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【真空镀膜机之卷绕机构设计中应考虑的问题】①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度，它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min，现在也只有80m/min～120m/min，在国外日本的EW系列产品中，其卷绕速度已达到300m/min，德国L．H公司生产的镀膜机已达到600m/min，可见随着镀膜技术的发展，卷绕速度有待提高。②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要，因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定，才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜（如电容器膜）尤为重要。③带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高，带状基材在卷绕镀膜过程中，起褶和发生偏斜，严重时会造成基材的断裂，使生产中断，既影响生产效率，又浪费材料。因此，在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。真空镀膜机的操作视频。安徽空心阴极霍尔离子源批发价格

【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件，为了获得原子态的清洁表面，消除其表面污染的标准方法是化学清洗，真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后)，由于真空系统内的各种零部件已经被固定，这时对它们进行除气处理就很困难，一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染)，通常要拆卸后重新处理再安装．而用反应气体工艺，可以进行原位在线除气处理．有效地除去不锈钢真空室内的碳氢化合物的污染.其清洗机理：在系统中引述氧化性气体(O2、N0)和还原性气体(H2、NH3)对金属表面进行化学反应清洗，消除污染，以便获得原子态的清洁金属表面。表面氧化／还原的速率取决于污染的情况及金属表面的材质，表面反应速率的da小通过调整反应气体的压力和温度来控制。对于每一种基材而言，精确的参数要通过实验来确定.对于不同的结晶取向，这些参数是不同的。湖南玻璃镀膜空心阴极霍尔离子源制造生产厂家真空镀膜机品牌排行。

【真空镀膜设备的维修及保养方法】1.真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上，应清洁工作室一次。方法：用烧碱（NaOH）饱和溶液反复擦洗真空室内壁，（注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液，以免灼伤）目的是使镀上去的膜料铝（AL）与NaOH发生反应，反应后膜层脱落，并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。2.当粗抽泵（滑阀泵，旋片泵）连续工作一个月（雨季减半），需更换新油。方法：拧开放油螺栓，放掉旧油，再将泵启动数秒，使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓，加入新油至额定量（油视镜观察）。连续使用半年以上，换油时应将油盖打开，用布擦干净箱内污垢。3.在重新开机前，要注意检漏。方法：启动维持泵，关好da门，数分钟后，观察扩散泵部分真空度是否达到6X10帕，否则要进行检漏。检查联接处是否装密封胶圈，或压坏密封圈。排除漏气隐患后方可加热，否则扩散泵油会烧环，真空镀膜设备无法进入工作状态。

【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则：(1)先功能，后结构。先给出指标参数、生产要求、功能；(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整体。再由整体，定局部。(4)先设计，后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标：镀膜方法：CVD，PVD（蒸发、溅射、离子镀、复合镀）；被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。技术参数;设备极限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作气氛;漏率、抽空时间、恢复真空时间。工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机)膜厚不均匀程度;功率;高电压。真空镀膜机怎么保养？

【真空镀膜机之辅助抽气系统】真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。辅助抽气系统：排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三da部分组成。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。真空镀膜机机组是怎样的？安徽AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源生产厂家

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【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。安徽空心阴极霍尔离子源批发价格

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