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空心阴极霍尔离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 空心阴极霍尔离子源
空心阴极霍尔离子源企业商机

【真空镀膜机的镀层与镀膜原理】A、原材料与基本原理:原材料都是树脂、聚合物、铁氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸盐等,辅料、配方与量度有所不同。例添加的乳化剂,不同的量相调和,乳化出来的状态就不一样,水状、乳状、膏状都可以实现。这些物质经乳化破乳后,部份渗透或形成薄膜。B、它们的特点和区别:镀层:渗透功能好(要视原材料颗粒da小),表面光滑度更优,对漆面较多“毛细孔”、粗糙、重喷过漆、漆面本身较硬需要增加光亮度的欧美车系漆面比较适用。镀膜:而镀膜产品添加了成膜助剂与固化剂,真空镀膜厂家使其瞬间成膜,性质相应的发生了改变。例如硬度比封釉更高,对需要提升漆面硬度的漆面(如日韩车系)比较适用。防护层的主要性能:①预防原车漆氧化与褪色:阻隔紫外线,较da限度减少紫外线的透射伤害。②增加漆面光亮度:晶莹透亮的玻璃分子使汽车漆面流光溢彩,光芒耀人。③提升漆面硬度:提升抗磨损、抗划痕性能。④防止化学性侵害,延长漆面寿命:如碱性洗车、酸雨盐雾、虫液树胶、高温严寒对车漆的伤害。⑤增加车表的光滑度:手感丝滑,减少静电、尘埃附着及风阻系数,使日常养护更便捷。国产真空镀膜机哪家好?贵州真空镀膜空心阴极霍尔离子源厂家

【真空镀膜机清洗工艺之氮气冲洗】氮气在材料表面吸附时,由于吸附能小,因而吸留表面时间极短.即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。利用氮气的这种性质冲洗真空系统,可以dada缩短系统的抽气时间。如真空镀膜机在放入da气之前,先用干燥氮气充入真空室冲刷一下再充入da气,则下一抽气循环的抽气时间可缩短近一半,其原因为氮分予的吸附能远比水气分子小,在真空下充入氮气后,氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的,先被氮分子占满了,其吸附的水分子就很少了,因而使抽气时间缩短了。如果系统被扩散泵油喷溅污染了,还可以利用氮气冲洗法来清洗被污染的系统.一般是一边对系统进行烘烤加热,一边用氮气冲洗系统,可将油污染消除。云南光纤镀膜空心阴极霍尔离子源怎么选真空镀膜机的生产厂家。

【真空镀膜机之辅助抽气系统】真空腔各部分有连接阀,用来连接各抽气泵浦。辅助抽气系统:排气系统为镀膜机真空系统的重要部分,主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三da部分组成。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。排气流程为:机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态,为扩散泵后继抽真空提供前提,之后当扩散泵抽真空腔的时候,机械泵又配合油扩散泵组成串联,以这样的方式完成抽气动作。

【真空镀膜机常见故障】:一、当正在镀膜室真空突然下降1.蒸发源水路胶圈损坏(更换胶圈)2.坩埚被打穿(更换坩埚)3.高压电极密封处被击穿(更换胶圈)4.工转动密封处胶圈损坏(更换胶圈)5.预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏(更换二位五通阀)6.高阀突然关闭可能是二位五通阀损坏(更换二位五通阀)7.机械泵停机可能是继电器断开(检查继电器是否工作正常)8.烘烤引入线电极密封处被击穿(更换胶圈)9.挡板动密封处胶圈损坏(更换胶圈)10.玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂(更换玻璃)二、长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、极限真空、保真空:1.蒸发室有很多粉尘(应清洗)2.扩散泵很久未换油(应清洗换油)3.前级泵反压强da太机械泵真空度太低(应清洗换油)4.各动密封胶圈损坏(更换胶圈)5.由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶圈老化(更换胶圈)6.蒸发室各引入水路密封处是否有胶圈损坏(更换胶圈)7.各引入座螺钉、螺母有无松动现象(重新压紧)8.高低预阀是否密封可靠(注油)离子真空镀膜机是什么?

【真空镀膜机之卷绕机构设计中应考虑的问题】①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度,它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min,在国外日本的EW系列产品中,其卷绕速度已达到300m/min,德国L.H公司生产的镀膜机已达到600m/min,可见随着镀膜技术的发展,卷绕速度有待提高。②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要,因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定,才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜(如电容器膜)尤为重要。③带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高,带状基材在卷绕镀膜过程中,起褶和发生偏斜,严重时会造成基材的断裂,使生产中断,既影响生产效率,又浪费材料。因此,在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。真空镀膜机故障解决方法?贵州光纤镀膜空心阴极霍尔离子源制造生产

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【真空镀膜技术专业词汇】真空镀膜vacuumcoating:在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。基片substrate:膜层承受体。试验基片testingsubstrate:在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。镀膜材料coatingmaterial:用来制取膜层的原材料。蒸发材料evaporationmaterial:在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。溅射材料sputteringmaterial:有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。膜层材料(膜层材质)filmmaterial:组成膜层的材料。蒸发速率evaporationrate:在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔溅射速率sputteringrate:在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。沉积速率depositionrate:在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。镀膜角度coatingangle:入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。贵州真空镀膜空心阴极霍尔离子源厂家

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