光学薄膜射频离子源

【真空镀膜之材料表面处理】表面处理：是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。我们比较常用的表面处理方法是，机械打磨，化学处理，表面热处理，喷涂表面，表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面处理的工艺有：真空电镀、电镀工艺、阳极氧化、电解抛光、移印工艺、镀锌工艺、粉末喷涂、水转印、丝网印刷、电泳等。真空镀膜机抽真空步骤。光学薄膜射频离子源

【不同类型镀膜机应用范围介绍】不同类型镀膜机的适用范围介绍1.磁控溅射镀膜设备：应用于信息存储领域，如磁信息存储、磁光信息存储等2.磁控溅射镀膜机：应用于防护涂层，如飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等3.磁控溅射镀Al膜生产线：应用于太阳能利用领域，如太阳能集热管、太阳能电池等4.AZO透明导电膜磁控溅射镀膜生产线：应用于信息显示领域，如液晶屏、等离子屏等5.触摸屏连续式镀膜生产线：应用于触摸屏领域，如手机、电脑、MP4等数码产品屏幕等。6.磁控中频多弧离子镀膜设备：应用于硬质涂层，如切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。7.PECVD磁控生产线：应用于集成电路制造，如薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。8.蒸发式真空镀膜设备：应用于在装饰饰品上，如手机壳、表壳、眼镜架、五金、小饰品等镀膜。9.低辐射玻璃镀膜生产线：应用于建筑玻璃方面，如阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。10.抗反射导电膜连续磁控溅射生产线：应用于电子产品领域，如液晶显示器、液晶电视、MP4、车载显示、手机显示、数码相机和掌上电脑等。吉林真空镀膜射频离子源生产厂家真空镀膜机的培训资料。

【真空镀膜机有哪些污染源】真空镀膜机是由许多精密的零部件所组成的，这些零部件均经过许多机械加工流程而制作出来，如焊接、磨、车、刨、镗、铣等工序。正因为有了这些工作，导致设备零部件表面不可避免地会沾染一些加工带来的油脂、油垢、金属屑、焊剂、抛光膏、汗痕等污染物。这些污染物在真空条件下易挥发，从而对设备的极限真空造成影响。此外，这些机械加工带来的真空污染物在da气压环境中吸附da量的气体，而到了真空状态下，这些原先吸附的气体也会被再次释放出来，成为限制真空系统的极限真空的一da主要因素。1、真空规管的灯丝在高温条件下蒸发，将导致陶瓷绝缘子上形成一层薄膜，对其绝缘强度有一定的损坏，对其测量的准确性也有一定的影响；2、由于高温蒸发，会使真空中的电子qiang的灯丝附近表面形成一层金属膜；3、由于工件溅射，离子束刻蚀设备的内壁会被溅散物所污染；4、真空蒸发镀膜设备的内壁会被其蒸镀靶材材料污染；5、经常使用真空干燥系统，该系统会受蒸发出来的物质所污染；6、真空镀膜设备中的扩散泵油、机械泵油等更是一da主要污染来源，镀膜机长期工作后，设备内部可能会形成一层油膜。

【真空镀膜设备的正常工作条件】1、环境温度：10~30℃2、相对湿度：不da于70%3、冷却水进水温度：不高于25℃4、冷却水质：城市自来水或质量相当的水5、供电电压：380V，三相50Hz或220V，单相50Hz（由所用电器需要而定），电压波动范围342~399V或198V~231V，频率波动范围49~51Hz；6、设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。7、设备周围环境整洁、空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。此外，真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁卫生。地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染，可采用在泵的排气口上面装设排气管道（金属、橡胶管）的办法，将气体排出室外。真空镀膜机怎么保养？

【真空镀膜机清洗工艺之真空加热清洗】将工件放置于常压或真空中加热．促使其表面上的挥发杂质蒸发来达到清洗的目的，这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中保留时间的长短、加热温度、污染物的类型及工件材料有关。其原理是加热工件．促使其表面吸附的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸作用增强。解吸增强的程度与温度有关。在超高真空下，为了得到原子级清洁表面，加热温度必高于450度才行．加热清洗方法特别有效。但有时，这种处理方法也会产生副作用。由于加热的结果，可能发生某些碳氢化合物聚合成较da的团粒，并同时分解成碳渣。国产真空镀膜机哪家好？广西光学薄膜射频离子源生产厂家

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【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而提高离子密度，使得溅镀率提高(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳，是目前实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang（sputtergun）。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出光学薄膜射频离子源

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