企业商机
射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

【真空镀膜机之镀锌工艺】在钢铁合金材料的表面镀一层锌以起美观、防锈等作用的表面处理技术,表面的锌层是一种电化学保护层,可以防止金属腐坏,主要采用的方法是热镀锌和电镀锌。适用材料:由于镀锌工艺依赖于冶金结合技术,所以只适合钢和铁的表面处理。工艺成本:无模具费用,周期短/人力成本中等,因为工件的表面质量很da程度上取决于镀锌前的人工表面处理。环境影响:由于镀锌工艺增长了钢铁件40-100年的使用寿命,很好的防止了工件的生锈和腐坏,所以对保护坏境有积极的作用。另外,镀过锌的工件在使用寿命到期后,可以重新送返镀锌槽,对液态锌的反复利用不会产生化学或物理废料。真空镀膜机详细镀膜方法。甘肃离子束辅助沉积射频离子源批发价格

【真空镀膜机电控柜的操作】1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源2、开总电源3、开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。4、开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。5、观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子qiang电源。河北离子束溅射射频离子源制造生产真空镀膜机使用时,需要注意哪些问题?

直流电源电压纹波做了二次滤波处理,高压输出的纹波小于50mV,离子源束流的稳定性和重复性较好,镀膜的产品的折射率更稳定。国泰真空射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同国泰射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同阻抗快速点火。

    达到修正面形误差的目的,其加工精度达到纳米级。射频(rf)离子源采用磁感应产生等离子体,因此是无极放电,放电室内钨灯丝作为阴极,钨灯丝可在反应气体中长时间工作,**降低了对离子束带来的污染。由于射频感应产生的等离子体中只有单电荷离子而几乎没有双电荷离子,因此使屏栅溅射引起的污染尤为小,同时也增加了离子束的均匀性。rf射频离子源采用特殊的三栅离子光学系统,既提高了拔出效率,又保证了结构的热稳定性及防污染的可靠性。离子源工作时,气体通过石英放电室,通过,离化气体产生等离子体。带电粒子经由静电场加速,控制离子束电压,增大放电室功率,提高放电等离子体浓度,在经过离子三栅光学系统的聚焦加速形成一定能量的离子束。现有技术中的射频离子源离子束束径是通过位于离子源内部的三级栅网设计的位置及形状进行调节的,调节时需要反复更换栅网以实现束径调节,调节效率低,同时,现有的栅网均为曲面栅网,如图1所示,从而使得加工制造较为困难,并且很难保证曲面弧度及孔径的加工精度,加工成本高。技术实现要素:鉴于上述问题,本发明的目的在于提供一种束径调节方便的射频离子源离子束束径约束器。真空镀膜机真空四个阶段。

【真空镀膜机真空检漏方法之静态升压法】静态升压法属于真空检漏法中的一种,也是简单易行的真空系统检漏方法,因为它不需要用额外特殊的仪器或者特殊物质,通过测量规管就可以检测真空系统的总漏率,从而确定真空系统或部件是否满足工作要求。虽然胜在简单,但也存在局限。如果真空系统或容器存在漏孔的话,静态升压法是无法确定漏孔所在的。因此在确定系统是否有漏孔的同时还需要确定其位置的话,就需要配合其他方法来进行了。静态升压法的操作只要将被检容器抽空至相应的压力范围,再关闭阀门,隔离真空泵与真空容器,然后用真空计测量记录真空容器中压力随时间的变化过程,即可得出泄漏数据。《真空系统抽气达不到工作压力有哪些原因》中,螺杆真空泵厂家介绍的判断方法即是通过静态升压法实现的,比较方便。当然在应用过程中,要提高准确性就要减少其他因素干扰,需要在检测之前对容器进行净化清洗并烘干,或者用氮气进行冲洗。更严格一点可以在测量规管与容器之间设置冷阱,处理释放的可凝气体,而对可能存在的漏孔所漏进的空气不会造成影响。真空镀膜机的工作原理和构成。光学镀膜射频离子源制造生产厂家

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【真空镀膜机之卷绕式镀膜机】镀膜产品广fan用于装饰、包装、电容器等领域中,可镀光学、电学、电磁、导电等多种薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、纸、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量为1%~2%,纸含水量更da,一般为5%-7%,经涂布烘干后,含水量仍有3%。由于基材含水量高,故镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。双室结构应用普遍,其优点是:①可以蒸镀放气量较da的纸基材,并能保障镀膜质量。纸放出的da量气体从卷绕室中被排走。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小,使放出来的气体不易进入蒸镀室中;②单室结构必须配置较da的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力,而双室结构中的蒸镀室气体量较小,可配小型抽气机组,使设备成本降低,并节约能源;③卷绕室与蒸镀室分别抽气,可缩短抽气时间。卷绕式真空镀膜机在结构上除了有一般镀膜机所有的结构外,必须有一个为了实现连续镀膜而设置的卷绕机构。由于被镀基体是纸或塑料,放气量较da,因此,在真空室的结构上又有单室和多室之分。甘肃离子束辅助沉积射频离子源批发价格

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