贵州大直径射频离子源怎么选

【真空镀膜之水转印】水转印是利用水压将转印纸上的彩色纹样印刷在三维产品表面的一种方式。随着人们对产品包装与表面装饰要求的提高，水转印的用途越来越广fan。适用材料：所有的硬材料都适合水转印，适合喷涂的材料也一定适用于水转印。常见的为注塑件和金属件。工艺成本:无模具费用，但需要利用夹具将多件产品同时进行水转印，时间成本一般每周期不会超过10分钟。环境影响:和产品喷涂比较而言，水转印更充分的应用了印刷涂料，减少了废料泄漏和材料浪费的可能。真空镀膜机该如何维修。贵州大直径射频离子源怎么选

    本发明的优点在于：本申请的束径约束器通过驱动组件驱动滑环旋转，以使叶片转动来进行光阑的大小调节，调节方便且调节精度高；而采用包含该束径约束器的束径控制装置进行束径调节时，通过在控制器上输入离子束束径值即可实现光阑大小的调节，无需关闭离子源和打开真空腔体，调节效率高、自动化程度好。附图说明图1为现有技术中采用曲面栅网调节束径的结构示意图。图2为本申请中离子束采用平面栅网的结构示意图。图3为本申请中束径约束器结构示意图。图4为图3的示意图。图5为为图4的进一步示意图。图6为本申请中的叶片结构示意图。图7为本申请中的束径控制装置的示意图。具体实施方式下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，*用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。如图3至6所示为本申请的束径约束器的结构示意图，如图所示，该射频离子源离子束束径约束器，包括底座1、多个叶片2及驱动机构，底座1上设置有可供离子束穿过的中空结构11，多个叶片2设于底座1一端并环绕底座1的中空结构11呈圆周排布。贵州离子束溅射射频离子源专业生产真空镀膜机找成都国泰真空设备有限公司。

国泰真空射频离子源采用通用的LC高频谐振原理，使用可调电容快速调谐，使整个负载阻抗匹配到50Ώ，从而使功率输出比较大，电离化效率比较高，调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位，并带锁止和记忆功能，以满足负载在不同的真空环境、不同国泰射频离子源采用通用的LC高频谐振原理，使用可调电容快速调谐，使整个负载阻抗匹配到50Ώ，从而使功率输出比较大，电离化效率比较高，调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位，并带锁止和记忆功能，以满足负载在不同的真空环境、不同阻抗快速点火。射频部分匹配采用了硬件反馈和软件提前记忆并预判的技术；直流引入快速灭弧技术，同时提高了射频和直流部分的稳定性，软件设置了自检和自诊断功能，即：使用前系统自检，使用中即时刷新，对非调整性输入的变化提前警报并告知客户做好预案。

【真空镀膜机之真空电镀】真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的仿金属表面层。适用材料：1、很多材料可以进行真空电镀，包括金属，软硬塑料，复合材料，陶瓷和玻璃。其中*常见用于电镀表面处理的是铝材，其次是银和铜。2、自然材料不适合进行真空电镀处理，因为自然材料本身的水分会影响真空环境。工艺成本：真空电镀过程中，工件需要喷涂，装载，卸载和再喷涂，所以人力成本相当高，但是也取决于工件的复杂度和数量。环境影响：真空电镀对环境污染很小，类似于喷涂对环境的影响。射频离子源可用于医疗领域，如放射性解决、zl解决等。

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而提高离子密度，使得溅镀率提高(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳，是目前实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang（sputtergun）。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出广东真空镀膜机厂家。贵州大直径射频离子源怎么选

射频离子源采用高频电场来加速和离子化气体分子，产生高能离子束。贵州大直径射频离子源怎么选

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。贵州大直径射频离子源怎么选