光纤镀膜空心阴极霍尔离子源制造生产厂家

【真空镀膜机电控柜的操作】1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源2、开总电源3、开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。4、开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。5、观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子qiang电源。空心阴极霍尔离子源可用于制备高纯度的金属、合金和化合物材料。光纤镀膜空心阴极霍尔离子源制造生产厂家

【真空镀膜机有哪些污染源】真空镀膜机是由许多精密的零部件所组成的，这些零部件均经过许多机械加工流程而制作出来，如焊接、磨、车、刨、镗、铣等工序。正因为有了这些工作，导致设备零部件表面不可避免地会沾染一些加工带来的油脂、油垢、金属屑、焊剂、抛光膏、汗痕等污染物。这些污染物在真空条件下易挥发，从而对设备的极限真空造成影响。此外，这些机械加工带来的真空污染物在da气压环境中吸附da量的气体，而到了真空状态下，这些原先吸附的气体也会被再次释放出来，成为限制真空系统的极限真空的一da主要因素。1、真空规管的灯丝在高温条件下蒸发，将导致陶瓷绝缘子上形成一层薄膜，对其绝缘强度有一定的损坏，对其测量的准确性也有一定的影响；2、由于高温蒸发，会使真空中的电子qiang的灯丝附近表面形成一层金属膜；3、由于工件溅射，离子束刻蚀设备的内壁会被溅散物所污染；4、真空蒸发镀膜设备的内壁会被其蒸镀靶材材料污染；5、经常使用真空干燥系统，该系统会受蒸发出来的物质所污染；6、真空镀膜设备中的扩散泵油、机械泵油等更是一da主要污染来源，镀膜机长期工作后，设备内部可能会形成一层油膜。上海AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源专业生产真空镀膜机的主要用途？

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为：基材、底漆、真空膜层、面漆，因靶材理化特性直接决定膜层的特性，根据膜层的导电与否，可分为导电真空镀膜（VM）和不导电真空镀膜（NCVM）两种。VM：一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理，其表面效果与水电镀相媲美，靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM：具有金属质感、透明，但不导电，一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理，其表面效果为水电镀不可取代，靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上，抽的速度会显然变慢，当操作不当应拆去联结水管，卸下电炉盘，将一级喷嘴拧出，先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍，再用洗衣粉兑水清洗一遍，然后用清水彻底清洗干净，待水份挥发干以后，装好泵胆，加入新扩散泵油，并装回机体，接好水管，装好电炉盘，便可以重新开机。在重新开机前，要注意检漏工作。

【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则：(1)先功能，后结构。先给出指标参数、生产要求、功能；(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整体。再由整体，定局部。(4)先设计，后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标：镀膜方法：CVD，PVD（蒸发、溅射、离子镀、复合镀）；被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。技术参数;设备极限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作气氛;漏率、抽空时间、恢复真空时间。工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机)膜厚不均匀程度;功率;高电压。真空镀膜机的生产厂家。

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。真空镀膜机日常怎么维护？河南光纤镀膜空心阴极霍尔离子源专业生产

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【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件，为了获得原子态的清洁表面，消除其表面污染的标准方法是化学清洗，真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后)，由于真空系统内的各种零部件已经被固定，这时对它们进行除气处理就很困难，一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染)，通常要拆卸后重新处理再安装．而用反应气体工艺，可以进行原位在线除气处理．有效地除去不锈钢真空室内的碳氢化合物的污染.其清洗机理：在系统中引述氧化性气体(O2、N0)和还原性气体(H2、NH3)对金属表面进行化学反应清洗，消除污染，以便获得原子态的清洁金属表面。表面氧化／还原的速率取决于污染的情况及金属表面的材质，表面反应速率的da小通过调整反应气体的压力和温度来控制。对于每一种基材而言，精确的参数要通过实验来确定.对于不同的结晶取向，这些参数是不同的。光纤镀膜空心阴极霍尔离子源制造生产厂家