云南真空镀膜设备验收标准

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。3.晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。真空镀膜机故障维修技巧有哪些？云南真空镀膜设备验收标准

【真空镀膜真空的基本概念】： 真空的划分： 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 极高真空 <10E&12Torr 流导（导通量）：表示真空管道通过气体的能力，单位为升/秒（L/S）。一般情况下，管道越短，直径越大，表面越光滑，越直的管道流导也越大。 流量：单位时间内流过任意截面的气体量，单位为Torr·L/s或Pa·L/s。 抽气速率：在一定的压强和温度下，单位时间内由泵进气口处抽走的气体称为抽气速率，简称抽速。单位一般为L/S或m3/hr或CFM。 极限真空：真空容器经充分抽气后，稳定在某一真空度，此真空度称为极限真空。 河南电子真空镀膜设备真空镀膜设备品牌推荐。

【真空镀膜设备之涡轮分子泵】： 涡轮分子泵：涡轮分子泵是利用高速旋转的动叶轮将动量传给气体分子，使气体产生定向流动而抽气的真空泵。主要用于高真空或超高真空，属于干泵，极限真空10&7~10&8Torr，烘烤后可到10&10Torr，抽速可从50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速转动的涡轮转子携带气体分子而获得高真空、超高真空的一种机械真空泵。泵的转速为10000转/分到50000转/分，这种泵的抽速范围很宽，但不能直接对大气排气，需要配置前级泵。分子泵抽速与被抽气体的种类有关，如对氢的抽速比对空气的抽速大20%。

在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。关于真空镀膜机，你知道多少？

【光谱分光不良的补救（补色）之其他情况】： 分光不良分为二种情况：一是全部膜系镀制完成后，经测试分光不良，此类不良主要按六节所述方法处理，一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断（包括发现错误中断）造成的分光不良，一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确，补救成功率比较高。 中断的原因形式之其他情况： 对于用错程序，错误操作（预熔未关闭挡板等）人为中断需要补救的；以及反光膜、滤光膜镀后需要补救的情况处理方案： 模拟：将实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值。通过计算机模拟（一般是Zui后一层的膜厚确认），找到与实现测试值结果相应的膜系数据。 优化：根据模拟得到的膜系数据，输入产品要求的优化目标值，通过加层、优化后续膜层的方法，重新优化设计一个补救膜系。 试镀：确认、完善补救膜系效果 补救镀：完成补救工作。真空镀膜设备产业集群。四川多晶硅真空镀膜设备

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【真空镀膜反应磁控溅射法】： 制备化合物薄膜可以用各种化学气相沉积或物理qi相沉积方法。但目前从工业大规模生产的要求来看，物理qi相沉积中的反应磁控溅射沉积技术具有明显的优势，因而被guang泛应用，这是因为： 1、反应磁控溅射所用的靶材料(单元素靶或多元素靶)和反应气体(氧、氮、碳氢化合物等)通常很容易获得很高的纯度，因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。 2、反应磁控溅射中调节沉积工艺参数，可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜，从而达到通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性的目的。 3、反应磁控溅射沉积过程中基板温度一般不会有很大的升高，而且成膜过程通常也并不要求对基板进行很高温度的加热，因此对基板材料的限制较少。 4、反应磁控溅射适于制备大面积均匀薄膜，并能实现单机年产上百万平方米镀膜的工业化生产。但是反应磁控溅射在20世纪90年代之前，通常使用直流溅射电源，因此带来 了一些问题，主要是靶中毒引起的打火和溅射过程不稳定，沉积速率较低，膜的缺陷密度较高，这些都限制了它的应用发展。云南真空镀膜设备验收标准