四川真空镀膜设备招工

【离子镀的历史】： 真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步，我国也有将近30多年的离子镀研究进程。 【离子镀的原理】： 蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于 真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表 面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并 被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘 附于工件表面的镀层。 【离子镀的优缺点】： 优点：膜层附着力好，膜层致密，具有绕度性能，能在形状复杂的零件表面镀膜。 缺点：离子镀的应用范围不广；膜与基体间存在较宽的过渡界面。会有气体分子吸附。 真空镀膜设备品牌有很多，你如何选择？四川真空镀膜设备招工

【真空蒸镀的历史】：1857年MichaelFaradayZui早提出基本原理，而后、1930年代由于油扩散式真空泵实用化、蒸镀主要用于制作镜片防反射膜。第二次世界大战时，其他的光学机器对材料的需求提高，真空蒸镀也因此快速发展。【真空蒸镀的原理】：在真空状态下，加热蒸发容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉积在目标物体表面，形成固态薄膜。依蒸镀材料、基板的种类可分为:抵抗加热、电子束、高周波诱导、雷射等加热方式。蒸镀材料有铝、亚铅、金、银、白金、镍等金属材料与可产生光学特性薄膜的材料，主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物与氟化物。蒸镀除金属外，树脂与玻璃也可以使用、近年来连纸也变成可蒸镀。【蒸发镀膜的优缺点】：优点：设备简单、容易操作；成膜的速率快，效率高。缺点：薄膜的厚度均匀性不易控制，蒸发容器有污染的隐患，工艺重复性不好，附着力不高。河南派瑞林真空镀膜设备质量推荐真空镀膜设备使用时，需要注意哪些问题?

【离子镀膜法之射频离子镀】： 射频离子镀(RFIP):利用电阻或电子束加热使膜材气化；依靠射频等离子体放电使充入的真空Ar及其它惰性气体、反应气体氧气、氮气、乙炔等离化。这种方法的特点是：基板温升小，不纯气体少，成膜好，适合镀化合物膜，但匹配较困难。可应用于镀光学器件、半导体器件、装饰品、汽车零件等。射频离子镀膜设备对周遭环境没有不利影响，符合现代绿色制造的工业发展方向。目前，该类型设备已经guang泛用在硬质合金立铣刀、可转位铣刀、焊接工具、阶梯钻、钻头、铰刀、油孔钻、车刀、异型刀具、丝锥等工具的镀膜处理上。 此外，离子镀法还包括有低压等离子体离子镀，感应离子加热镀，集团离子束镀和多弧离子镀等多种方法。

【离子镀的历史】：真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步，我国也有将近30多年的离子镀研究进程。【离子镀的原理】：蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。真空镀膜设备产业集群。

【真空镀膜设备使用步骤】1电控柜的操作1)开水泵、气源2)开总电源3)开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。4)开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。5)观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。2DEF-6B电子枪电源柜的操作1)打开总电源2)同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。3)开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。3关机顺序1)关高真空表头、关分子泵。2)待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。3)到50以下时，再关维持泵。成都真空镀膜设备厂家有哪些？四川金属真空镀膜设备

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【真空镀膜设备之真空的测量】： 真空计： A、热偶规、皮拉尼规、对流规： 用来测粗真空的真空计，从大气到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼规精度高的可到5%, 反应较慢，受温度变化的影响较大。 B、离子规： 用来测高真空或超高真空的真空计，热灯丝的离子规测量范围一般从1E&4到1E&9Torr，特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr，精度在10%~20%，灯丝在工作时遇到大气会烧毁；冷阴极的离子规一般可以测到1E&11Torr，精度在20%~50%，特别是超高真空下测量精度很差，需要高压电源，探头内有磁铁，使用时不能用于某些无磁的场合。 C、电容式压力计： 探头Zui大压力从25000Torr到0.1Torr，动态范围大约104范围，比如，1Torr量程的Zui低是5E&4Torr，通常精度在读数的0.25%，可以高到0.15%。 D、宽量程真空计： 皮拉尼规和热灯丝离子规的组合，两个规可以自动切换，在低真空时切换到皮拉尼规，高真空时可切换到离子规。四川真空镀膜设备招工