【真空镀膜设备的维修及保养方法】1.真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上,应清洁工作室一次。方法:用烧碱(NaOH)饱和溶液反复擦洗真空室内壁,(注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液,以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应,反应后膜层脱落,并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。2.当粗抽泵(滑阀泵,旋片泵)连续工作一个月(雨季减半),需更换新油。方法:拧开放油螺栓,放掉旧油,再将泵启动数秒,使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓,加入新油至额定量(油视镜观察)。连续使用半年以上,换油时应将油盖打开,用布擦干净箱内污垢。3.在重新开机前,要注意检漏。方法:启动维持泵,关好da门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到6X10帕,否则要进行检漏。检查联接处是否装密封胶圈,或压坏密封圈。排除漏气隐患后方可加热,否则扩散泵油会烧环,真空镀膜设备无法进入工作状态。真空镀膜机品牌有很多,你如何选择?江西射频离子源怎么选
本发明的优点在于:本申请的束径约束器通过驱动组件驱动滑环旋转,以使叶片转动来进行光阑的大小调节,调节方便且调节精度高;而采用包含该束径约束器的束径控制装置进行束径调节时,通过在控制器上输入离子束束径值即可实现光阑大小的调节,无需关闭离子源和打开真空腔体,调节效率高、自动化程度好。附图说明图1为现有技术中采用曲面栅网调节束径的结构示意图。图2为本申请中离子束采用平面栅网的结构示意图。图3为本申请中束径约束器结构示意图。图4为图3的示意图。图5为为图4的进一步示意图。图6为本申请中的叶片结构示意图。图7为本申请中的束径控制装置的示意图。具体实施方式下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,*用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。如图3至6所示为本申请的束径约束器的结构示意图,如图所示,该射频离子源离子束束径约束器,包括底座1、多个叶片2及驱动机构,底座1上设置有可供离子束穿过的中空结构11,多个叶片2设于底座1一端并环绕底座1的中空结构11呈圆周排布。成都离子束溅射射频离子源厂家真空镀膜机的应用领域。
【真空镀膜设备捡漏需注意】真空镀膜设备检漏是保证真空镀膜设备真空度的一项检查措施,简称检漏,真空度的高低是直接影响到镀膜效果的,所以检漏是必不可少的。一、要确认漏气到底的虚漏还是实漏。因为工件材料加热后都会在不同程度上产生气体,有可能误以为是从外部流进的气体,这就是虚漏,要排除这种情况。二、测试好真空室的气体密封性能。确保气密性能符合要求。三、检查漏孔的da小,形状、位置,漏气的速度,制备出可解决方案并实施。四、确定检测仪器的小可检漏率和检漏灵敏性,以da范围的检测出漏气情况,避免一些漏孔被忽略,提高检漏的准确性。五、把握检漏仪器的反应时间和消除时间。把时间掌握好,保证检漏仪器工作到位,时间少了,检漏效果肯定差,时间长了,浪费检漏气体和人工电费。六、还要避免漏孔堵塞。有时由于操作失误,检漏过程中,一些灰尘或液体等把漏孔堵塞了,以为在该位置没有漏孔,但当这些堵塞物由于内外压强差异提高或其他原因使漏孔不堵了,那漏气还是存在的。为真空镀膜设备做好检漏工作是很重要的,造成真空度下降的原因多种多样,我们要一一的解决这些原因,稳定镀膜的效果。
【真空镀膜机常见故障】:一、当正在镀膜室真空突然下降1.蒸发源水路胶圈损坏(更换胶圈)2.坩埚被打穿(更换坩埚)3.高压电极密封处被击穿(更换胶圈)4.工转动密封处胶圈损坏(更换胶圈)5.预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏(更换二位五通阀)6.高阀突然关闭可能是二位五通阀损坏(更换二位五通阀)7.机械泵停机可能是继电器断开(检查继电器是否工作正常)8.烘烤引入线电极密封处被击穿(更换胶圈)9.挡板动密封处胶圈损坏(更换胶圈)10.玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂(更换玻璃)二、长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、极限真空、保真空:1.蒸发室有很多粉尘(应清洗)2.扩散泵很久未换油(应清洗换油)3.前级泵反压强da太机械泵真空度太低(应清洗换油)4.各动密封胶圈损坏(更换胶圈)5.由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶圈老化(更换胶圈)6.蒸发室各引入水路密封处是否有胶圈损坏(更换胶圈)7.各引入座螺钉、螺母有无松动现象(重新压紧)8.高低预阀是否密封可靠(注油)射频离子源可用于医疗领域,如放射性解决、zl解决等。
【射频离子源工作原理】:气体通过一个专门设计的气体绝缘器进入石英放电室,13.56mhz的射频功率通过电感耦合进入放电室离化气体。在产生plasma后、用栅网构成的加速系统将离子引出。初,离子被带正电的Screen Grid集中、接下来加负电压的加速栅网将离子束引出。被引出的离子形成离子束,向靶标辐射。离子所带有的能量是由Screen grid的正电压和Accelerator grid所加的负电压大小所决定。离子源设备能促进光电产业升级,在国内也是一项“卡脖子”技术。具有能量高、热辐射低、工作时间长、对膜层污染小、能量分布均匀性好、适应多种工作气体的特点。成都国泰真空镀膜机怎么样?江西射频离子源怎么选
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【真空镀膜的膜层结构分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等树脂类均可成型真空电镀,要求底材为纯原料,电镀级别更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,对基材表面做预处理,为膜层的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情况可酌情加厚;膜层:靶材蒸发的结果,VM膜层可导电,NCVM镀层不导电,且抗干扰性效果很好,膜层厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色,同時对真空膜层起保护作用,再加上UV、PU的表面装饰,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚!江西射频离子源怎么选