广东华星光电真空镀膜设备

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜内白雾】： 白雾形成在膜内，无法用擦拭方法去除。 可能成因： 1. 基片脏 2. 镜片表面腐蚀污染 3. 膜料与膜料之间、膜料与基片之间的匹配 4. 氧化物充氧不够 5. 第yi层氧化锆膜料，可能对某些基片产生白晕现象 6. 基片进罩前（洗净后）受潮气污染 7. 洗净或擦拭不良，洗净痕迹，擦拭痕迹 8. 真空室脏、水汽过重 9. 环境湿度大 改善对策：基片本身的问题可能时主要的镀膜室尽量弥补，镀膜本身Zui大的可能室膜料匹配问题。 1. 改进膜系，第yi层不用氧化锆 2. 尽量减少真空室开门时间 3. 真空室在更换护板、清洁后，Zui好能空罩抽真空烘烤一下，更换的护板等真空室部件必须干燥、干净 4. 改善环境 5. 妥善保护进罩前在伞片上的镜片，免受污染 6. 改善洗净、擦拭效果 7. 改善膜匹配（考虑第yi层用Al2O3） 8. 改善膜充氧和蒸发速率（降低） 9. 加快前工程的流程。前工程对已加工光面的保护加强。 10. 抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他杂质附着干结。 广东真空镀膜设备厂家。广东华星光电真空镀膜设备

【溅射镀膜定义】： 定义：所谓溅射，就是这充满腔室的工艺气体在高电压的作用下，形成气体等离子体（辉光放电），其中的阳离子在电场力作用下高速向靶材冲击，阳离子和靶材进行能量交换，使靶材原子获得足够的能量从靶材表面逸出（其中逸出的还可能包含靶材离子）。这一整个的动力学过程，就叫做溅射。入射离子轰击靶面时，将其部分能量传输给表层晶格原子，引起靶材中原子的运动。有的原子获得能量后从晶格处移位，并克服了表面势垒直接发生溅射；有的不能脱离晶格的束缚，只能在原位做振动并波及周围原子，结果使靶的温度升高；而有的原子获得足够大的能量后产生一次反冲，将其临近的原子碰撞移位，反冲继续下去产生高次反冲，这一过程称为级联碰撞。级联碰撞的结果是部分原子达到表面，克服势垒逸出，这就形成了级联溅射，这就是溅射机理。当级联碰撞范围内反冲原子密度不高时，动态反冲原子彼此间的碰撞可以忽略，这就是线性级联碰撞。 广东华星光电真空镀膜设备PVD真空镀膜设备公司。

【近些年来出现的新的镀膜方法】： 除蒸发法和溅射法外，人们又综合了这两种方法的优缺点，取长补短，发展出一些新的方法，如：等离子体束溅射等。这种崭新的技术结合了蒸发镀的高效和溅射镀的高性能特点，特别在多元合金以及磁性薄膜的制备方面，具有其它手段无可比拟的优点。高效率等离子体溅射(High Target Utilization Plasma Sputtering(HiTUS))实际上是由利用射频功率产生的等离子体聚束线圈、偏压电源组成的一个溅射镀膜系统。这种离子体源装置在真空室的侧面。如图1所示。图2为实际的镀膜机照片。该等离子体束在电磁场的作用下被引导到靶上，在靶的表面形成高密度等离子体。同时靶连接有DC/RF偏压电源，从而实现高效可控的等离子体溅射。等离子体发生装置与真空室的分离设计是实现溅射工艺参数宽范围可控的关键，而这种广阔的可控性使得特定的应用能确定工艺参数Zui优化。 与通常的磁控溅射相比，由于磁控靶磁场的存在而在靶材表面形成刻蚀环不同，HiTUS系统由于取消了靶材背面的磁铁，从而能对靶的材料实现全mian积均匀。

【离子镀膜法之射频离子镀】： 射频离子镀(RFIP):利用电阻或电子束加热使膜材气化；依靠射频等离子体放电使充入的真空Ar及其它惰性气体、反应气体氧气、氮气、乙炔等离化。这种方法的特点是：基板温升小，不纯气体少，成膜好，适合镀化合物膜，但匹配较困难。可应用于镀光学器件、半导体器件、装饰品、汽车零件等。射频离子镀膜设备对周遭环境没有不利影响，符合现代绿色制造的工业发展方向。目前，该类型设备已经guang泛用在硬质合金立铣刀、可转位铣刀、焊接工具、阶梯钻、钻头、铰刀、油孔钻、车刀、异型刀具、丝锥等工具的镀膜处理上。 此外，离子镀法还包括有低压等离子体离子镀，感应离子加热镀，集团离子束镀和多弧离子镀等多种方法。真空镀膜设备使用时，需要注意哪些问题?

【光谱分光不良的补救（补色）之机器故障和人为中断】： 分光不良分为二种情况：一是全部膜系镀制完成后，经测试分光不良，此类不良主要按六节所述方法处理，一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断（包括发现错误中断）造成的分光不良，一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确，补救成功率比较高。 中断的原因形式之机器故障和人为中断： 模拟：根据已经实镀的镜片（测试比较片）实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值，再根据已经掌握的膜系信息输入，采用倒推法逐层优化，模拟出实际镀制的膜系数据。 *测试比较片是指随镜片一起镀制（在伞片上、与镜片同折射率），用于测试镀后分光曲线的平片。 优化：再锁定通过模拟得到的膜系数据，通过后续层膜厚优化找到实现目标的Zui佳方案。 试镀：根据新优化的后续膜层数据，试镀若干镜片或测试片，确认补色膜系的可行性。 补色镀：对试镀情况确认后实施补色镀。补色镀前，确认基片是否洁净，防止产生其他不良。 光学真空镀膜设备制造商。广东华星光电真空镀膜设备

真空镀膜设备主要用途？广东华星光电真空镀膜设备

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜外色斑】： 色斑（也称膜色亚克、烧蚀）是指镜片上的膜色局部变异。有膜内色斑和膜外色斑二种。 膜外色斑改善对策： 1. 对减反膜，设计条件许可时，外层加以SiO2层，10nm左右即可（一般的外层膜是MgF2）。使外层趋于光滑、致密、减少有害物质的侵蚀。 2. 适当降低蒸镀速率（在一定范围内），提高膜层光滑度，减少吸附。 3. 镜片在出罩后，待冷却后再下伞和擦拭。 4. 镜片在出罩后，放置在洁净干燥的场合待冷却。减少污染可能。 5. 用碳酸钙粉，轻擦去除外层附着物。 6. 改善工作环境的湿度、温差 7. 改善充气口附近的环境，使充入的大气干燥、洁净。 8. 工作人员的个人卫生改善 9. 检讨真空室返油状况，防止返油。 10. 适当降低基片温度。 11. 改善膜系，取消太薄的膜层，根据硝材特性，选择合适的膜层材料。 广东华星光电真空镀膜设备

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