湖南光学薄膜射频离子源自主研发设计生产

【机械泵分类】机械泵有很多种，常用的有滑阀式、活塞往复式、定片式和旋片式四种类型。机械泵是从da气开始工作的，它的主要参数有极限真空，抽气速率，此为设计与选用机械泵的重要依据。单级泵可以将容器从da气抽到1.0*10-1PA的极限真空，双级机械泵可以将容器从da气抽到6.7*10-2帕，甚至更高。抽气速率，是指旋片泵按额定转数运转时，单位时间内所能排出气体的体积，可以用下公式计算：Sth=2nVs=2nfsLfs表示吸气结束时空腔截面积，L表示空腔长度，系数表示转子每旋转一周有两次排气过程，Vs表示当转子处于水平位置的时候，吸气结束，此时空腔内的体积da，转速为n。机械泵排气的效果还与电机的转速及皮带的松紧度有关系，当电机的皮带比较松，电机转速很慢的时候，机械泵的排气效果也会变差，所以要经常保养，点检，机械泵油的密封效果也需要常常点检，油过少，达不到密封效果，泵内会漏气，油过多，把吸气孔堵塞，无法吸气和排气，一般，在油位在线下0.5厘米即可。真空镀膜机国内有哪些产商？湖南光学薄膜射频离子源自主研发设计生产

国泰真空GTRF-17/GTRF-23射频离子源直流源网灭弧采用特殊保护方式，可以在有效的保护网板的时候不停机，不会导致客户产品报废。栅网采用独特的加工工艺，确保栅网之间的曲率和平行度，网孔的中心距也做精密的调整，使得投射出来的离子束更均匀。射频中和器采用L型接法匹配：匹配速度快，效率高，点火更优。源头和中和器结构经常拆解部分的内六角进行电镀及消气处理，防止拆卸过程卡死，备件及耗品重复利用率高。射频电源及控制部分单独装配在一个电柜内，RF线缆做防辐射和泄漏处理，避免对通讯、控制信号的干扰，同时也做良好的散热处理。江西光学镀膜射频离子源源头实力厂家真空镀膜机故障维修技巧有哪些？

【真空镀膜机之真空泵的维护和保养】1、经常检查油位位置，不符合规定时须调整使之符合要求。以泵运转时，油位到油标中心为准。2、经常检查油质情况，发现油变质应及时更换新油，确保泵工作正常。3、换油期限按实际使用条件和能否满足性能要求等情况考虑，由用户酌情决定。一般新泵，抽除清洁干燥的气体时，建议在工作100小时左右换油一次。待油中看不到黑色金属粉末后，以后可适当延长换油期限。4、一般情况下，泵工作2000小时后应进行检修，检查桷胶密封件老化程度，检查排气阀片是否开裂，清理沉淀在阀片及排气阀座上的污物。清洗整个泵腔内的零件，如转子、旋片、弹簧等。一般用汽油清洗，并烘干。对橡胶件类清洗后用干布擦干即可。清洗装配时应轻拿轻放小心碰伤。5、有条件的对管中同样进行清理，确保管路畅通。6、重新装配后应进行试运行，一般须空运转2小时并换油二次，因清洗时在泵中会留有一定量易挥发物，待运转正常后，再投入正常工作。7、本系列泵油采用专业用真空泵油。

【真空镀膜之金属拉丝】金属拉丝：是指通过研磨产品在工件表面形成线纹，并且起到装饰效果的一种表面处理手段。根据拉丝后纹路的不同可分为：直纹拉丝、乱纹拉丝、波纹、旋纹适用材料：几乎所有的金属材料都可以使用金属拉丝工艺工艺成本：工艺方法简单，设备需求简单，材料消耗比较少，成本比较低廉，经济效益尤其高环境影响：纯金属制品，表面无油漆等任何化学化工物质，600度高温不燃烧，不会产生有毒气体，符合消防标准的环保要求射频离子源可用于能源领域，如核能、太阳能等。

    本发明涉及离子束溅射镀膜及超精密抛光技术领域，尤其涉及一种射频离子源离子束束径约束器、束径控制装置及方法。背景技术：离子束超精密加工研究中，离子源起着非常重要的作用。离子源是产生离子束流的装置，又是离子束设备中的关键部件。不论是光学薄膜的制备还是纳米尺度的离子束刻蚀和抛光，高性能的离子束流都是不可缺少的。目前采用的离子束源主要有考夫曼离子源、微波ecr离子源和射频离子源，其工作原理是利用气体放电产生等离子体，等离子体由电子、离子和中性粒子所组成，并被引出成束，成为离子源。射频离子源由德国giessen大学，，从电火箭空间应用向地面应用扩展而来。这种离子源具有结构简单、无极放电的优点，因而对任何气体特别是反应气体具有长寿命、效率高的特点。采用射频离子源镀制的膜层具有吸收少、漂移小、效率高、致密性好、牢固性高等优点；同时，射频离子源离子束抛光在超精密光学元件的**终加工中应用也非常***，是一种去除精度达到原子级别的抛光技术，被认为是加工精度**高，修形效果**好的光学元件修形技术，在此过程中，具有一定能量和空间分布的离子束流轰击光学元件表面，利用轰击时发生的物理溅射效应去除光学元件表面材料。真空镀膜机厂家qian十。广西真空镀膜射频离子源厂家

真空镀膜机的升级改造。湖南光学薄膜射频离子源自主研发设计生产

【真空镀膜之磁控溅射镀膜】磁控溅射对阴极溅射中电子使基片温度上升过快的缺点加以改良,形成了电场和磁场方向相互垂直的特点。在正交的电磁场的作用下,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,从而xianzhu地延长了电子的运动路程,增加了同工作气体分子的碰撞几率,提高了电子的电离效率。由于电子每经过一次碰撞损失一部分动能,经过多次碰撞后,丧失了能量成为“终电子”进入离阴极靶面较远的弱电场区,后到达阳极时已经是能量消耗殆尽的低能电子,也就不再会使基片过热。同时高密度等离子体被束缚在靶面附近,又不与基片接触,这样电离产生的正离子能十分有效地轰击靶面,而基片又可免受等离子体的轰击,因而基片温度又可降低。在溅射仪起辉以后,并不把样品转入阳极的生长位置,也不通循环水,使样品随放电的热能而逐渐升高至一定温度后,才开始生长,以减小应力,获得牢固度较高的薄膜。另外在样品盘中还安装了温控仪(精度小于1℃)以监控薄膜生长过程中的样品温度。湖南光学薄膜射频离子源自主研发设计生产