天津离子束辅助沉积射频离子源厂家

直流电源电压纹波做了二次滤波处理，高压输出的纹波小于50mV，离子源束流的稳定性和重复性较好，镀膜的产品的折射率更稳定。国泰真空射频离子源采用通用的LC高频谐振原理，使用可调电容快速调谐，使整个负载阻抗匹配到50Ώ，从而使功率输出比较大，电离化效率比较高，调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位，并带锁止和记忆功能，以满足负载在不同的真空环境、不同国泰射频离子源采用通用的LC高频谐振原理，使用可调电容快速调谐，使整个负载阻抗匹配到50Ώ，从而使功率输出比较大，电离化效率比较高，调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位，并带锁止和记忆功能，以满足负载在不同的真空环境、不同阻抗快速点火。电子束蒸发真空镀膜机是什么？天津离子束辅助沉积射频离子源厂家

【真空镀膜机检漏之气压检漏】气压检漏被检零部件内腔充以气体(一般为空气)，充气压力的高低视零部件的强度而定，一般为(2~4)×105帕。充压后的零部件如发出明显的嘶嘶声，音响源处就是漏孔位置。用这种方法可检较小漏率为5帕·升/秒的漏孔。如不能用声音直接察觉漏孔，则用皂液涂于零部件可疑表面处，有气泡出现处便是漏孔位置。用这种方法较小可检漏率为5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外，还可将充气的零部件浸在清净的水槽中，气泡形成处便是漏孔位置。用水槽显示漏孔，方便可靠，并能同时全部显示出漏孔位置。如气泡小、成泡速度均匀、气泡持续时间长，则为×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如气泡da、成泡持续时间短，则为13~103帕·升/秒漏率的漏孔。江西真空镀膜射频离子源源头实力厂家真空镀膜机的主要应用。

【真空镀膜机之真空泵的维护和保养】1、经常检查油位位置，不符合规定时须调整使之符合要求。以泵运转时，油位到油标中心为准。2、经常检查油质情况，发现油变质应及时更换新油，确保泵工作正常。3、换油期限按实际使用条件和能否满足性能要求等情况考虑，由用户酌情决定。一般新泵，抽除清洁干燥的气体时，建议在工作100小时左右换油一次。待油中看不到黑色金属粉末后，以后可适当延长换油期限。4、一般情况下，泵工作2000小时后应进行检修，检查桷胶密封件老化程度，检查排气阀片是否开裂，清理沉淀在阀片及排气阀座上的污物。清洗整个泵腔内的零件，如转子、旋片、弹簧等。一般用汽油清洗，并烘干。对橡胶件类清洗后用干布擦干即可。清洗装配时应轻拿轻放小心碰伤。5、有条件的对管中同样进行清理，确保管路畅通。6、重新装配后应进行试运行，一般须空运转2小时并换油二次，因清洗时在泵中会留有一定量易挥发物，待运转正常后，再投入正常工作。7、本系列泵油采用专业用真空泵油。

【真空镀膜机之真空泵的安装和指导】真空泵安装指导1、泵应安装在地面结实坚固的场所，周围应留有充分的余地，便于检查、维护、保养。2、泵底座下应保持地基水平，底座四角处建议垫减震橡皮或用螺栓浇制安装，确保泵运转平稳，振动小。3、泵与系统的连接管道应密封可靠，对小泵可采用金属管路连接密封垫采用耐油橡胶，对小泵可采用真空胶管连接，管道管径不得小于泵吸气口径，且要求管路短而少弯头。（焊接管路时应qing除管道中焊渣，严禁焊渣进入泵腔。）4、在连接管路中，用户可在泵进气口上方安装阀门及真空计，随时可检查泵的极限压力。5、按电动机标牌规定连接电源，并接地线和安装合适规格的熔断器及热继电器。6、泵通电试运转时，须取下电机皮带，确认泵转向符合规定方向方可投入使用，以防泵反转喷油。（转向按防护罩指示方向）7、对于有冷却水的泵，按规定接通冷却水。8、如泵口安装电磁阀时，阀与泵应同时动作。9、当泵排出气体影响工作环境时，可在排气口装接管道引离或装接油雾过滤器。真空镀膜机故障维修技巧有哪些？

【真空镀膜机之镀锌工艺】在钢铁合金材料的表面镀一层锌以起美观、防锈等作用的表面处理技术，表面的锌层是一种电化学保护层，可以防止金属腐坏，主要采用的方法是热镀锌和电镀锌。适用材料：由于镀锌工艺依赖于冶金结合技术，所以只适合钢和铁的表面处理。工艺成本：无模具费用，周期短/人力成本中等，因为工件的表面质量很da程度上取决于镀锌前的人工表面处理。环境影响：由于镀锌工艺增长了钢铁件40-100年的使用寿命，很好的防止了工件的生锈和腐坏，所以对保护坏境有积极的作用。另外，镀过锌的工件在使用寿命到期后，可以重新送返镀锌槽，对液态锌的反复利用不会产生化学或物理废料。磁控溅射真空镀膜机是什么？江西真空镀膜射频离子源源头实力厂家

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【真空镀膜之磁控溅射镀膜】磁控溅射对阴极溅射中电子使基片温度上升过快的缺点加以改良,形成了电场和磁场方向相互垂直的特点。在正交的电磁场的作用下,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,从而xianzhu地延长了电子的运动路程,增加了同工作气体分子的碰撞几率,提高了电子的电离效率。由于电子每经过一次碰撞损失一部分动能,经过多次碰撞后,丧失了能量成为“终电子”进入离阴极靶面较远的弱电场区,后到达阳极时已经是能量消耗殆尽的低能电子,也就不再会使基片过热。同时高密度等离子体被束缚在靶面附近,又不与基片接触,这样电离产生的正离子能十分有效地轰击靶面,而基片又可免受等离子体的轰击,因而基片温度又可降低。在溅射仪起辉以后,并不把样品转入阳极的生长位置,也不通循环水,使样品随放电的热能而逐渐升高至一定温度后,才开始生长,以减小应力,获得牢固度较高的薄膜。另外在样品盘中还安装了温控仪(精度小于1℃)以监控薄膜生长过程中的样品温度。天津离子束辅助沉积射频离子源厂家

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