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空心阴极霍尔离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 空心阴极霍尔离子源
空心阴极霍尔离子源企业商机

【真空镀膜机之卷绕机构设计中应考虑的问题】①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度,它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min,在国外日本的EW系列产品中,其卷绕速度已达到300m/min,德国L.H公司生产的镀膜机已达到600m/min,可见随着镀膜技术的发展,卷绕速度有待提高。②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要,因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定,才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜(如电容器膜)尤为重要。③带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高,带状基材在卷绕镀膜过程中,起褶和发生偏斜,严重时会造成基材的断裂,使生产中断,既影响生产效率,又浪费材料。因此,在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。真空镀膜机技术教程。山西真空镀膜空心阴极霍尔离子源

【真空镀膜的膜层结构分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等树脂类均可成型真空电镀,要求底材为纯原料,电镀级别更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,对基材表面做预处理,为膜层的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情况可酌情加厚;膜层:靶材蒸发的结果,VM膜层可导电,NCVM镀层不导电,且抗干扰性效果很好,膜层厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色,同時对真空膜层起保护作用,再加上UV、PU的表面装饰,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。湖南塑胶镀膜空心阴极霍尔离子源怎么选真空镀膜机机组是怎样的?

【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源,在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量,从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气),可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中,惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片,它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气,对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。一般情况下,其中的碳不能单独挥发.经化学清洗后,需要引入Ar或Ar+O2混合气体进行辉光放电清洗,使表面上的杂质和由于化学作用被束缚在表面上的气体得到qing除。

【真空镀膜机真空检漏方法之静态升压法】静态升压法属于真空检漏法中的一种,也是简单易行的真空系统检漏方法,因为它不需要用额外特殊的仪器或者特殊物质,通过测量规管就可以检测真空系统的总漏率,从而确定真空系统或部件是否满足工作要求。虽然胜在简单,但也存在局限。如果真空系统或容器存在漏孔的话,静态升压法是无法确定漏孔所在的。因此在确定系统是否有漏孔的同时还需要确定其位置的话,就需要配合其他方法来进行了。静态升压法的操作只要将被检容器抽空至相应的压力范围,再关闭阀门,隔离真空泵与真空容器,然后用真空计测量记录真空容器中压力随时间的变化过程,即可得出泄漏数据。《真空系统抽气达不到工作压力有哪些原因》中,螺杆真空泵厂家介绍的判断方法即是通过静态升压法实现的,比较方便。当然在应用过程中,要提高准确性就要减少其他因素干扰,需要在检测之前对容器进行净化清洗并烘干,或者用氮气进行冲洗。更严格一点可以在测量规管与容器之间设置冷阱,处理释放的可凝气体,而对可能存在的漏孔所漏进的空气不会造成影响。国产真空镀膜机哪家好?

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(VM)和不导电真空镀膜(NCVM)两种。VM:一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相媲美,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM:具有金属质感、透明,但不导电,一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。真空镀膜机的升级改造。宁夏光学薄膜空心阴极霍尔离子源价格

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【真空镀膜之材料表面处理】表面处理:是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。我们比较常用的表面处理方法是,机械打磨,化学处理,表面热处理,喷涂表面,表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面处理的工艺有:真空电镀、电镀工艺、阳极氧化、电解抛光、移印工艺、镀锌工艺、粉末喷涂、水转印、丝网印刷、电泳等。山西真空镀膜空心阴极霍尔离子源

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