层叠在一起,在肖特基二极管使用过程中,即便工作温度发生变化,钝化层与氧化层结合处的剪切力也不足以形成供水汽侵入肖特基结的微小缝隙。同时,因氧化层开设有防水凹槽。上海藤谷电子科技有限公司致力于提供二极管,有想法可以来我司咨询。
使用宽禁带半导体材料制造新一代的电力电子器件,可以变得更小、更快、更可靠和更高效。这将减少电力电子元件的质量、体积以及生命周期成本,允许设备在更高的温度、电压和频率下工作,使得电子电子器件使用更少的能量却可以实现更高的性能。根据Yole相关数据的测算,2019年全球功率半导体器件市场规模为381亿美元,预计2022年达到约426亿美元的市场规模,年复合增长率约为。行行查数据库(/#/)全球IGBT市场成长迅速:搜狐科技数据,2017年世界IGBT的市场规模为,预计未来IGBT市场规模将持续增长,到2022年世界IGBT市场规模将达到亿美金,年复合增长率达维持在7%-9%之间。国内新能源车市场政策利好:在国内市场方面,2012年颁布了《关于印发节能与新能源汽车产业的发展规划》后,我国作为全球大的新能源汽车市场市场规模正在迅速扩大。随着2016年新能源汽车的规范与补贴政策陆续出台,市场进入了高速发展阶段。受益 支持及国民环保意识的增强,中国新能源汽车的总销量从2017年的67万辆上涨至2019年的112万辆,同比上升。预计在未来几年,中国新能源汽车将保持强劲的增长态势,2020年产量将突破250万辆,2023年突破500万辆未来五年年符合增长率约为。上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管,有需求可以来电咨询!重庆专业二极管代理品牌
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因氧化层开设有防水凹槽,即便环境中存在水汽,水汽在侵入时也会聚集在防水槽1031,不会进入到肖特基结,进一步确保肖特基二极管不会失效。在本申请实施例的一种可能的实施方式中,衬底101和外延层102可以为n型半导体层,半导体环104可以为p型半导体环。在本申请实施例的另一种可能的实施方式中,衬底101和外延层102可以为p型半导体层,半导体环104可以为n型半导体环。在本申请实施例中,在衬底101和外延层102为n型半导体层,半导体环104为p型半导体环时,衬底101可以为重掺杂半导体层,衬底101的电阻率可以为ω·cm;外延层102可以为轻掺杂半导体层,外延层102的电阻率可以为ω·cm,其中,外延层102的厚度可以为5μm-30μm。防水槽1031可以是一种规则形状的凹槽,也可以是不规则形状的凹槽。例如图1及图2所示,防水槽1031可以是u型槽,也可以是v型槽,当然还可以是其他形状的凹槽或者不同形状凹槽的组合。防水槽1031的深度小于氧化层103的厚度。在本申请实施例中,肖特基结108由多层金属组成,具体地,该多层金属可以包括ti、ni、ag等。请参照图3,本申请实施例还提供一种用于制造上述肖特基二极管10的制造方法,该制造方法包括以下步骤:步骤s301,请参照图4a。河北现代二极管价目
上海藤谷电子科技有限公司是以提供功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管为主的有限责任公司,公司位于淞滨路500号6幢D397室,成立于2019-08-01,迄今已经成长为电子元器件行业内同类型企业的佼佼者。上海藤谷电子科技以功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管为主业,服务于电子元器件等领域,为全国客户提供先进功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管。上海藤谷电子科技将以精良的技术、优异的产品性能和完善的售后服务,满足国内外广大客户的需求。