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射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

【真空镀膜机电控柜的操作】1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源2、开总电源3、开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。4、开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。5、观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子qiang电源。光学真空镀膜机制造商。河北离子束辅助沉积射频离子源

【真空镀膜机有哪些污染源】真空镀膜机是由许多精密的零部件所组成的,这些零部件均经过许多机械加工流程而制作出来,如焊接、磨、车、刨、镗、铣等工序。正因为有了这些工作,导致设备零部件表面不可避免地会沾染一些加工带来的油脂、油垢、金属屑、焊剂、抛光膏、汗痕等污染物。这些污染物在真空条件下易挥发,从而对设备的极限真空造成影响。此外,这些机械加工带来的真空污染物在da气压环境中吸附da量的气体,而到了真空状态下,这些原先吸附的气体也会被再次释放出来,成为限制真空系统的极限真空的一da主要因素。1、真空规管的灯丝在高温条件下蒸发,将导致陶瓷绝缘子上形成一层薄膜,对其绝缘强度有一定的损坏,对其测量的准确性也有一定的影响;2、由于高温蒸发,会使真空中的电子qiang的灯丝附近表面形成一层金属膜;3、由于工件溅射,离子束刻蚀设备的内壁会被溅散物所污染;4、真空蒸发镀膜设备的内壁会被其蒸镀靶材材料污染;5、经常使用真空干燥系统,该系统会受蒸发出来的物质所污染;6、真空镀膜设备中的扩散泵油、机械泵油等更是一da主要污染来源,镀膜机长期工作后,设备内部可能会形成一层油膜。湖南离子束辅助沉积射频离子源生产厂家真空镀膜机故障解决方法?

【真空镀膜的膜层结构分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等树脂类均可成型真空电镀,要求底材为纯原料,电镀级别更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,对基材表面做预处理,为膜层的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情况可酌情加厚;膜层:靶材蒸发的结果,VM膜层可导电,NCVM镀层不导电,且抗干扰性效果很好,膜层厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色,同時对真空膜层起保护作用,再加上UV、PU的表面装饰,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(VM)和不导电真空镀膜(NCVM)两种。VM:一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相媲美,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM:具有金属质感、透明,但不导电,一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。真空镀膜机的主要用途?

【真空镀膜机常见故障】:一、当正在镀膜室真空突然下降1.蒸发源水路胶圈损坏(更换胶圈)2.坩埚被打穿(更换坩埚)3.高压电极密封处被击穿(更换胶圈)4.工转动密封处胶圈损坏(更换胶圈)5.预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏(更换二位五通阀)6.高阀突然关闭可能是二位五通阀损坏(更换二位五通阀)7.机械泵停机可能是继电器断开(检查继电器是否工作正常)8.烘烤引入线电极密封处被击穿(更换胶圈)9.挡板动密封处胶圈损坏(更换胶圈)10.玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂(更换玻璃)二、长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、极限真空、保真空:1.蒸发室有很多粉尘(应清洗)2.扩散泵很久未换油(应清洗换油)3.前级泵反压强da太机械泵真空度太低(应清洗换油)4.各动密封胶圈损坏(更换胶圈)5.由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶圈老化(更换胶圈)6.蒸发室各引入水路密封处是否有胶圈损坏(更换胶圈)7.各引入座螺钉、螺母有无松动现象(重新压紧)8.高低预阀是否密封可靠(注油)真空镀膜机怎么保养?河北离子束辅助沉积射频离子源

真空镀膜机常见故障及解决方法。河北离子束辅助沉积射频离子源

【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件,为了获得原子态的清洁表面,消除其表面污染的标准方法是化学清洗,真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后),由于真空系统内的各种零部件已经被固定,这时对它们进行除气处理就很困难,一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染),通常要拆卸后重新处理再安装.而用反应气体工艺,可以进行原位在线除气处理.有效地除去不锈钢真空室内的碳氢化合物的污染.其清洗机理:在系统中引述氧化性气体(O2、N0)和还原性气体(H2、NH3)对金属表面进行化学反应清洗,消除污染,以便获得原子态的清洁金属表面。表面氧化/还原的速率取决于污染的情况及金属表面的材质,表面反应速率的da小通过调整反应气体的压力和温度来控制。对于每一种基材而言,精确的参数要通过实验来确定.对于不同的结晶取向,这些参数是不同的。河北离子束辅助沉积射频离子源

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