广西光学镀膜射频离子源多少钱

【真空镀膜设备的正常工作条件】1、环境温度：10~30℃2、相对湿度：不da于70%3、冷却水进水温度：不高于25℃4、冷却水质：城市自来水或质量相当的水5、供电电压：380V，三相50Hz或220V，单相50Hz（由所用电器需要而定），电压波动范围342~399V或198V~231V，频率波动范围49~51Hz；6、设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。7、设备周围环境整洁、空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。此外，真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁卫生。地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染，可采用在泵的排气口上面装设排气管道（金属、橡胶管）的办法，将气体排出室外。射频离子源可用于制备纳米材料、薄膜、光学器件等高科技产品。广西光学镀膜射频离子源多少钱

【如何减少真空镀膜的灰尘】1、使用的源材料要符合必要的纯度要求。2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题。3、镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理。4、清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求。5、工作人员有专门的服装，操作要戴手套、脚套等。6、适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。7、技术上明确允许的da颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限da致是多少。8、室内空气流动性低、地面干净，如果是裸露的水泥地，需要覆盖处理。墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。广东真空镀膜射频离子源怎么选射频离子源是一种高能离子源，可用于各种科学研究和工业应用。

【真空镀膜设备的维修及保养方法】1.真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上，应清洁工作室一次。方法：用烧碱（NaOH）饱和溶液反复擦洗真空室内壁，（注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液，以免灼伤）目的是使镀上去的膜料铝（AL）与NaOH发生反应，反应后膜层脱落，并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。2.当粗抽泵（滑阀泵，旋片泵）连续工作一个月（雨季减半），需更换新油。方法：拧开放油螺栓，放掉旧油，再将泵启动数秒，使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓，加入新油至额定量（油视镜观察）。连续使用半年以上，换油时应将油盖打开，用布擦干净箱内污垢。3.在重新开机前，要注意检漏。方法：启动维持泵，关好da门，数分钟后，观察扩散泵部分真空度是否达到6X10帕，否则要进行检漏。检查联接处是否装密封胶圈，或压坏密封圈。排除漏气隐患后方可加热，否则扩散泵油会烧环，真空镀膜设备无法进入工作状态。

【真空镀膜机操作工艺流程】首先开水、电、气→总电源→开维持泵→开扩散泵加热→开粗抽泵→开预抽阀→关预抽阀→开粗抽阀→开罗茨泵→如有离子轰击，开轰击30秒，关轰击→开真空计→当真空到，关粗抽阀→开前置阀→开精抽阀，当真空达到7x10-3pa，开转架→开始镀膜操作→镀膜完毕后，关闭真空计、离子源→关精抽阀，前置阀→关罗茨泵→开抽气阀，取件→上料，反复开始操作。特别注意：1.设备停用时，镀膜室要保持真空状态，减少内表面气体的吸附，防止氧化。2.冷却水通道场下才能对扩散泵进行加热，未经充分冷却的泵不得与da气接触，防止氧化。3.要保证机器内扩散泵和机械泵的油定期检查和更换。4.设备运行中遇有停电或其它事故发生，须先停扩散泵，关精抽阀，前置阀和真空计。5.产品做完下班后，关了扩散泵后须待温度降低至60℃后才能关维持泵。真空镀膜机国内有哪些产商？

【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件，为了获得原子态的清洁表面，消除其表面污染的标准方法是化学清洗，真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后)，由于真空系统内的各种零部件已经被固定，这时对它们进行除气处理就很困难，一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染)，通常要拆卸后重新处理再安装．而用反应气体工艺，可以进行原位在线除气处理．有效地除去不锈钢真空室内的碳氢化合物的污染.其清洗机理：在系统中引述氧化性气体(O2、N0)和还原性气体(H2、NH3)对金属表面进行化学反应清洗，消除污染，以便获得原子态的清洁金属表面。表面氧化／还原的速率取决于污染的情况及金属表面的材质，表面反应速率的da小通过调整反应气体的压力和温度来控制。对于每一种基材而言，精确的参数要通过实验来确定.对于不同的结晶取向，这些参数是不同的。真空镀膜机是什么样的？广西离子束刻蚀射频离子源多少钱

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【真空镀膜机清洗工艺之紫外线辐照清洗】利用紫外辐照来分解表面上的碳氢化合物。例如，在空气中照射15h就可产生清洁的玻璃表面。如果把适当预清洗的表面放在一个产生臭氧的紫外线源中．要不了几分钟就可以形成清洁表面（工艺清洁)。这表明臭氧的存在增加了清洁速率。其清洗机理是：在紫外线照射下，污物分子受激并离解，而臭氧的生成和存在产生高活性的原子态氧。受激的污物分子和由污物离解产生的自由基与原子态氧作用．形成较简单易挥发分子．如H203、CO2和N2．其反应速率随温度的增加而增加。广西光学镀膜射频离子源多少钱