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射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

【真空镀膜机详细资料】系统概述真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。常用于对半导体、光伏、电子、精密光学等行业的纳米级表面处理。系统原理通过电子枪发射高压电子轰击坩埚中的待镀靶材,使其在高真空下蒸发并沉积在被镀基片上以获得镀膜。系统配置*自动化控制器:e-ControlPLC,是控制系统的硬件平台。人机界面硬件:TPC1503工业级15寸触摸式平板电脑,稳定可靠。人机界面软件:NETSCADA组态软件开发平台,提供真空镀膜机的控制和监视。离子真空镀膜机是什么?陕西射频离子源自主研发设计生产

【真空镀膜机常见故障之旋片泵故障及处理方法】1、未做保养导致灰尘太多。真空镀膜设备在镀膜过程中容易产生da量灰尘,这些灰尘伴随空气容易混杂到泵油中,时间久了容易对转子及泵腔造成磨损及破坏。处理方法:如果灰尘不多,可以油过滤系统除掉灰尘;如果灰尘过多可以用除尘器配合油过滤系统除掉灰尘。2、旋片式真空泵冒烟和喷油:指旋片式真空泵在运转中排气口冒烟或者喷油,冒烟。处理方法:冒烟阐明泵的进气口外,包括管道、阀门、容器有修理的状况。3、喷油,阐明进气口外有da量的漏点,以至是进气口暴露da气。处理方法:封住泵的进气口使泵运转,假如不喷油的话,阐明有漏点;排气阀片损坏,检查排气阀片能否损坏,改换坏的排气阀片。4、被抽气体的温度可能过高。处理方法:降低被抽气体的温度,或能够加一个相应的换热器。5、配合的间隙改da。这是长期被抽气体内含有粉尘等,形成旋片和定子之间磨损后的间隙增da。处理方法:检查间隙能否过da,改换新的零部件。6、泵内的油路不通或者不畅,泵腔内没有坚持一定量的油量。处理方法:检查油路能否畅通,并加同类型的真空泵油。安徽离子束清洗射频离子源专业生产真空镀膜机品牌有很多,你如何选择?

    本发明的另一目的在于提供一种便于进行束径调节的束径控制装置。本发明的另一目的还在于提供一种束径控制方法。为了实现上述目的,本发明的技术方案为:一种射频离子源离子束束径约束器,其特征在于:所述束径约束器包括具有可供离子束穿过的中空结构的底座、多个叶片及驱动机构;所述多个叶片设于底座一端并环绕中空结构呈圆周排布,多个叶片的尾端伸入中空结构所在区域以围合形成可供离子束穿过的光阑,所述驱动机构可驱动叶片的尾端相对叶片排布形成的圆周中心运动以调节光阑大小。进一步的,所述叶片的首端与底座的对应端面转动连接,所述叶片的尾端沿叶片排布形成的圆周周向依次叠放并斜向伸入所述中空结构所在区域以形成所述光阑;所述驱动机构包括滑环及驱动滑环绕滑环中心旋转的驱动组件,所述滑环位于多个叶片的远离底座的一侧并与多个叶片排布形成的圆周同轴设置,滑环旋转时带动叶片的尾端绕叶片的首端转动以实现光阑大小调节。进一步的,所述叶片呈与多个叶片排布形成的圆周同向弯曲的圆弧状。进一步的,所述底座的所述一端端面上设有多个呈圆周布置的定位孔,所述叶片的首端靠近底座的一侧面上设有可伸入定位孔中转动的固定轴。进一步的。

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场,在此区电子密度高,进而提高离子密度,使得溅镀率提高(一个数量级),溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳,是目前实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室,排气系统,溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang(sputtergun)。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型,其中平面型分为矩型和圆型,靶材料利用率30-40%,圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为:直流(DC)、射频(RF)、脉冲(pulse),直流:800-1000V(Max)导体用,须可灾弧。射频:13.56MHZ,非导体用。脉冲:泛用,新发展出真空镀膜机找成都国泰真空设备有限公司。

    达到修正面形误差的目的,其加工精度达到纳米级。射频(rf)离子源采用磁感应产生等离子体,因此是无极放电,放电室内钨灯丝作为阴极,钨灯丝可在反应气体中长时间工作,**降低了对离子束带来的污染。由于射频感应产生的等离子体中只有单电荷离子而几乎没有双电荷离子,因此使屏栅溅射引起的污染尤为小,同时也增加了离子束的均匀性。rf射频离子源采用特殊的三栅离子光学系统,既提高了拔出效率,又保证了结构的热稳定性及防污染的可靠性。离子源工作时,气体通过石英放电室,通过,离化气体产生等离子体。带电粒子经由静电场加速,控制离子束电压,增大放电室功率,提高放电等离子体浓度,在经过离子三栅光学系统的聚焦加速形成一定能量的离子束。现有技术中的射频离子源离子束束径是通过位于离子源内部的三级栅网设计的位置及形状进行调节的,调节时需要反复更换栅网以实现束径调节,调节效率低,同时,现有的栅网均为曲面栅网,如图1所示,从而使得加工制造较为困难,并且很难保证曲面弧度及孔径的加工精度,加工成本高。技术实现要素:鉴于上述问题,本发明的目的在于提供一种束径调节方便的射频离子源离子束束径约束器。射频离子源可用于医疗领域,如放射性解决、zl解决等。重庆射频离子源源头实力厂家

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    所述叶片远离底座的一侧面上设有相较固定轴位置靠近叶片尾端的导柱,所述滑环上设有可供导柱伸入其中滑动以在滑环旋转时带动叶片的尾端绕叶片首端转动的导槽,所述导槽呈弧形设置。进一步的,所述滑环的外周设有齿圈,所述驱动组件包括能与齿圈啮合的齿轮及驱动齿轮转动的伺服电机。一种射频离子源离子束束径控制装置,其特征在于:包括一真空腔体、控制器以及设于真空腔体中的离子束发生器、束径约束器和驱动器,所述束径约束器设置在离子束发生器前端,所述驱动器与束径约束器的驱动机构相连以控制驱动机构动作,所述控制器分别与束径约束器及驱动器相连。进一步的,所述离子束发生器包括离子束发生器外壁以及位于离子束发生器外壁内并位于离子束前端的平面栅网。进一步的,所述驱动器为微型电机。一种射频离子源离子束束径控制方法,其特征在于:s1,对真空腔体进行抽真空;s2,打开离子束发生器,调整电压电流参数;s3,在控制器的输入界面中输入离子束束径值;s4,点击控制器的执行按钮,控制器向驱动器发出指令,驱动器控制驱动机构动作;s5,驱动组件驱动滑环转动并带动导柱在导槽中滑动,叶片绕固定轴转动使光阑大小与输入的离子束束径值一致。与现有技术相比。陕西射频离子源自主研发设计生产

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