企业商机
射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

【真空镀膜之材料表面处理】表面处理:是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。我们比较常用的表面处理方法是,机械打磨,化学处理,表面热处理,喷涂表面,表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面处理的工艺有:真空电镀、电镀工艺、阳极氧化、电解抛光、移印工艺、镀锌工艺、粉末喷涂、水转印、丝网印刷、电泳等。真空镀膜机真空度多少?山东离子束溅射射频离子源制造生产厂家

【真空镀膜技术专业词汇】真空镀膜vacuumcoating:在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。基片substrate:膜层承受体。试验基片testingsubstrate:在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。镀膜材料coatingmaterial:用来制取膜层的原材料。蒸发材料evaporationmaterial:在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。溅射材料sputteringmaterial:有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。膜层材料(膜层材质)filmmaterial:组成膜层的材料。蒸发速率evaporationrate:在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔溅射速率sputteringrate:在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。沉积速率depositionrate:在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。镀膜角度coatingangle:入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。四川光学薄膜射频离子源批发价格真空镀膜机详细镀膜方法。

【真空镀膜设备的正常工作条件】1、环境温度:10~30℃2、相对湿度:不da于70%3、冷却水进水温度:不高于25℃4、冷却水质:城市自来水或质量相当的水5、供电电压:380V,三相50Hz或220V,单相50Hz(由所用电器需要而定),电压波动范围342~399V或198V~231V,频率波动范围49~51Hz;6、设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。7、设备周围环境整洁、空气清洁,不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。此外,真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁卫生。地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染,可采用在泵的排气口上面装设排气管道(金属、橡胶管)的办法,将气体排出室外。

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场,在此区电子密度高,进而提高离子密度,使得溅镀率提高(一个数量级),溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳,是目前实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室,排气系统,溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang(sputtergun)。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型,其中平面型分为矩型和圆型,靶材料利用率30-40%,圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为:直流(DC)、射频(RF)、脉冲(pulse),直流:800-1000V(Max)导体用,须可灾弧。射频:13.56MHZ,非导体用。脉冲:泛用,新发展出国产真空镀膜机哪家好?

直流电源电压纹波做了二次滤波处理,高压输出的纹波小于50mV,离子源束流的稳定性和重复性较好,镀膜的产品的折射率更稳定。国泰真空射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同国泰射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同阻抗快速点火。光学真空镀膜机制造商。云南离子束溅射射频离子源制造生产

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【真空镀膜机之卷绕式镀膜机】镀膜产品广fan用于装饰、包装、电容器等领域中,可镀光学、电学、电磁、导电等多种薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、纸、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量为1%~2%,纸含水量更da,一般为5%-7%,经涂布烘干后,含水量仍有3%。由于基材含水量高,故镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。双室结构应用普遍,其优点是:①可以蒸镀放气量较da的纸基材,并能保障镀膜质量。纸放出的da量气体从卷绕室中被排走。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小,使放出来的气体不易进入蒸镀室中;②单室结构必须配置较da的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力,而双室结构中的蒸镀室气体量较小,可配小型抽气机组,使设备成本降低,并节约能源;③卷绕室与蒸镀室分别抽气,可缩短抽气时间。卷绕式真空镀膜机在结构上除了有一般镀膜机所有的结构外,必须有一个为了实现连续镀膜而设置的卷绕机构。由于被镀基体是纸或塑料,放气量较da,因此,在真空室的结构上又有单室和多室之分。山东离子束溅射射频离子源制造生产厂家

成都国泰真空设备有限公司专注技术创新和产品研发,发展规模团队不断壮大。公司目前拥有较多的高技术人才,以不断增强企业重点竞争力,加快企业技术创新,实现稳健生产经营。公司业务范围主要包括:光学镀膜设备,真空镀膜设备,光学真空镀膜机,红外镀膜设备等。公司奉行顾客至上、质量为本的经营宗旨,深受客户好评。公司深耕光学镀膜设备,真空镀膜设备,光学真空镀膜机,红外镀膜设备,正积蓄着更大的能量,向更广阔的空间、更宽泛的领域拓展。

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