吉林新浪博客光学镀膜机

【减反射膜的透过量】 反射光占入射光的百分比取决于镜片材料的折射率，可通过反射量的公式进行计算。 反射量公式：R＝（n-1)平方/(n+1)平方 R：镜片的单面反射量 n：镜片材料的折射率 例如普通树脂材料的折射率为1.50，反射光R＝（1.50－1）平方/（1.50＋1）平方＝0.04＝4%。 镜片有两个表面，如果R1为镜片前表面的量，R2为镜片后表面的反射量，则镜片的总反射量R＝R1＋R2。（计算R2的反射量时，入射光为100%－R1）。镜片的透光量T＝100%-R1-R2。 由此可见，高折射率的镜片如果没有减反射膜，反射光会对戴镜者带来的不适感比较强烈。光学镀膜机的工作原理。吉林新浪博客光学镀膜机

【光学镀膜机维护与保养之光路的检修与维护】光路调整的先决条件是：确保直流稳定电源、调制光源头、光纤、光栅单色仪、光电转换放大器、光学膜厚仪及各专yong电缆的完好和正确接入。特别是光电转换放大器、光学膜厚测量仪的接地点，必须单独归至主机接点牢固接地。 导磁板及扫描圈的维护：导磁板及永磁铁是不需要经常拆卸维护，如需拆卸，请注意永磁铁的极向，及导磁板的方向。线圈由于安装的空间密实，请不要使用硬尖的东西撬动，否则有可能会造成损坏。山东二手光学镀膜机贴吧光学镀膜机详细镀膜方法。

    【光学真空镀膜机之电子蒸镀】电子qiang蒸镀系统的原理是利用电子qiang所射出之电子束轰击待镀材料,将高能电子射束之动能转为熔化待镀材料之热能,其拥有较佳之热转换效率,同时也可得到较高的镀膜速率,而且利用电流大小控制热电子数目也可精密调控其蒸发速率。电子束的来源主要由电子qiang系统提供,电子qiang的操作原理类似于阴极射线管,它的电源输出功率可从1kw到1000kw,使得电子束的动能达到30kev以上。当阴极灯丝被施以低压电流而达到白热化时,电子将从灯丝表面释出而向四方发射,且随灯射温度提高而增加其释放量,此为热电子。一般低功率电子qiang之电子束的折射方向是靠永久磁铁的磁场,而高功率电子qiang则需使用电磁铁。电子束加速后可直接撞击在薄膜材料上使之蒸发,但蒸发之原子或分子会污染电子源,因此通常将电子源藏在装薄膜材料之qiang座底下,而利用强力磁场将电子束偏向180°或270°。因电子qiang蒸镀法,对某些精密光学元件的薄膜品质要求而言仍有不足,其膜层微观结构呈现柱状形态,孔隙多,装填密度低,造成较大的光学吸收,且耐潮性、硬度及附着度都较差。

    【光学镀膜工艺】光学镀膜所涉及的制造工艺是劳动和资本密集型的，并且十分耗时。影响镀膜成本的因素包括被镀膜的光学件的数量，类型，尺寸，需要镀多少层膜以及光学件上需要镀膜的表面数量。镀膜采用的沉积工艺对镀膜成本以及镀膜性能方面的影响也十分巨大。此外，在这之前还需要做大量的准备工作，以确保每个镀膜光学件的质量都能达到Z高水平。在镀膜之前，清洁和准备光学件是非常重要的。光学元件必须具有适合镀膜粘附的清洁表面。一旦镀上膜，基片上未预先除去的污渍就很难被去除了。爱特蒙特光学®会进行一丝不苟的清洁，从而确保Z终产品拥有始终如一的高质量。不同的镀膜沉积技术，具有各自的优缺点。蒂姆(北京)新材料科技有限公司可以提供采用不同的镀膜沉积技术镀膜用的溅射靶材、蒸发镀膜材料。请联系我们，告诉我们哪种镀膜材料Z适合您的应用。 光学镀膜机的工作原理和构成。

    【光学镀膜机的保养】光学镀膜机的保养（一）定期更换扩散泵油扩散泵油使用一段时间，约二个月（两班），因在长期高温环境，虽然较高真空时才启动扩散泵，但仍残留氧气及其它成份使之与扩散泵油起反应，扩散泵油在高温下也可能产生裂解，使其品质下降，而延长抽气时间。在我们认为时间延长得太多时，应予更换。（二）真空泵机械泵油、维持泵油在使用二个月，油质会发生变化。因油可能抽入水分、杂质及其它原因，而使用油粘性变差，真空下降，故需要更换。如为新设备，在使用头半个月即应更换，因在磨合期，油含磨合铁粉较多，会加剧磨损。（三）清洁卫生定期将设备及其周围环境卫生搞好，常保持设备内外清洁，将设备周围环境整理有条，有一个好的工作环境，以保安全。 光学镀膜机厂家qian十。江苏光学镀膜机观察窗玻璃

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    【光学镀膜法的应用之化学镀膜法和物理镀膜法】浸镀法是唯yi可以同时制作双面膜的方法。不过，后来的一些镜片设计要求，不需要双面膜。因此，必须将另一面清洗掉，增加了成本和环保的负担。喷镀法则是把配置好的膜溶液装在喷qiang上，喷在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃载体可以是移动或旋转，以增加膜的均匀性。可镀双面或单面。以此方法延生的还有一种甩胶法。将溶液滴至镜片中心，利用镜片高速旋转的离心力，将溶液均匀的“抛”在表面上。以现在的观点来看，化学镀膜的好处，在于其设备投资低，因此它仍然是镀有机膜的一种常用且成本低廉的方法。化学镀膜法具有价格低，操作容易等优点，但也有相对污染较大，无法镀多层膜的缺点。新一代的镀膜技术改用物理方式，以真空蒸镀、离子镀等多种不同的形式进行。物理镀膜的过程是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物或其反应物沉淀积在被镀基片表面的过程。物理镀膜的强度和均匀性普遍高于化学镀膜，而且Z重要的是物理镀膜可以进行多层镀膜，而化学镀膜受限于其工作原理基本只能实现单层镀膜。 吉林新浪博客光学镀膜机

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