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射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

【真空镀膜机清洗工艺之紫外线辐照清洗】利用紫外辐照来分解表面上的碳氢化合物。例如,在空气中照射15h就可产生清洁的玻璃表面。如果把适当预清洗的表面放在一个产生臭氧的紫外线源中.要不了几分钟就可以形成清洁表面(工艺清洁)。这表明臭氧的存在增加了清洁速率。其清洗机理是:在紫外线照射下,污物分子受激并离解,而臭氧的生成和存在产生高活性的原子态氧。受激的污物分子和由污物离解产生的自由基与原子态氧作用.形成较简单易挥发分子.如H203、CO2和N2.其反应速率随温度的增加而增加。真空镀膜机日常怎么维护?天津真空镀膜射频离子源批发价格

    本发明涉及离子束溅射镀膜及超精密抛光技术领域,尤其涉及一种射频离子源离子束束径约束器、束径控制装置及方法。背景技术:离子束超精密加工研究中,离子源起着非常重要的作用。离子源是产生离子束流的装置,又是离子束设备中的关键部件。不论是光学薄膜的制备还是纳米尺度的离子束刻蚀和抛光,高性能的离子束流都是不可缺少的。目前采用的离子束源主要有考夫曼离子源、微波ecr离子源和射频离子源,其工作原理是利用气体放电产生等离子体,等离子体由电子、离子和中性粒子所组成,并被引出成束,成为离子源。射频离子源由德国giessen大学,,从电火箭空间应用向地面应用扩展而来。这种离子源具有结构简单、无极放电的优点,因而对任何气体特别是反应气体具有长寿命、效率高的特点。采用射频离子源镀制的膜层具有吸收少、漂移小、效率高、致密性好、牢固性高等优点;同时,射频离子源离子束抛光在超精密光学元件的**终加工中应用也非常***,是一种去除精度达到原子级别的抛光技术,被认为是加工精度**高,修形效果**好的光学元件修形技术,在此过程中,具有一定能量和空间分布的离子束流轰击光学元件表面,利用轰击时发生的物理溅射效应去除光学元件表面材料。福建离子束溅射射频离子源制造生产厂家真空镀膜机品牌有很多,你如何选择?

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(VM)和不导电真空镀膜(NCVM)两种。VM:一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相媲美,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM:具有金属质感、透明,但不导电,一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。

【真空镀膜机之真空泵的维护和保养】1、经常检查油位位置,不符合规定时须调整使之符合要求。以泵运转时,油位到油标中心为准。2、经常检查油质情况,发现油变质应及时更换新油,确保泵工作正常。3、换油期限按实际使用条件和能否满足性能要求等情况考虑,由用户酌情决定。一般新泵,抽除清洁干燥的气体时,建议在工作100小时左右换油一次。待油中看不到黑色金属粉末后,以后可适当延长换油期限。4、一般情况下,泵工作2000小时后应进行检修,检查桷胶密封件老化程度,检查排气阀片是否开裂,清理沉淀在阀片及排气阀座上的污物。清洗整个泵腔内的零件,如转子、旋片、弹簧等。一般用汽油清洗,并烘干。对橡胶件类清洗后用干布擦干即可。清洗装配时应轻拿轻放小心碰伤。5、有条件的对管中同样进行清理,确保管路畅通。6、重新装配后应进行试运行,一般须空运转2小时并换油二次,因清洗时在泵中会留有一定量易挥发物,待运转正常后,再投入正常工作。7、本系列泵油采用专业用真空泵油。真空镀膜机故障解决方法?

【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源,在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量,从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气),可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中,惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片,它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气,对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。真空镀膜机公司的排名。吉林光学薄膜射频离子源制造生产厂家

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【真空镀膜对环境的基本要求】加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理,达到工件去油、去污和脱水的目的。基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。对经过清洗处理的清洁表面,不能在da气环境中存放,要用封闭容器或保洁柜贮存,以减小灰尘的沾污。用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底,可使碳氢化合物蒸气的吸附减至小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面,一般应贮存在真空干燥箱中。qing除镀膜室内的灰尘,设置清洁度高的工作间,保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。空气湿度da的地区,除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外,还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内,注意油扩散泵返油,对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。天津真空镀膜射频离子源批发价格

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