陕西真空镀膜空心阴极霍尔离子源自主研发设计生产

【真空镀膜之离子束溅射镀膜】离子束溅射沉积法在离子源内由惰性气体(通常为氩)产生具有较高能量的离子轰击靶材料，把靶材料沉积到基片上的方法。离子束溅射沉积法的一da优点是基片相对于离子源和靶是du立的，它的温度可以单独控制。基片通常接地位，它和靶与高频电路无关，不会象阴极溅射镀膜那样受到高能电子的轰击，因而温度较低。所以只要配置一台较好的恒温循环器(如HX1050型，控温范围为-10℃~50℃，精度≤0。5℃)，实现对样品台的单独控温，就可以根据不同样品的要求以及薄膜生长不同阶段的温度需要进行适当调节。根据现有离子束溅射设备的构造，设计、加工了专门的金属样品架，放上样品后盖上金属压片，用螺丝紧密地固定在镀膜腔体的样品台上，可使样品和控温的样品台有良好的热接触。并在样品架中放置了一个测温铂电阻，用螺丝把金属压片连同其下的铂电阻一起固定压紧，再用导线引出与高精度的万用表相连，以监测薄膜生长过程中的样品温度。真空镀膜机的工作原理。陕西真空镀膜空心阴极霍尔离子源自主研发设计生产

【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则：(1)先功能，后结构。先给出指标参数、生产要求、功能；(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整体。再由整体，定局部。(4)先设计，后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标：镀膜方法：CVD，PVD（蒸发、溅射、离子镀、复合镀）；被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。技术参数;设备极限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作气氛;漏率、抽空时间、恢复真空时间。工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机)膜厚不均匀程度;功率;高电压。成都光纤镀膜空心阴极霍尔离子源制造生产真空镀膜机的培训资料。

【真空镀膜机之辅助抽气系统】真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。辅助抽气系统：排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三da部分组成。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。

【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源，在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量，从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气)，可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中，惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片，它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气，对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。一般情况下，其中的碳不能单独挥发．经化学清洗后，需要引入Ar或Ar+O2混合气体进行辉光放电清洗，使表面上的杂质和由于化学作用被束缚在表面上的气体得到qing除。成都真空镀膜机的生产厂家。

【真空镀膜机清洗工艺之氮气冲洗】氮气在材料表面吸附时，由于吸附能小，因而吸留表面时间极短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮气的这种性质冲洗真空系统，可以dada缩短系统的抽气时间。如真空镀膜机在放入da气之前，先用干燥氮气充入真空室冲刷一下再充入da气，则下一抽气循环的抽气时间可缩短近一半，其原因为氮分予的吸附能远比水气分子小，在真空下充入氮气后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占满了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽气时间缩短了。如果系统被扩散泵油喷溅污染了，还可以利用氮气冲洗法来清洗被污染的系统.一般是一边对系统进行烘烤加热，一边用氮气冲洗系统，可将油污染消除。真空镀膜机真空四个阶段。成都红外镀膜空心阴极霍尔离子源

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【不同类型镀膜机应用范围介绍】不同类型镀膜机的适用范围介绍1.磁控溅射镀膜设备：应用于信息存储领域，如磁信息存储、磁光信息存储等2.磁控溅射镀膜机：应用于防护涂层，如飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等3.磁控溅射镀Al膜生产线：应用于太阳能利用领域，如太阳能集热管、太阳能电池等4.AZO透明导电膜磁控溅射镀膜生产线：应用于信息显示领域，如液晶屏、等离子屏等5.触摸屏连续式镀膜生产线：应用于触摸屏领域，如手机、电脑、MP4等数码产品屏幕等。6.磁控中频多弧离子镀膜设备：应用于硬质涂层，如切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。7.PECVD磁控生产线：应用于集成电路制造，如薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。8.蒸发式真空镀膜设备：应用于在装饰饰品上，如手机壳、表壳、眼镜架、五金、小饰品等镀膜。9.低辐射玻璃镀膜生产线：应用于建筑玻璃方面，如阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。10.抗反射导电膜连续磁控溅射生产线：应用于电子产品领域，如液晶显示器、液晶电视、MP4、车载显示、手机显示、数码相机和掌上电脑等。陕西真空镀膜空心阴极霍尔离子源自主研发设计生产

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