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【真空镀膜机之卷绕机构设计中应考虑的问题】①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度，它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min，现在也只有80m/min～120m/min，在国外日本的EW系列产品中，其卷绕速度已达到300m/min，德国L．H公司生产的镀膜机已达到600m/min，可见随着镀膜技术的发展，卷绕速度有待提高。②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要，因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定，才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜（如电容器膜）尤为重要。③带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高，带状基材在卷绕镀膜过程中，起褶和发生偏斜，严重时会造成基材的断裂，使生产中断，既影响生产效率，又浪费材料。因此，在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。真空镀膜机的培训资料。河北AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源批发价格

【真空镀膜机清洗工艺之氮气冲洗】氮气在材料表面吸附时，由于吸附能小，因而吸留表面时间极短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮气的这种性质冲洗真空系统，可以dada缩短系统的抽气时间。如真空镀膜机在放入da气之前，先用干燥氮气充入真空室冲刷一下再充入da气，则下一抽气循环的抽气时间可缩短近一半，其原因为氮分予的吸附能远比水气分子小，在真空下充入氮气后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占满了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽气时间缩短了。如果系统被扩散泵油喷溅污染了，还可以利用氮气冲洗法来清洗被污染的系统.一般是一边对系统进行烘烤加热，一边用氮气冲洗系统，可将油污染消除。甘肃红外镀膜空心阴极霍尔离子源源头实力厂家空心阴极霍尔离子源可用于制备高性能的电子器件和光电器件。

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而提高离子密度，使得溅镀率提高(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳，是目前实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang（sputtergun）。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出空心阴极霍尔离子源具有较高的能量转换效率和较低的热效应。

【真空镀膜机的镀层与镀膜原理】A、原材料与基本原理：原材料都是树脂、聚合物、铁氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸盐等，辅料、配方与量度有所不同。例添加的乳化剂，不同的量相调和，乳化出来的状态就不一样，水状、乳状、膏状都可以实现。这些物质经乳化破乳后，部份渗透或形成薄膜。B、它们的特点和区别：镀层：渗透功能好(要视原材料颗粒da小)，表面光滑度更优，对漆面较多“毛细孔”、粗糙、重喷过漆、漆面本身较硬需要增加光亮度的欧美车系漆面比较适用。镀膜：而镀膜产品添加了成膜助剂与固化剂，真空镀膜厂家使其瞬间成膜，性质相应的发生了改变。例如硬度比封釉更高，对需要提升漆面硬度的漆面(如日韩车系)比较适用。防护层的主要性能：①预防原车漆氧化与褪色：阻隔紫外线，较da限度减少紫外线的透射伤害。②增加漆面光亮度：晶莹透亮的玻璃分子使汽车漆面流光溢彩，光芒耀人。③提升漆面硬度：提升抗磨损、抗划痕性能。④防止化学性侵害，延长漆面寿命：如碱性洗车、酸雨盐雾、虫液树胶、高温严寒对车漆的伤害。⑤增加车表的光滑度：手感丝滑,减少静电、尘埃附着及风阻系数，使日常养护更便捷。真空镀膜机真空度多少？河北AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源批发价格

空心阴极霍尔离子源是一种高效的离子源，可用于各种离子束应用。河北AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源批发价格

【真空镀膜对环境的基本要求】加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。对经过清洗处理的清洁表面，不能在da气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。qing除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。空气湿度da的地区，除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外，还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。河北AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源批发价格