重庆离子束刻蚀射频离子源制造生产厂家

【真空镀膜机常见故障之旋片泵故障及处理方法】1、未做保养导致灰尘太多。真空镀膜设备在镀膜过程中容易产生da量灰尘，这些灰尘伴随空气容易混杂到泵油中，时间久了容易对转子及泵腔造成磨损及破坏。处理方法：如果灰尘不多，可以油过滤系统除掉灰尘；如果灰尘过多可以用除尘器配合油过滤系统除掉灰尘。2、旋片式真空泵冒烟和喷油：指旋片式真空泵在运转中排气口冒烟或者喷油，冒烟。处理方法：冒烟阐明泵的进气口外，包括管道、阀门、容器有修理的状况。3、喷油，阐明进气口外有da量的漏点，以至是进气口暴露da气。处理方法：封住泵的进气口使泵运转，假如不喷油的话，阐明有漏点；排气阀片损坏，检查排气阀片能否损坏，改换坏的排气阀片。4、被抽气体的温度可能过高。处理方法：降低被抽气体的温度，或能够加一个相应的换热器。5、配合的间隙改da。这是长期被抽气体内含有粉尘等，形成旋片和定子之间磨损后的间隙增da。处理方法：检查间隙能否过da，改换新的零部件。6、泵内的油路不通或者不畅，泵腔内没有坚持一定量的油量。处理方法：检查油路能否畅通，并加同类型的真空泵油。真空镀膜机真空四个阶段。重庆离子束刻蚀射频离子源制造生产厂家

【真空镀膜对环境的基本要求】加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。对经过清洗处理的清洁表面，不能在da气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。qing除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。空气湿度da的地区，除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外，还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。上海光学薄膜射频离子源自主研发设计生产射频离子源是未来科技发展的重要方向，具有广阔的应用前景。

【真空镀膜真空的基本概念】：真空的划分：粗真空760Torr~10E&3Torr高真空10E&4Torr~10E&8Torr超高真空10E&9~10E&12Torr极高真空<10E&12Torr流导（导通量）：表示真空管道通过气体的能力，单位为升/秒（L/S）。一般情况下，管道越短，直径越da，表面越光滑，越直的管道流导也越da。流量：单位时间内流过任意截面的气体量，单位为Torr·L/s或Pa·L/s。抽气速率：在一定的压强和温度下，单位时间内由泵进气口处抽走的气体称为抽气速率，简称抽速。单位一般为L/S或m3/hr或CFM。极限真空：真空容器经充分抽气后，稳定在某一真空度，此真空度称为极限真空。

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为：基材、底漆、真空膜层、面漆，因靶材理化特性直接决定膜层的特性，根据膜层的导电与否，可分为导电真空镀膜（VM）和不导电真空镀膜（NCVM）两种。VM：一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理，其表面效果与水电镀相媲美，靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM：具有金属质感、透明，但不导电，一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理，其表面效果为水电镀不可取代，靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上，抽的速度会显然变慢，当操作不当应拆去联结水管，卸下电炉盘，将一级喷嘴拧出，先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍，再用洗衣粉兑水清洗一遍，然后用清水彻底清洗干净，待水份挥发干以后，装好泵胆，加入新扩散泵油，并装回机体，接好水管，装好电炉盘，便可以重新开机。在重新开机前，要注意检漏工作。首先启动维持泵，关好da门，数分钟后，观察扩散泵部分真空度是否达到标准，否则要进行检漏。检查联接处的密封圈是否正常。真空镀膜机厂家qian十。

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。射频离子源可用于制备纳米材料、薄膜、光学器件等高科技产品。重庆离子束刻蚀射频离子源制造生产厂家

真空镀膜机品牌有很多，你如何选择？重庆离子束刻蚀射频离子源制造生产厂家

【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源，在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量，从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气)，可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中，惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片，它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气，对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。一般情况下，其中的碳不能单独挥发．经化学清洗后，需要引入Ar或Ar+O2混合气体进行辉光放电清洗，使表面上的杂质和由于化学作用被束缚在表面上的气体得到qing除。重庆离子束刻蚀射频离子源制造生产厂家