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空心阴极霍尔离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 空心阴极霍尔离子源
空心阴极霍尔离子源企业商机

【真空镀膜机之卷绕机构设计中应考虑的问题】①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度,它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min,在国外日本的EW系列产品中,其卷绕速度已达到300m/min,德国L.H公司生产的镀膜机已达到600m/min,可见随着镀膜技术的发展,卷绕速度有待提高。②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要,因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定,才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜(如电容器膜)尤为重要。③带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高,带状基材在卷绕镀膜过程中,起褶和发生偏斜,严重时会造成基材的断裂,使生产中断,既影响生产效率,又浪费材料。因此,在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。光学真空镀膜机制造商。广东光学薄膜空心阴极霍尔离子源怎么选

【真空镀膜机真空检漏方法普及之荧光检漏法】荧光检漏法首先需要将荧光材料溶于如丙tong等一些浸润性能好、易于挥发的有机溶剂中,使之成为饱和溶液;然后将被检的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面,这一过程中,为了提升效果、缩短浸泡时间,可以在抽真空或者加压条件下对其进行浸泡。如果存在漏孔,荧光剂溶液会因毛细作用渗入到其中;qing除表面多余的溶液,待有机溶剂挥发后,荧光材料便会在漏孔中残留下来;此时再用紫外线灯光照射,漏孔位置就会观察到明显的荧光点。在进行紫外光源照射时,对于一些存在盲孔、表面不平的器件,可能也会存在残留荧光材料,因此玻璃真空器件好在背面进行照射观察;为了提高对比度也可以采用滤光放da镜,过滤掉紫外线以外的其他光线,来获得更佳的观察效果;而在荧光材料的选择时要注意其发光颜色和被检真空部件的颜色要有明显的反差。荧光检漏法不仅用于真空系统检漏中,而且也被用于铸件、模压金属件以及焊接件的裂纹检查等。江苏空心阴极霍尔离子源批发价格真空镀膜机的操作培训。

【真空镀膜机之真空电镀】真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气,氩气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的仿金属表面层。适用材料:1、很多材料可以进行真空电镀,包括金属,软硬塑料,复合材料,陶瓷和玻璃。其中*常见用于电镀表面处理的是铝材,其次是银和铜。2、自然材料不适合进行真空电镀处理,因为自然材料本身的水分会影响真空环境。工艺成本:真空电镀过程中,工件需要喷涂,装载,卸载和再喷涂,所以人力成本相当高,但是也取决于工件的复杂度和数量。环境影响:真空电镀对环境污染很小,类似于喷涂对环境的影响。

【真空镀膜机清洗工艺要求】真空工艺进行前应清洗真空材料,从工件或系统材料表面qing除污染物;真空零部件的表面清洗处理也是非常有必要的,因为由污染物所造成的气体、蒸气源不仅会使真空系统不能获得所要求的真空度。而且由于污染物的存在,同时也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”,根据污染物的物理状态可分为固体、气体及液体,它们以膜或散粒形式存在。就其化学特征来看,它可以处于离子态或共价态,可以是无机物或有机物。暴露在空气中的表面易受到污染,污染的来源有很多种,初的污染通常是表面本身形成过程中的一部分。吸附现象、化学反应、浸析和干燥过程、机械处理以及扩散和离析过程都使各种成分的表面污染物增加。广东真空镀膜机厂家。

【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源,在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量,从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气),可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中,惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片,它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气,对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。一般情况下,其中的碳不能单独挥发.经化学清洗后,需要引入Ar或Ar+O2混合气体进行辉光放电清洗,使表面上的杂质和由于化学作用被束缚在表面上的气体得到qing除。成都国泰真空镀膜机怎么样?红外镀膜空心阴极霍尔离子源批发价格

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【真空镀膜机之卷绕式镀膜机】镀膜产品广fan用于装饰、包装、电容器等领域中,可镀光学、电学、电磁、导电等多种薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、纸、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量为1%~2%,纸含水量更da,一般为5%-7%,经涂布烘干后,含水量仍有3%。由于基材含水量高,故镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。双室结构应用普遍,其优点是:①可以蒸镀放气量较da的纸基材,并能保障镀膜质量。纸放出的da量气体从卷绕室中被排走。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小,使放出来的气体不易进入蒸镀室中;②单室结构必须配置较da的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力,而双室结构中的蒸镀室气体量较小,可配小型抽气机组,使设备成本降低,并节约能源;③卷绕室与蒸镀室分别抽气,可缩短抽气时间。卷绕式真空镀膜机在结构上除了有一般镀膜机所有的结构外,必须有一个为了实现连续镀膜而设置的卷绕机构。由于被镀基体是纸或塑料,放气量较da,因此,在真空室的结构上又有单室和多室之分。广东光学薄膜空心阴极霍尔离子源怎么选

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