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射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

【真空镀膜机真空检漏方法普及之荧光检漏法】荧光检漏法首先需要将荧光材料溶于如丙tong等一些浸润性能好、易于挥发的有机溶剂中,使之成为饱和溶液;然后将被检的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面,这一过程中,为了提升效果、缩短浸泡时间,可以在抽真空或者加压条件下对其进行浸泡。如果存在漏孔,荧光剂溶液会因毛细作用渗入到其中;qing除表面多余的溶液,待有机溶剂挥发后,荧光材料便会在漏孔中残留下来;此时再用紫外线灯光照射,漏孔位置就会观察到明显的荧光点。在进行紫外光源照射时,对于一些存在盲孔、表面不平的器件,可能也会存在残留荧光材料,因此玻璃真空器件好在背面进行照射观察;为了提高对比度也可以采用滤光放da镜,过滤掉紫外线以外的其他光线,来获得更佳的观察效果;而在荧光材料的选择时要注意其发光颜色和被检真空部件的颜色要有明显的反差。荧光检漏法不仅用于真空系统检漏中,而且也被用于铸件、模压金属件以及焊接件的裂纹检查等。真空镀膜机厂家排名。天津离子束溅射射频离子源怎么选

【真空镀膜机常见故障之旋片泵故障及处理方法】1、未做保养导致灰尘太多。真空镀膜设备在镀膜过程中容易产生da量灰尘,这些灰尘伴随空气容易混杂到泵油中,时间久了容易对转子及泵腔造成磨损及破坏。处理方法:如果灰尘不多,可以油过滤系统除掉灰尘;如果灰尘过多可以用除尘器配合油过滤系统除掉灰尘。2、旋片式真空泵冒烟和喷油:指旋片式真空泵在运转中排气口冒烟或者喷油,冒烟。处理方法:冒烟阐明泵的进气口外,包括管道、阀门、容器有修理的状况。3、喷油,阐明进气口外有da量的漏点,以至是进气口暴露da气。处理方法:封住泵的进气口使泵运转,假如不喷油的话,阐明有漏点;排气阀片损坏,检查排气阀片能否损坏,改换坏的排气阀片。4、被抽气体的温度可能过高。处理方法:降低被抽气体的温度,或能够加一个相应的换热器。5、配合的间隙改da。这是长期被抽气体内含有粉尘等,形成旋片和定子之间磨损后的间隙增da。处理方法:检查间隙能否过da,改换新的零部件。6、泵内的油路不通或者不畅,泵腔内没有坚持一定量的油量。处理方法:检查油路能否畅通,并加同类型的真空泵油。天津离子束溅射射频离子源怎么选真空镀膜机详细镀膜方法。

【真空镀膜机镀塑料件时抽真空时间过长是什么原因?】(1)真空室有漏气现象:da家都知道,真空蒸发镀膜机是的基本条件是工件在真空状态下才能进行镀膜加工的,若真空室有漏气现象而没有经过检漏找出漏气位置,则真空镀很长时间都不能抽得上来的;(2)即使真空室没有漏气,因为塑料产品的放气量da,所以抽真空,特别是高真空很难达到。真空室内太脏放气,而且由于塑料产品的放气,造成真空室内镀膜气体的不纯,有杂气的存在,造成镀膜产品的颜色发暗,发黄,发黑等。(3)也许是真空机组的抽气能力不够了,油被污染或氧化了。

【真空镀膜设备维修保养技术】一、当镀膜设备工作完成到两百个镀膜的时候,拆出密封圈,及时清洁设备环境(室内环境)。如何清洁保养?首先我们要使镀上去的膜层掉落,同时释放氢气,清洗过程中要注意所使用到的溶液会灼伤人体的皮肤,所以通常我们要小心谨慎用碱饱和溶液不断来回清洗真空适合内部(内壁),再用清水洗刷真空室,并通过抹布沾上汽油擦拭抽阀里面的污渍。二、当阀泵连续工作一个月之后,为保持设备的正常运转我们需要更换油。将泵启动,拧开放油螺栓,使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓,观察油视镜倒入新油加到一定额度,平常换油时应将油盖打开,有需要时用布擦干净箱内污垢。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。首先启动维持泵,关好da门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到标准,否则要进行检漏。检查联接处的密封圈是否正常。真空镀膜机日常怎么维护?

【真空镀膜机清洗工艺之紫外线辐照清洗】利用紫外辐照来分解表面上的碳氢化合物。例如,在空气中照射15h就可产生清洁的玻璃表面。如果把适当预清洗的表面放在一个产生臭氧的紫外线源中.要不了几分钟就可以形成清洁表面(工艺清洁)。这表明臭氧的存在增加了清洁速率。其清洗机理是:在紫外线照射下,污物分子受激并离解,而臭氧的生成和存在产生高活性的原子态氧。受激的污物分子和由污物离解产生的自由基与原子态氧作用.形成较简单易挥发分子.如H203、CO2和N2.其反应速率随温度的增加而增加。真空镀膜机的升级改造。安徽离子束辅助沉积射频离子源自主研发设计生产

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【真空镀膜技术专业词汇】真空镀膜vacuumcoating:在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。基片substrate:膜层承受体。试验基片testingsubstrate:在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。镀膜材料coatingmaterial:用来制取膜层的原材料。蒸发材料evaporationmaterial:在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。溅射材料sputteringmaterial:有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。膜层材料(膜层材质)filmmaterial:组成膜层的材料。蒸发速率evaporationrate:在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔溅射速率sputteringrate:在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。沉积速率depositionrate:在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。镀膜角度coatingangle:入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。天津离子束溅射射频离子源怎么选

成都国泰真空设备有限公司是以提供光学镀膜设备,真空镀膜设备,光学真空镀膜机,红外镀膜设备为主的有限责任公司,国泰真空是我国机械及行业设备技术的研究和标准制定的重要参与者和贡献者。公司承担并建设完成机械及行业设备多项重点项目,取得了明显的社会和经济效益。国泰真空将以精良的技术、优异的产品性能和完善的售后服务,满足国内外广大客户的需求。

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