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【真空镀膜机常见故障之旋片泵故障及处理方法】1、未做保养导致灰尘太多。真空镀膜设备在镀膜过程中容易产生da量灰尘，这些灰尘伴随空气容易混杂到泵油中，时间久了容易对转子及泵腔造成磨损及破坏。处理方法：如果灰尘不多，可以油过滤系统除掉灰尘；如果灰尘过多可以用除尘器配合油过滤系统除掉灰尘。2、旋片式真空泵冒烟和喷油：指旋片式真空泵在运转中排气口冒烟或者喷油，冒烟。处理方法：冒烟阐明泵的进气口外，包括管道、阀门、容器有修理的状况。3、喷油，阐明进气口外有da量的漏点，以至是进气口暴露da气。处理方法：封住泵的进气口使泵运转，假如不喷油的话，阐明有漏点；排气阀片损坏，检查排气阀片能否损坏，改换坏的排气阀片。4、被抽气体的温度可能过高。处理方法：降低被抽气体的温度，或能够加一个相应的换热器。5、配合的间隙改da。这是长期被抽气体内含有粉尘等，形成旋片和定子之间磨损后的间隙增da。处理方法：检查间隙能否过da，改换新的零部件。6、泵内的油路不通或者不畅，泵腔内没有坚持一定量的油量。处理方法：检查油路能否畅通，并加同类型的真空泵油。真空镀膜机机组是怎样的？四川AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源

【真空镀膜机之真空电镀】真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的仿金属表面层。适用材料：1、很多材料可以进行真空电镀，包括金属，软硬塑料，复合材料，陶瓷和玻璃。其中*常见用于电镀表面处理的是铝材，其次是银和铜。2、自然材料不适合进行真空电镀处理，因为自然材料本身的水分会影响真空环境。工艺成本：真空电镀过程中，工件需要喷涂，装载，卸载和再喷涂，所以人力成本相当高，但是也取决于工件的复杂度和数量。环境影响：真空电镀对环境污染很小，类似于喷涂对环境的影响。四川AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源真空镀膜机的操作视频。

【真空镀膜设备之真空的获得】：真空泵：真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲，真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分为两种类型，即气体捕集泵和气体传输泵。其广fan用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。从结构上可分几种：旋转叶片泵：油泵，极限真空可达10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，极限真空1Torr左右，抽速<10CFM往复式活塞泵：干泵，极限真空10&2Torr，抽速6~32CFM涡旋式真空泵：干泵，极限真空10&2Torr，抽速12~25CFM螺旋泵：干泵，极限真空10&3Torr，抽速30~318CFM

【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源，在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量，从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气)，可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中，惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片，它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气，对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。一般情况下，其中的碳不能单独挥发．经化学清洗后，需要引入Ar或Ar+O2混合气体进行辉光放电清洗，使表面上的杂质和由于化学作用被束缚在表面上的气体得到qing除。真空镀膜机厂家排名。

【真空镀膜之水转印】水转印是利用水压将转印纸上的彩色纹样印刷在三维产品表面的一种方式。随着人们对产品包装与表面装饰要求的提高，水转印的用途越来越广fan。适用材料：所有的硬材料都适合水转印，适合喷涂的材料也一定适用于水转印。常见的为注塑件和金属件。工艺成本:无模具费用，但需要利用夹具将多件产品同时进行水转印，时间成本一般每周期不会超过10分钟。环境影响:和产品喷涂比较而言，水转印更充分的应用了印刷涂料，减少了废料泄漏和材料浪费的可能。真空镀膜机的相关资料。福建光学薄膜空心阴极霍尔离子源

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【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。四川AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源

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